「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The patterned perpendicular magnetic recording medium that has spaced-apart pillars 230 with the magnetic material on their ends and the nonmagnetic trenches 232 between the pillars 230 is made with a method that allows use of a pre-etched substrate 212.例文帳に追加

磁性材料をそれらの端部２３１上に有する離間した柱２３０を有し、柱２３０の間に非磁性のトレンチ２３２を備えたタイプのパターン化垂直磁気記録媒体が、プリエッチングされた基板２１２の使用を可能にする方法を用いて作成される。 - 特許庁

A polisilicon film 7 and an insulating film 8 are patterned on a semiconductor substrate 1 including an element isolation region 2, and then lower electrodes 11a and 11b of the polisilicon film 7 and a dummy pattern 12 between the lower electrodes 11a and 11b are formed.例文帳に追加

素子分離領域２を含む半導体基板１上に多結晶シリコン膜７と絶縁膜８を形成してパターニングし、多結晶シリコン膜７かならる下部電極１１ａ，１１ｂおよび下部電極１１ａ，１１ｂ間のダミーパターン１２を形成する。 - 特許庁

An article is used which is formed in a prescribed shape of partitions by applying a material for the partitions on the full surface of the substrate, subsequently leaving only patterned parts to be the partitions thereon by using a photoresist film and further sandblasting the resulting matter as the partitions located between the substrates placed opposite to each other.例文帳に追加

対向する基板間に位置する隔壁に、基板上に隔壁材料を全面塗布した後、その上にフォトレジストフィルムを用いて隔壁となるパターン部分のみを残し、更にサンドブラストにより所定の隔壁形状に形成されたものを用いる。 - 特許庁

To eliminate a complication of preparing a patterning substrate when conventionally different species of cells coexisting in vivo tissue are cocultured, a culture in which cells are in a patterned state is examined so as to develop a cell function closer to that of organism.例文帳に追加

従来、生体組織において共存する異種の細胞を共培養する場合、より生体に近い細胞の機能を発現させるために細胞をパターニングした状態での培養が検討されているが、そのパターニング基材の作製の煩雑さを解消することにある。 - 特許庁

Black matrix (BM) material is deposited on a glass substrate 111 and patterned to form a plurality of wells 130, and hydrophobic layers 140 is formed on the top surfaces 125 of walls 120 that define an array of the wells 130 to form a BM glass 110.例文帳に追加

ガラス基板１１１上にＢＭ（ブラックマトリクス）層を形成し、更に複数個のウェル１３０が形成されるようその層をパターニングし、ウェル１３０間を仕切る壁１２０の頂面１２５上に疎水層１４０を形成することにより、ＢＭガラス１１０を形成する。 - 特許庁

A metal catalyst is provided on a substrate by patterning, using a carbon compound as a carbon source in a reaction atmosphere, from the metal catalyst, a plurality of single-walled carbon nanotubes are formed, so as to produce a single-walled carbon nanotube bulk structure which has been patterned.例文帳に追加

金属触媒を基板上にパターニングして設け、前記金属触媒から反応雰囲気ガス中で炭素源として炭素化合物を用いて、複数本の単層カーボンナノチューブを生成することにより、パターニングされた単層カーボンナノチューブ・バルク構造体を製造する。 - 特許庁

A thermally crosslinked positive photosensitive material layer (first positive photosensitive material layer) and a second positive photosensitive material layer are formed on a substrate and then the second positive photosensitive material layer is patterned followed by patterning of the first positive photosensitive material layer.例文帳に追加

基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層（第１のポジ型感光材料層）と第２のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第２のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第１のポジ型感光性材料層にパターンを形成する。 - 特許庁

A multilayer reflective film 2 and an absorber film 4 are formed on the mask blanking substrate 1 to make the reflective mask blank 10, and the absorber film 4 in the reflective mask blank 10 is patterned to form an absorber pattern to make the reflective mask 20.例文帳に追加

このマスクブランク用基板１上に多層反射膜２及び吸収体膜４を形成して反射型マスクブランク１０とし、この反射型マスクブランク１０における吸収体膜４をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク２０とする。 - 特許庁

At least an electrode, a dielectric body and a rib forming material patterned to a predetermined shape are provided on a glass substrate, and an exhaust hole is formed after baking the rib forming material in a manufacturing method, and the exhaust hole is formed by a method using a drill, or a method using laser.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板上に少なくとも電極、誘電体および所定形状にパタ−ン化したリブ形成材料を設け、リブ形成材料の焼成後に、排気孔を開ける製造方法で、ドリルによる方法とレ−ザによる方法が用いられる。 - 特許庁

A mask 11 having an aperture part patterned equally to a pattern of a hole transport layer is arranged on a substrate 1 upper face, and from the upper face of the mask 11, a solution or a dispersion liquid of a material constituting the hole transport layer is sprayed and dried up for forming the hole transport layer.例文帳に追加

正孔輸送層のパターンと同一パターンの開口部を有するマスク１１を基板１上面に配置し、マスク１１上面より正孔輸送層を構成する材料の溶液または分散液を噴霧し、乾燥して前記正孔輸送層を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices related to the present invention has processes of: forming a conductive membrane on a semiconductor substrate; forming a sacrificial membrane on the conductive membrane; patterning the sacrificial membrane; forming a side wall on the side of the patterned sacrificial membrane; removing the patterned sacrificial membrane; and patterning the conductive membrane by using the side wall as a mask and form wiring.例文帳に追加

半導体基板上に導電性膜を形成する工程と、前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、前記犠牲膜をパターニングする工程と、パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程とを有する方法により、半導体装置を製造する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the patterned medium including a substrate, the porous layer formed on the substrate and having a plurality of fine pores approximately vertical to the substrate surface, and the magnetic substance filled in the fine pores by the sputtering method, ion radiation is carried out with respect to the vicinity of the fine pores when filling the fine pores with the magnetic substance by the sputtering method to promote migration of sputter atoms.例文帳に追加

基板と、前記基板上にあり、前記基板面に対して略垂直な複数の細孔を有する多孔質層と、前記細孔内にスパッタ法により充填された磁性体と、を有するパターンドメディアを製造する方法であって、前記磁性体をスパッタ法により細孔に充填する際に、前記細孔近傍に対してイオン照射を行い、スパッタ原子のマイグレーションを促進させることを特徴とするパターンドメディア製造方法。 - 特許庁

On an insulative flexible substrate, the wiring part body 42a electrically connected to an inspection circuit for inspecting a circuit to be inspected and a plurality of wiring parts 42 containing an area enlarging part 42b formed in a patterned indented shape on one part of the surface of the wiring part body 42a are disposed with a distance.例文帳に追加

絶縁性を有するフレキシブル基板上に、被検査回路を検査する検査回路と電気的に接続する配線部本体42a、および、配線部本体42aの表面の一部に凹凸状に形成した面積拡大部42bを備えた複数の配線部42を、互いに離間して配設する。 - 特許庁

To provide a thin film solar cell, and its fabricating method, in which the transparent electrode layer in a solar cell formed on one side of a substrate can be patterned without causing any damage on a thin film semiconductor layer and surface efficiency of the solar cell is enhanced while reducing the cost of fabrication process.例文帳に追加

基板片面形成型太陽電池における透明電極層のレーザパターニングを薄膜半導体層の損傷なしに可能とし、太陽電池の面積効率の向上および製造プロセスの低コスト化を図った薄膜太陽電池とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The display element for displaying a prescribed shape is composed of an organic electroluminescence element provided with an element main part in which a transparent anode 2, a light-emitting layer 4, and a cathode 6 patterned into the same shape as the prescribed shape are laminated on a transparent insulating substrate 1 in this order.例文帳に追加

所定形状を表示する表示素子であって、透明絶縁基板上に、透明陽極と、発光層と、該所定形状と同じ形状にパターニングされた陰極とがこの順序で積層された素子主要部を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする表示素子。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition useful for forming a patterned resin film which has high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, and excellent adhesiveness with a substrate and which is obtained by developing with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The conductive films 15 and 16 of respectively different materials are buried through gate insulation films 10 and 11 in recessed parts formed between a plurality of trench insulation films 5 provided so as to be projected from the surface of a semiconductor substrate 1, they are patterned and a gate electrode 9a is formed.例文帳に追加

半導体基板１表面から突出するように設けられた複数のトレンチ絶縁膜５間に形成される凹部に、ゲート絶縁膜１０，１１を介して、それぞれ材質の異なる導電性膜１５，１６を埋め込み、これらをパターニングしてゲート電極９ａを形成する。 - 特許庁

To make it possible to mass-produce a high-accuracy and high-density microscopic patterned film at low cost and with good reliability using a master substrate, which is excellent in durability and can be prolonged in life thereof.例文帳に追加

耐久性に優れ、長寿命化が可能なマスター基板を用いた高精細で高密度な微細パターン膜を安価に信頼性良く量産できる微細パターンの製造方法及びそれを用いて製造された高精細で高密度なプリント配線板やカラーフィルタの提供を目的とする。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes the radiation source for generating the radiation, an illuminating system for adjusting the radiation, a patterning device for patterning the adjusted radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation onto a target section of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

The drawing schematically illustrates the obtained fine particle arrangement apparatus in which the fine particles 4 are orderly arranged in a patterned region of the film 3 formed by the sol-gel method on the substrate 1 bearing the underlayer 2 whose surface wettability is changed by ultraviolet ray irradiation.例文帳に追加

得られた微粒子配列装置を模式的に示したもので、紫外線の照射によって表面の濡れ性が変化する下地層２が設けられた基材１上に、ゾルゲル法によって形成された膜３でパターニングされた領域に微粒子４が規則正しく配列されている。 - 特許庁

In this manufacturing method, an aqueous solution containing ammonia ions, copper ions and chlorine ions is used for etching liquid at formation of a photoresist layer 16 patterned on the surface of a substrate, where a polyimide layer 14 and a copper layer 13 are formed in the order on a steel plate 11 and etching the copper foil layer 13.例文帳に追加

鋼板１１上に、ポリイミド層１４と銅箔層１３とがこの順序で形成された基板表面にパターニングされたフォトレジスト層１６を形成し、銅箔層１３をエッチング処理する際、エッチング液に、アンモニアイオンと、銅イオンと、塩素イオンとを含有する水溶液を用いる。 - 特許庁

To provide a new method for preparing a cell culture substrate having cells in a highly fine patterned form and used for culturing the cells while maintaining the pattern for a long period, and an apparatus used for the preparing method.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、長期にわたりパターンを維持しながら細胞を培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法、およびその製造方法に用いられる製造装置を提供することを主目的としている。 - 特許庁

A lower electrode film 31', a ferroelectric film 33', and an upper electrode film are successively formed on an interlayer insulating film 20 provided on a silicon substrate 10, and the upper electrode film is patterned into a specified shape, to form an upper electrode 35 for a ferroelectric capacitor 50.例文帳に追加

シリコン基板１０上に形成された層間絶縁膜２０上に下部電極膜３１´と強誘電体膜３３´と上部電極膜とを順次形成し、この上部電極膜を所定形状にパターニングして強誘電体キャパシタ５０の上部電極３５を形成する。 - 特許庁

After an organic resin film is formed so as to come into contact with a substrate 1 having translucence, the organic resin film is patterned to be in a predetermined profile, and an inorganic insulation film 3 is formed so as to coat the organic resin film 2, and an amorphous semiconductor film 4 is formed so as to come into contact with the inorganic insulation film.例文帳に追加

透光性を有する基板１上に接して有機樹脂膜を形成した後、前記有機樹脂膜を所定の形状にパターニングし、前記有機樹脂膜２を覆う無機絶縁膜３を形成し、前記無機絶縁膜に接して非晶質半導体膜４を形成する。 - 特許庁

A poly-silicon film 4 is formed on the entire face of a surface region of a silicon semiconductor substrate 1, and this poly-silicon film 4 is patterned so that a line width of a poly-silicon film 4' in a field oxide film 2 is made larger than a line width of the poly-silicon film 4 in an element forming region.例文帳に追加

シリコン半導体基板１の表面領域の全面にポリシリコン膜４を形成し、このポリシリコン膜４をパターニングして、フィールド酸化膜２におけるポリシリコン膜４'の線幅が素子形成領域におけるポリシリコン膜４の線幅よりも大きくなるようにする。 - 特許庁

A layer (low-reflection layer) 3a with optical reflectivity lower than that of bus lines 4a, which is patterned in the same shape as the bus lines 4a, is provided so as to cover the bus lines 4a in a buffer film 3 formed between a viewing side glass substrate 2 and an insulating film 4 where the bus lines 4a are disposed.例文帳に追加

視認側のガラス基板２とバスライン４ａを設けた絶縁膜４との間に形成したバッファ膜３に、バスライン４ａと同形状にパターニングされた、バスライン４ａよりも光反射率が低い層（低反射層）３ａを、バスライン４ａを覆うように設けている。 - 特許庁

Thus, in the nano-carbon material composite substrate, since the nano-carbon material is generated and patterned only in the catalyst layer exposed through the opening to dispose the nano-carbon material in it, an electric field is liable to concentrate and it is expected to exhibit excellent electron emission characteristics.例文帳に追加

このため、本発明のナノ炭素材料複合基板は、開口部により露出された触媒層にのみナノ炭素材料が生成されており、パターニングされてナノ炭素材料が配置されることから、電界が集中しやすく、優れた電子放出特性が発揮されることが期待できる。 - 特許庁

The film is patterned in such a way that taper length at an end of the CrSi film 3 with which a laser beam is to be irradiated becomes length in which laser trimming is realized with the laser energy value lower than that by which the insulating film and the semiconductor substrate are cracked in later laser trimming.例文帳に追加

このとき、後に行うレーザートリミングにて、レーザー光が照射される予定のＣｒＳｉ膜３の端部におけるテーパー長が、絶縁膜や半導体基板に亀裂が入るレーザーエネルギー値よりも低いレーザーエネルギー値にてレーザートリミングを行うことができる長さとなるようにパターニングする。 - 特許庁

Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern.例文帳に追加

第２ＨＣＤ−ＳｉＮ膜９からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜（第３ＴｉＮ膜１３）を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム（構造体パターン）１３ａを形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing a patterned body is provided, which includes: a preparation step of preparing a substrate 10, having a photoresist layer 20 that allows a shape change in a heat mode on the surface; and an exposure step of irradiating the photoresist layer 20, with a laser beam to partially remove the photoresist layer 20.例文帳に追加

表面にヒートモードによる形状変化が可能なフォトレジスト層２０を有する基板１０を用意する準備工程と、フォトレジスト層２０にレーザ光を照射してフォトレジスト層２０の一部を除去する露光工程と、を有するパターン形成体の製造方法である。 - 特許庁

The high conductivity printed wiring board 1, having a hollow conductor structure, at least includes a copper foil pattern 4 that is patterned on the outer surface of an insulating substrate 2, a conductor coat 9 which covers the copper foil pattern 4, and a foam hollow layer 7 formed between the copper foil pattern 4 and the conductor coat 9.例文帳に追加

この高伝導化プリント基板１は、中空導体構造よりなり、絶縁基材２の外表面にパターニングされた銅箔パターン４と、銅箔パターン４を被覆する導体被膜９と、銅箔パターン４と導体被膜９間に形成された発泡中空層７とを、少なくとも有している。 - 特許庁

A different refractive index film is layered by (a) depositing an energy-sensitive insulating film on a substrate, (b) depositing a film having a 1st refractive index which is patterned by irradiation with patterning energy, and (c) depositing a film having a 2nd refractive index on the film having the 1st refractive index.例文帳に追加

（ａ）基板上にエネルギー感受性の絶縁膜を形成し；（ｂ）パターン化エネルギーの照射により、パターン化された第１の屈折率を有する膜を形成し；（ｃ）該第１の屈折率を有する膜上に、第２の屈折率を有する膜を形成することにより、異なる屈折率膜を積層する。 - 特許庁

After a process in which matrix light-shielding layers, containing an ink repellant material, are formed on a transparent substrate, and a process in which an image-receiving layer is formed between the matrix light-shielding layers, a patterned coloring layer is formed on the image-receiving layer by the inkjet method.例文帳に追加

透明基板上に、撥インク性物質を含むマトリックス状遮光層を形成する工程後、前記マトリックス状遮光層の間に受像層を形成する工程を経て、前記受像層の上にインクジェット法によりパターン状着色層を形成することにより解決した。 - 特許庁

A gate electrode 105 is made on a substrate 101 and is covered with a spacer 107 and a thermal oxide film 109, and then a first interlayer insulating film 114 is made and flattened, and this is patterned and etched and it is filled with a embedding landing pad 117 of polysilicon thereby being flattened.例文帳に追加

基板１０１上にゲート電極１０５を形成してスペーサ１０７、熱酸化膜１０９で覆いこの後に第１層間絶縁膜１１４を形成して平坦化し、これをパターニングしてエッチングし、ポリシリコンの埋め込みランデングパット１１７を充填して平坦化する。 - 特許庁

The invention relates to the patterned magnetic recording medium including a plurality of magnetic recording layers arranged at predetermined regular intervals on a substrate, wherein the magnetic recording layer is a multi-layer and includes a means of suppressing magnetic interaction between the magnetic recording layers.例文帳に追加

基板上に所定間隔をおいて配列された複数の磁気記録層を備えるパターン化された磁気記録媒体であって、磁気記録層は、多層であり、かつ磁気記録層の間の磁気的相互作用を抑制する手段を備えることを特徴とするパターン化された磁気記録媒体である。 - 特許庁

A gate line 121 is formed on an insulating substrate 110, on which a gate insulating film 140, semiconductor layer 150, and resistive contact layer are sequentially stacked, and then when the data line and a drain electrode 175 are formed, an electrode layer is patterned together with the resistive contact layer.例文帳に追加

絶縁基板１１０の上にゲート線１２１を形成し、その上部にゲート絶縁膜１４０と半導体層１５０と抵抗性接触層を順次に積層し、次に、データ線とドレーン電極１７５を形成する際に、電極層を抵抗性接触層と一括してパターン形成する。 - 特許庁

Selection wiring 89 and feed wiring 90 are stacked on patterned scan lines X and supply lines Z, together with drains/sources of transistors 21 to 23, and the selection wiring 89 and the feed wiring 90 are provided projectingly from the surface of the transistor array substrate.例文帳に追加

トランジスタ２１〜２３のドレイン・ソースとともにパターニングされた走査線Ｘ及び供給線Ｚには選択配線８９及び給電配線９０がそれぞれ積層され、選択配線８９及び給電配線９０がトランジスタアレイ基板５０の表面から凸設されている。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes a radiation source for generating radiation, an illumination system for controlling radiation, a pattern applying device for applying a pattern to the controlled radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation to a target portion of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

A third thin film 14 of semiconductor or insulator formed on a semiconductor substrate 11 through the intermediary of a first insulating thin film 12 and, a second oxidation-resistant insulating film 13 where oxidizing seeds are hardly diffused is patterned for the formation of a stepped part 14a.例文帳に追加

半導体基板１１上に、絶縁体からなる第１薄膜１２と酸化種の拡散性が低い耐酸化性絶縁体からなる第２薄膜１３を介して形成された半導体または絶縁体からなる第３薄膜１４をパターニングし、段差部１４aを形成する。 - 特許庁

The pattern formed body includes a photocatalyst containing layer on a substrate, a patterned metal layer which can have a metal oxide coating, above the photocatalyst containing layer, and a water-repellent thin film layer formed above the metal layer.例文帳に追加

本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。 - 特許庁

A fluorescent screen comprises at least a red phosphor layer and a green phosphor layer patterned on a transparent substrate, the phosphor layers include light diffusing material particles, and the average transmittance of light incident upon the fluorescent screen in a wavelength of 400-460 nm is equal to or less than 10%.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも赤色蛍光体層及び緑色蛍光体層がパターニングされてなり、該蛍光体層は光拡散材粒子を含み、該蛍光スクリーンに入射した光の波長４００〜４６０ｎｍにおける平均透過率が１０％以下である蛍光スクリーン。 - 特許庁

This is a method for manufacturing a patterned color filter by arranging a photosensitive coloring resist layer on a substrate 4 on which a lot of rectangular chip patterns P(1-6) are formed lengthwise and widthwise, and exposure-treating this photosensitive coloring resist layer with a reduction stepper.例文帳に追加

矩形状のチップパターンＰを縦横に多数配列形成してなる基板４上に感光性着色レジスト層を設け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露光処理することによってパターニングされてなるカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加

残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁

On a TFT array substrate 9 where the switching active element 5 and a switching active element protection film 7 are formed, a color filter film 11 is formed and then a contact part 6 is formed by processing the color filter film 11 and switching active element protection film 7 at the same time by dry etching using patterned etching resist 10.例文帳に追加

スイッチング能動素子５とスイッチング能動素子保護膜７が形成されたＴＦＴアレイ基板９上に、カラーフィルタ膜１１を形成した後、パターニングされたエッチングレジスト１０を用いて、カラーフィルタ膜１１とスイッチング能動素子保護膜７を同時にドライエッチングしコンタクト部位６を形成する。 - 特許庁

A plurality of switch circuits 19 for turning on/off ultrasonic signals exchanged with a plurality of ultrasonic vibrators 17 formed by using a semiconductor substrate 21 are formed on the semiconductor substrate 21 on which the ultrasonic vibrators 17 are formed, and connection wiring between the switch circuits 19 and the ultrasonic vibrators 17b are patterned by semiconductor production technology.例文帳に追加

半導体基板２１を用いて形成された複数の超音波振動子１７との間で送受する超音波信号をオン・オフする複数のスイッチ回路１９を、超音波振動子１７が形成された半導体基板２１上に形成し、スイッチ回路１９と超音波振動子１７の接続配線を半導体製造技術によってパターン形成することを特徴とする。 - 特許庁