「patterned substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element includes at least a step (a) of forming a patterned resistance layer 2 on an insulating substrate 1, and a step (b) of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element by forming a wiring pattern 3 which is brought into contact with the resistance layer 2 on the insulating substrate 1.例文帳に追加

抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法において、少なくとも（ａ）絶縁性基板１上にパターニングされた抵抗層２を形成する工程、（ｂ）前記絶縁性基板上に前記抵抗層に接する配線パターン３を形成し、抵抗素子内蔵プリント配線板を作製する工程、を含むことを特徴とする抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

In forming a thin film comprising catalyst metal particles on the surface of a substrate and growing carbon nanotubes on the thin film by chemical vapor deposition by using the catalyst particles on the thin film as nuclei, a specifically patterned chromium layer that prevents carbon nanotube growth is interposed between the substrate and the thin film to allow the carbon nanotubes to grow on only an area where no thin film chromium layer is present.例文帳に追加

基板表面に触媒金属粒子からなる薄膜を形成し、該薄膜の触媒粒子を核として薄膜上に化学蒸着法によりカーボンナノチューブを成長させるに当たり、基板と上記薄膜の間に、カーボンナノチューブの成長を阻止するクロム層を所要パターンで介在させることにより、薄膜のクロム層非介在部のみにカーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁

The illumination system 10 may further include a light-scattering substrate optically coupled between the plurality of light sources 25 and the light valves 11, and a plurality of light modulating dots 32 patterned on the substrate 12 to modulate transmitted intensity of light from the plurality of light sources 25 to achieve increased luminance uniformity by decreasing banding caused by the separated light sources.例文帳に追加

照明システム１０は更に、複数の光源２５と光弁１１との間に光学的に結合された光散乱基板１２と、基板１２上にパターン形成されていて、複数の光源２５からの光の透過強度を調節して、相隔たる光源によって生じる横縞を低減することにより輝度の均一性を向上させる複数の光調節ドット３２とを含むことができる。 - 特許庁

The organic EL display device is provided with a substrate, a first electrode formed on the substrate, one or more organic layers at least involved in luminescent function, and a second electrode formed on the organic layer, and it is so structured in the manufacturing method that at least one of the above layers is formed by a method of application and patterned by a lift-off method.例文帳に追加

基板と、この基板上に形成された第１の電極と、少なくとも発光機能に関与する１種類以上の有機層と、この有機層上に形成された第２の電極とを有し、前記有機層の少なくとも１層が塗布法により形成され、かつリフトオフ法によりパターニングされている構成の有機ＥＬ表示装置および製造方法とした。 - 特許庁

A transparent common electrode 210 is provided on a facing surface of the substrate 200 and a base layer 303, a reflection pattern 312 consisting of silver in the form of simple substance or the silver alloy containing silver and a transparent conductive film 314 laminated thereon and patterned so that its edge part comes in contact with the base film 303 are provided on the facing surface of the substrate 300.例文帳に追加

このうち、基板２００の対向面には、透明なコモン電極２１０が設けられる一方、基板３００の対向面には、下地膜３０３と、銀単体または銀を含む銀合金からなる反射パターン３１２と、これに積層されるとともに、当該エッジ部分が下地膜３０３と接するようにパターニングされた透明導電膜３１４が設けられている。 - 特許庁

Since a patterned light blocking film 102 is formed on the rear side of a substrate 101 and used as a photomask for forming a pattern of the gate electrode 103 and a pattern of the source and drain electrodes 108 on the front side of the substrate, the number of photomasks is reduced, and self-alignment between the gate electrode and the source and drain electrodes is carried out, thereby improving the alignment accuracy of these electrodes.例文帳に追加

パターニングされた遮光膜１０２を基板１０１裏面側に形成し、基板表面側に形成されるゲート電極１０３およびソース・ドレイン電極１０８のパターン形成用のフォトマスクとして共用することにより、フォトマスク数が低減されると共に、ゲート電極とソース・ドレイン電極の位置合わせが自己整合的に行われるため互いの合わせ精度が向上する。 - 特許庁

The thermoelectric element comprises a first substrate applied with an electrode, a second substrate, and columnar P type and N type thermoelectric materials electrically bonded alternately wherein the electrode patterned on the substrate has a recess.例文帳に追加

本発明では電極が施されている第1の基板と、第2の基板と、これらに挟まれるように、電気的に交互に接合された柱状のP型熱電材料及びN型熱電材料と、から構成されている熱電素子において、基板にパターンニングされた電極が凹部を有していることによって、熱電材料を所定の位置に正確かつ容易に位置あわせできるだけでなく、設置後接合前の段階における振動、衝撃によってずれを生じてしまう不安定な状態を解消することができる。 - 特許庁

This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加

基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

The color filter comprises: a substrate for color filter which has at least base material and a colored layer formed in a patterned shape and plurally on the base material; and the spacer part which is formed on the substrate for color filter and contains beads and binder, wherein the spacer part is made to be in such a shape that the beads are coated with the binder.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材、および前記基材上にパターン状に、複数形成された着色層を少なくとも有するカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板上に形成され、ビーズおよびバインダを含有するスペーサ部とを有するカラーフィルタであって、 前記スペーサ部は、前記ビーズが前記バインダにより覆われた形状とされていることを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

More specifically, a protective film 13 made of a thin film which is equal to or larger than 10 μm is formed on a semiconductor substrate 11, the protective film 13 is patterned, to expose the semiconductor substrate 11 that is equal to or less than a minute region 12a to be measured, and ion beams 24 are applied to the exposed fine region for analyzing the minute regions.例文帳に追加

具体的には、半導体基板１１上に、１０μｍ以上の薄膜からなる保護膜１３を形成し、この保護膜１３をパターニングして、測定する微小領域１２ａと同等若しくはその微小領域以下の大きさの、前記半導体基板１１を露出し、この露出した前記微小領域にイオンビーム２４を照射して、前記微小領域の分析を行なうことを特徴とする分析方法である。 - 特許庁

The diffusing and reflecting plate 10 has a substrate 2, a polyangular cylindrical body, comprising first resin films 11 dividedly patterned on the substrate 2, second resin films 12 positioned in gaps 2a of the polyangular cylindrical body and forming a slow slope with the adjacent polyangular cylindrical body and a metal film 13 formed by laminating on the slow slope surface.例文帳に追加

拡散反射板１０は、基板２と、基板２上に分割的にパタニングされている第一の樹脂膜１１からなる多角柱状体と、多角柱状体の間隙２ａに位置し、隣接する多角柱状体と共になだらかな表面を形成している第二の樹脂膜１２と、多角柱状体と第二の樹脂膜１２からなるなだらかな表面上に積層されている金属膜１３とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned medium includes a step for forming a pattern of a magnetic film having ruggedness corresponding to a track part, a servo part or a data part on the substrate having a shape having a hole at its center and a step for jetting a gas stream generated by diffusing a liquidized gas to the center hole of the substrate before or after the pattern of the magnetic film is formed.例文帳に追加

中心に孔を有する形状を持つ基板上に、トラックあるいはサーボ部あるいはデータ部に対応する凹凸をなす磁性膜のパターンを形成する工程と、 前記磁性膜のパターンの形成前または形成後に、液状化したガスを拡散させることで生じたガス流を前記基板の中心孔に対して噴射する工程とを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。 - 特許庁

Subsequently an interlayer insulating film and a spacer insulating film 117 formed on the entire surface are patterned, and self-alignment contact holes, making the semiconductor substrate 101 between the gate electrodes 107a expose, are formed, and spacers 117a are formed in the side wall of the gate electrodes 107a and the etching protecting film pattern 109a.例文帳に追加

その後全面に形成された層間絶縁膜及びスペーサ絶縁膜１１７をパターニングし、ゲート電極１０７ａの間の半導体基板１０１を露出させる自己整列コンタクトホールを形成し、ゲート電極１０７ａ及びエッチング阻止膜パターン１０９ａの側壁にスペーサ１１７ｓを形成する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high radiation sensitivity and useful for forming a patterned polymer film obtained by development with an aqueous alkali solution and having high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance and excellent adhesion to a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた重合体膜の形成に有用なポジ型感光性重合体組成物を提供する。 - 特許庁

A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.例文帳に追加

このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁

The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.例文帳に追加

投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁

An insulating protective layer is formed on the surface of the layout substrate and patterned to expose a pad and then a well is formed to surround the pad.例文帳に追加

この方法によると、まず回路パターンがレイアウトされると共に少なくとも一つの表面に少なくとも一つの導電性のピンを具えた有機レイアウト基板を提供し、このレイアウト基板の表面上に絶縁保護層を形成し、該保護層をパターン化して該パッドを露出させ、且つパッドの周囲を囲むようにウエルを形成する。 - 特許庁

After depositing a first conductive film 13, a ferroelectric film 14 and a second conductive film 15 in sequence on an insulating film 11 on a semiconductor substrate 10, these films are patterned to form a capacitor which is composed of an upper electrode 15A, a capacity insulating film 14A and a lower electrode 13A.例文帳に追加

半導体基板１０上の絶縁膜１１の上に、第１の導電膜１３、強誘電体膜１４及び第２の導電膜１５を順次堆積した後、これらの膜をパターニングして、上部電極１５Ａ、容量絶縁膜１４Ａ及び下部電極１３Ａよりなる容量素子を形成する。 - 特許庁

In an organic LED panel having an insulating layer 3 made of photosensitive resin, which covers the edge portion of a patterned transparent electrode 2 and in which a part of the transparent electrode forming at least luminous pixels is made to expose, a ultraviolet light irradiates the substrate 1 after the insulating layer is formed.例文帳に追加

パターニングされた透明電極２のエッジ部分を覆い、かつ少なくとも発光画素となる部分の透明電極が露出するように形成された感光性樹脂からなる絶縁膜３を有する有機ＬＥＤパネルにおいて、絶縁膜を形成した後に基板１に紫外光を照射する。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film for use in decorative laminates or decorative sheets, wherein this laminated polyester film does not cause environmental problems in incineration, and can yield a decorative laminate or sheet which is not affected by the color tone of a substrate and does not suffer from conspicuous interference unevenness as observed from the surface side of a clear hardcoat and which thus has highly designed or excellently patterned surface appearance.例文帳に追加

焼却時に環境問題を生じることがなく、基材の色調による影響を受けることもなく、クリアなハードコート表面から見たときに干渉ムラが目立たずに、高意匠の表面あるいは絵柄模様の現出外観に優れる化粧板または化粧シート用に積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The top electrode layer of the filter circuit that includes the thin film layer supported on the substrate serving as the medium layer for the capacitor formed between the top electrode layer and the bottom electrode layer formed above and below the thin film layer is patterned into microstrips for functioning as an inductor for the filter circuit.例文帳に追加

薄膜層の上下に形成した上部電極層と下部電極層との間に配列されたコンデンサーの媒体層として有用な、基板上にサポートされた薄膜層を含むフィルター回路の上部電極層は、マイクロストリップにパターン化されて、フィルター回路用のインダクターとして機能するように構成されている。 - 特許庁

Double patterned regions 11 formed by superposing the same patterns are provided on the end parts in the directions Y of two deflecting strips 63 on a mask, which is transferred contiguous to the directions Y on a responsive substrate, and a gray splicing of a gradient illuminating method is performed by an exposure scanning of triangular parts 5a and 5c on both ends of hexagonal illuminating beam 5.例文帳に追加

感応基板上でＹ方向に隣接して転写するマスク上の二つの偏向帯６３のＹ方向端部にそれぞれ同一のパターンが重複する二重パターン領域１１を設け、六角形の照明ビーム５の両端の三角形部５ａ、５ｃの露光走査によって傾斜照明方式のgray splicing をおこなう。 - 特許庁

A tile-shaped large area transducer array (10) comprises: a plurality of transducers (18) disposed on a front face (14) of a substrate (12) and patterned, in the form of a two-dimensional transducer array, on an XY plane; and a plurality of connectors electrically coupled to the transducer elements (18).例文帳に追加

基材（１２）の前面（１４）に配設されてＸＹ平面において二次元トランスデューサ・アレイの形態でパターン化されている複数のトランスデューサ（１８）と、基材（１２）の背面（１６）に配設されて、トランスデューサ素子（１８）に電気的に結合されている複数のコネクタとを備えたタイル型大面積トランスデューサ・アレイ（１０）を提供する。 - 特許庁

To provide a cell culture substrate which can co-culture different kinds of cells coexisting in a living body tissue in a patterned state, is easy in patterning, can sufficiently hold the functions of the cultured cells, and enables the peeling of the cultured cells in a state holding the functions of the cells after cultured.例文帳に追加

本発明の目的は、生体組織において共存する異種の細胞をパターニングした状態で共培養することの可能な、パターニングが容易であり、かつ、培養細胞の機能が充分に保持され、また培養後に細胞機能を保持したまま剥離することの可能な細胞培養基材を提供することにある。 - 特許庁

A first interlayer insulating film 205 is formed on a semiconductor substrate 201 where an element isolation film 202 and a Tr are formed, then a bit line connection hole 206 and a connection conduction pad connection hole 207 are provided, and a first conductive layer is formed and patterned for the formation of a bit line 208 and a connection conduction pad 209.例文帳に追加

素子分離膜２０２とＴｒが形成された半導体基板２０１上に第１層間絶縁膜２０５を形成後、ビット線用接続孔２０６と接続導通パッド用接続孔２０７を形成し、全体の上に第１伝導層を形成しパターニングしてビット線２０８及び接続導通パッド２０９を形成する。 - 特許庁

The method of performing selective growth of a semiconductor material by a semiconductor process, includes providing a patterned substrate 10 comprising a first region 11 and a second region 12, where the first region 11 comprises an exposed first semiconductor material and the second region 12 comprises an exposed insulator material.例文帳に追加

半導体プロセスで半導体材料の選択成長を行う方法が、第１領域１１と第２領域１２とを含むパターニングされた基板１０を提供する工程を含み、第１領域１１は露出した第１半導体材料を含み、第２領域１２は露出した絶縁材料を含む。 - 特許庁

After forming a conductive layer 12a composed of chromium film or chromium alloy film for a lower electrode on an insulating substrate 11, a resist layer 9 is formed on the conductive layer 12a (fig.(a)), then the conductive layer 12a is patterned by a wet etching process, thereby, the lower electrode 12 is formed (fig.(b)).例文帳に追加

絶縁性基板１１上に下部電極用のクロム膜若しくはクロム合金膜からなる導電性層１２ａを成膜した後、導電性層１２ａ上にレジスト層９を形成し（図１（ａ））、導電性層１２ａをウェットエッチング工程にてパターニングすることで下部電極１２を形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁

The visible light irradiating system is provided with a light intensity distribution forming means which patterns the light intensity distribution of the plurality of visible-light laser beams emitted from the visible-light laser sources and an imaging optical system which images the light with light intensity distribution patterned by the light intensity distribution forming means in an irradiation region on the substrate to be treated.例文帳に追加

可視光照射系は、各可視光レーザー光源から発せられた複数の可視光レーザー光の光強度分布をパターンニングする光強度分布形成手段と、この光強度分布形成手段でパターンニングした光強度分布の光を被処理基板上の照射域に結像する結像光学系とを備える。 - 特許庁

To provide a mask holder for laser beam machining, which when a workpiece is irradiated with laser light patterned by a mask so as to perform machining, effectively cools the mask, simultaneously prevents the deformation of the mask, and is applicable even to the mask obtained by drilling transparent patterns in an opaque substrate, and to provide a laser beam machining device using the same.例文帳に追加

マスクによりパターン化したレーザー光を被加工物に照射して加工を行うに際し、マスクを有効に冷却すると同時に、マスクの変形を防止し、不透明基板に透光パターンを孔開け成形したマスクにも適用できるレーザー加工用マスクホルダー及びそれを用いたレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A metal is patterned on a substrate and vapor-deposited to form a gate electrode 12, and then the gate electrode 12 is directly oxidized at a normal temperature to 100°C in O_2 plasma process to grow a metal oxide film having a thickness of 10 nm or less, thereby the gate insulating film 13 is formed along the surface of the gate electrode.例文帳に追加

基板上に金属をパターニングし、蒸着してゲート電極１２を形成した後、常温乃至100℃以下でO_2プラズマ工程によりゲート電極１２を直接酸化して10nm以下の厚みで金属酸化膜を成長させることで、ゲート電極の表面に沿ってゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

In this manufacturing method, after forming the titanium nitride film 12 on a semiconductor substrate, provided with a contact hole 10 by using the organic metal raw material gas containing titanium and chlorine by the chemical vapor deposition method, the titanium nitride film 12 is patterned into a desired shape, and then a wiring composed of a conductive material is formed on the titanium nitride film 12.例文帳に追加

コンタクトホール１０を含む半導体基板１上に、化学的気相成長法によりチタン及び塩素を含む有機金属原料ガスを使用して、窒化チタン膜１２を成膜した後、同窒化チタン膜１２を所望の形状にパターニングし、次に同窒化チタン膜１２上に導電性材料からなる配線を形成する。 - 特許庁

A translucent film comprising a laminate film comprising two or more translucent films having transmissivity spectra different from each other with respect to the wavelength range of (i) rays to (g) rays of exposure light, and a light shield film which shields the exposure light are formed on a translucent substrate in this order, and the translucent film and light shield film are each patterned.例文帳に追加

透光性基板上に、露光光のｉ線〜ｇ線の波長帯域に対する透過率スペクトルが互いに異なる２以上の半透光膜の積層膜からなる半透光膜と、露光光を遮光する遮光膜をこの順で有し、前記半透光膜と前記遮光膜にそれぞれパターニングが施される。 - 特許庁

In an FPC substrate 400, copper foil bonded to both faces of a base film 410 having insulating property and flexibility without a bonding layer is patterned, an input wiring 420a and an output wiring 420b are formed on the mounting face of an electronic part and a dummy wiring layer 422 on a face opposite to the mounting face.例文帳に追加

ＦＰＣ基板４００は、絶縁性および可撓性を有するベースフィルム４１０の両面に接着層なしで接合された銅箔をパターニングして、電子部品の実装面に入力配線４２０ａおよび出力配線４２０ｂを、実装面とは反対側の面にダミー配線層４２２を、それぞれ形成したものである。 - 特許庁

This lithography projection apparatus has an operation cycle including: a projection phase where the projection system projects a patterned beam on a target part of a substrate and the reticle stage 25 supports the patterning means 1; and an exchange phase where the patterning means is exchanged and the connection system positions the patterning means against the reticle stage.例文帳に追加

このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁

The indicating element indicating a specified shape is composed of an organic electroluminescence element formed by laminating a transparent anode, an organic EL compound layer, a cathode buffer layer patterned in approximately the same shape as a specified shape, and a cathode on a transparent insulating substrate in the order.例文帳に追加

所定形状を表示する表示素子であって、透明絶縁基板上に、透明陽極と、有機ＥＬ化合物層と、該所定形状と略同一形状にパターニングされた陰極バッファー層と、陰極とがこの順序で積層された有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする表示素子。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of ensuring adequate shape follow-up properties and peelability when a cured product layer is formed on a patterned surface resin layer of a circuit-formed substrate equipped with the surface resin layer, to provide a photosensitive element using the same, and to provide a method for manufacturing a printed wiring board using these.例文帳に追加

パターニングされた表面樹脂層を備える回路形成済基板の表面樹脂層上に硬化物層を形成させる際に、十分な形状追従性及びはく離性を得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこれらを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A recording layer of a patterned medium is made by laminating a first magnetic recording layer 10d with a large coercivity, and a second magnetic recording layer 10e with a small coercivity in order on a substrate 10a and shortening the side in the radial direction of the second magnetic recording layer 10e than the side in the radial direction of the first magnetic recording layer 10d.例文帳に追加

パターンドメディアの記録層を、保磁力の大きい第１磁性記録層１０ｄと、保磁力の小さい第２磁性記録層１０ｅとを基板１０ａ上に順に積層するとともに、第２磁性記録層１０ｅの半径方向の辺を、第１磁性記録層１０ｄの半径方向の辺よりも短い形状にする。 - 特許庁

A first conductive layer containing aluminum as a major component is formed on a substrate, a second conductive layer is formed including a material different from the relevant first conductive layer on the first conductive layer, and the first and second conductive layers are patterned to form gate electrodes.例文帳に追加

基板上にアルミニウムを主成分とする第１の導電層を形成し、前記第１の導電層上に当該第１の導電層と異なる材料からなる第２の導電層を形成し、前記第１の導電層及び前記第２の導電層をパターニングしてゲート電極を形成することを特徴とする。 - 特許庁

This imprint lithography method includes: bringing an imprint template into contact with an imprintable medium provided on a substrate; and guiding actinic radiation at the imprintable medium, the actinic radiation being oriented such that it is not perpendicularly incident upon a patterned surface of the imprint template.例文帳に追加

インプリントテンプレートを基板上に設けられたインプリント可能媒体に接触させることと、化学線をインプリント可能媒体に誘導することと、を含むインプリントリソグラフィ方法であって、化学線は、インプリントテンプレートのパターン付けされた表面に垂直に入射しないように方向付けられる、インプリントリソグラフィ方法、が開示される。 - 特許庁

When the alignment layer 52 on a substrate 51 is irradiated with UV through an optical mask 53 to perform alignment division of the alignment layer 52, the optical mask 53 formed by providing a metal-dielectric multi- layered film 55 which is so optimized that UV 56 having a specified incident angle is transmitted on a light shielding patterned surface thereof is used.例文帳に追加

基板５１上の配向膜５２に光学マスク５３を通し紫外線を照射して配向膜５２の配向分割を行うに際し、特定の入射角の紫外線５６を透過するように最適化した金属−誘電体多層膜５５を遮光パターン面に設けた光学マスク５３を使用するようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a transparent conductive layer that adds ion to a conductive polymer solution (25) and adopts a wire (30) to which an electric potential with polarity opposite to that of the ions is applied and in which thereby a transparent substrate (10) is not only uniformly coated with the conductive polymer solution (25), but also accurately patterned with the conductive polymer solution (25).例文帳に追加

伝導性高分子溶液（２５）にイオンを添加し、このイオンと反対極性の電位を印加したワイヤー（３０）を採用することにより、伝導性高分子溶液（２５）を透明基板（１０）に均一にコートし且つ正確なパターニングを実現することが可能な透明導電膜製造装置を提供する。 - 特許庁

A resist 104 on an aluminum pad 102 formed on a semiconductor substrate 100 is patterned to expose the pad 102 by using a resist developing solution containing at least one kind of compound selected from a group consisting of triazole, benzimidazole, benzothiazole, thiadiazole and derivatives of these.例文帳に追加

トリアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、チアジアゾール、およびこれらの誘導体よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含むレジスト現像液を用いて、半導体基板１００上に形成されたアルミニウムのパッド１０２上のレジスト１０４を所定形状にパターニングし、パッド１０２を露出させる。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble resin excellent in high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, high transparency, adhesion to substrate and the like, and useful for forming a patterned resin films obtained by developing with an alkali aqueous solution, and to provide a positive type photosensitive resin composition containing the resin.例文帳に追加

高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なアルカリ可溶性樹脂及びそれを含有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The measurement method for the thickness of the thin film for successively forming a lower film where the substrate is patterned in a specific form and an upper film for covering the lower film and then measuring the thickness of the upper film includes a step (500) for modeling the lower film, and a step (510) for measuring the thickness of the upper film.例文帳に追加

基板上に所定の形態でパターニングされた下部膜と、前記下部膜を覆う上部膜を順次に形成した後、前記上部膜の厚さを測定する薄膜の厚さ測定方法において、前記下部膜をモデリングする段階(500)と、前記上部膜の厚さを測定する段階(510)とを含む。 - 特許庁