「pellicle」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a repair method and system that removes a defect of a half tone mask by using a laser, can efficiently form a block film in a defect area, adjusts a film thickness of the block film, enables the defect to be removed even after a pellicle film is formed, adjusts permeability in real time so as to carry out a repair process, and guarantees the uniformity of the permeability of a repaired section.例文帳に追加

本発明は、レーザを用いてハーフトーンマスクの欠陥を除去し、欠陥部領域に遮断膜を効率良く形成でき、遮断膜の膜厚を調節し、ペリクル膜が形成された後も欠陥の除去が可能な機能とともに、リアルタイムで透過率を調節してリペア工程を行うことができるようにし、リペア部位の透過率の均一性を保障できるリペア方法及びそのシステムに関する。 - 特許庁

A container containing the pellicle disinfectant consists of a sanitary material C impregnated with a medical fluid M and a container body 1 having a hermetically sealable lid element 3 for housing the sanitary material, and a hermetically sealed container 10 housing the medical fluid to be infiltrated into the sanitary material is provided in the container body and a means opened by user's operation is provided to the container 10.例文帳に追加

薬液Ｍを含浸させて担持するための衛生材料Ｃと、この衛生材料を収容するための密封可能な蓋体３を有する容器本体１よりなり、容器本体内には衛生材料に含浸させるための薬液を収容した密封容器１０を設け、この容器には使用者の操作により開封される手段１１を設ける。 - 特許庁

The optical axis of the lens system (15, 17) projecting the scanning beam onto the photomask and the optical axis of the objective lens (20) receiving the scattered light from the photomask are aligned in the same plane, while the plane including the optical axis of the lens system and the optical axis of the objective lens is made parallel to the side line of the pellicle frame.例文帳に追加

フォトマスクに向けて走査ビームを投射するレンズ系（１５，１７）の光軸と、フォトマスクからの散乱光を受光する対物レンズ（２０）の光軸とが同一面内に位置するように設定し、前記レンズ系の光軸と対物レンズの光軸を含む面を１つのペリクル枠の辺と平行になるように設定する。 - 特許庁

The pellicle film consists of an organic polymer having units (A) of tetrafluoroethylene and units (B) of cyclic perfluoro-ether and satisfying the relation of 0.7≤n/(m+n)≤1 between the number (m) of moles of the unit A and the number (n) of moles of the unit B and has ≥90% transmittance at 157 nm wavelength.例文帳に追加

テトラフルオロエチレンの単位（Ａ）と、環状パーフルオロエーテルの単位（Ｂ）を有し、（Ａ）の単位のモル数（ｍ）と、（Ｂ）の単位のモル数（ｎ）として、ｎ／（ｍ＋ｎ）が０．７ないし１である有機ポリマーであって、波長１５７ｎｍでの透過率が９０パーセント（％）以上であることを特徴とするペリクル膜。 - 特許庁

To configure an optical element for correcting an influence from the surface shape of a reticle pattern surface which is a factor incurring the distortion or random distortion remaining in a projection optical system, and to configure a pellicle which reduces deterioration even when a light source of a short wavelength such as ArF or F_2 is used.例文帳に追加

ディストーションの発生要因であるレチクルパターン面の面形状の影響あるいは、投影光学系に残存するランダムなディストーションを補正する光学素子を構成可能にするとともに、ＡｒＦ、Ｆ_２といった短波長の光源を使用した場合でも劣化の少ないペリクルを構成することを可能とする。 - 特許庁

The method for producing a vinegar by a standing fermentation method is characterized by the fermentation while cooling the fermentation liquid layer from the depth immediate below the pellicle to 15 cm deep and is provided with a standing fermentation apparatus integrated with a cooling pipe to perform the standing culture using the method and the cooling pipe for the standing fermentation apparatus.例文帳に追加

静置発酵法による食酢の製造方法において、菌膜直下から１５ｃｍまでの発酵液を冷却しながら発酵を行うことを特徴とする食酢の製造方法並びに該方法に用いて静置発酵を行うことのできる、冷却管を組み込んだ静置発酵装置と該静置発酵装置用の冷却管。 - 特許庁

In a projection exposure of a photo mask pattern of a photo mask on a surface to be exposed by irradiating the photo mask pattern with the light from an exposure light source in a projection optical system, the concentration of an inert purge gas containing a specified quantity of inert gas filled in a space contacting a pellicle film is measured to execute the projection exposure with controlling the concentration of the inert gas.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して前記フォトマスクパターンの像を投影光学系により被露光面に投影露光する際、ペリクル膜に接し、所定量の活性ガスを含む不活性ガスからなるパージガスで満たされた空間の前記活性ガスの濃度を測定し、前記活性ガスの濃度を制御しながら投影露光を行う。 - 特許庁

A photomask (1) with a pellicle is two-dimensionally scanned with a scanning beam in a main scanning direction and a sub-scanning direction perpendicular to the main scanning direction; scattered light from the photomask is received by a one-dimensional image sensor (22) through an objective lens (20); and a defect is judged based on an output signal from the one-dimensional image sensor.例文帳に追加

ペリクル付きのフォトマスク（１）を、走査ビームにより主走査方向及びこれと直交する副走査方向に2次元走査し、フォトマスクからの散乱光を対物レンズ（２０）を介して1次元イメージセンサ（２２）により受光し、1次元イメージセンサからの出力信号に基づいて欠陥判定を行う。 - 特許庁

In the film forming method of large-size pellicle, a film is formed by a slit coater on a glass substrate having at least one side ≥500 mm, subjected to mirror surface finishing, wherein coating is performed by setting the slit width of a die to ≥20μm and ≤140μm.例文帳に追加

記課題を解決するために、本発明に係る大型ペリクルの成膜方法は、少なくとも１辺が５００ｍｍ以上の鏡面研磨されたガラス基板上にスリットコーターを用いて成膜する成膜方法において、ダイのスリット幅を２０μｍ以上１４０μｍ以下として塗布を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The system includes an exterior surface 22 and an interior surface 24 of a pellicle frame, at least one vent 26 extending through the frame from the exterior surface to the interior surface, and a filter 28, wherein the filter is located within the vent and is at least three times closer to the interior surface of the frame than to the exterior surface of the frame.例文帳に追加

ペリクルフレームの外側表面２２及び内側表面２４と、フレームを貫いて外側表面から内側表面まで延びる少なくとも１つの通気口２６と、フィルター２８と、を含んでおり、フィルターは、通気口内に配置されており、フレームの外側表面よりもフレームの内側表面に少なくとも３倍は近接して配置される。 - 特許庁

In a dyeing method of the dyeing object 10 for dyeing by hanging the dyeing object 10 using aluminum worked into a pellicle frame covering the whole surface of a circuit pattern formed on a transparent substrate as a base body on the jig 11 and dipping into a dyeing solution 36, the dyeing is performed while rocking the jig 17, on which the dyeing object 10 is hung.例文帳に追加

透明基板に形成された回路パターンの全面を覆うペリクル枠に加工されるアルミニウムを基体とする染色対象物１０を治具１７に掛けて染色液３６に浸漬し染色処理を行う染色対象物の染色処理方法において、染色対象物１０を掛けた治具１７を揺動させて染色処理を行う。 - 特許庁

The photomask has a mask substrate where an electronic circuit pattern used to manufacture a semiconductor device is drawn, a lower frame bonded onto the mask substrate to surround the electronic circuit pattern, an upper frame provided detachably to the lower frame, and a pellicle films fitted to the upper frame, the lower frame and upper frame having means of holding them in contact with each other with dynamic stress.例文帳に追加

半導体装置の製造に用いられる電子回路パターンが描かれたマスク基板と、マスク基板上に電子回路パターンを囲うように接着された下部フレームと、下部フレームと着脱可能に設けられた上部フレームと、上部フレームに取り付けられたペリクル膜とを有し、下部フレームと上部フレームは、力学的応力により互いを密着した状態に保持する手段を有する。 - 特許庁