「pellicle」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce defective surface precision of a thin film sheet after attachment in a method of attaching thin film and a pellicle optical element manufactured by the method of attaching thin film.例文帳に追加

薄膜の貼り付け方法、およびそれにより製造されたペリクル光学素子において、貼り付け後の薄膜シートの面精度不良を低減することができるようにする。 - 特許庁

With this, a portion where the first arm 6B intersecting with a foot 6A and a portion where the second arm 6C intersecting with a foot 6A are warped and press the other end of the pellicle frame 4 in an axial direction against the surface of the photo mask 20.例文帳に追加

これにより、第１腕部６Ｂと脚部６Ａとが交わる部分や第２腕部６Ｃと脚部６Ａとが交わる部分が撓み、ペリクルフレーム４の軸方向の他端をフォトマスク２０の表面に押圧する。 - 特許庁

The present invention is characterized in controlling a clouding source substance included in the pellicle to a predetermined value or less, and thereby, even when the clouding source substance becomes a foreign matter on the photomask, the generation of a defect in a product can be prevented.例文帳に追加

本発明は、ペリクルに含有する曇り原因物質が、一定値以下であることを特徴とするため、曇り原因物質がフォトマスク上で異物になったとしても製品に欠陥が起こることを防止することが出来る。 - 特許庁

The mask M is used, which includes a pellicle frame 120 for correcting non-linear deformation, which is caused in the temperature distribution of a mask body 100, to be linear deformation.例文帳に追加

マスク本体１００の温度分布で生じる非線形変形を、線形変形に補正するペリクルフレーム１２０が設けられているマスクＭを用いる。 - 特許庁

Desirably, the length of long sides of the pellicle frame is 140 to 300 mm, and more desirably, it is 140 to 230 mm.例文帳に追加

ペリクルフレームの長辺の長さは１４０ｍｍ以上３００ｍｍ以下であることが好ましく、１４０ｍｍ以上２３０ｍｍ以下であることがより好ましい。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a photomask without the need for removal of the pellicle mounted on the photomask, without a large-scale equipment for washing with a solution, with a small number of steps for cleaning and inspection, and without an increase of the production cost.例文帳に追加

フォトマスクに装着したペリクルの剥離が不要で、また溶液洗浄のような大掛かりの装置が不要で、洗浄・検査の工程数が少なく、製造コストが増大しないフォトマスクの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The adhesive strength of the pellicle tacky adhesive materials 2 and the metallic parts 3 on the surface of the mask substrate 5 is greater than the adhesive strength to the glass parts 4 on the mask substrate 5.例文帳に追加

ペリクル粘着材２とマスク基板５の表面上の金属部３との接着力は、マスク基板５上のガラス部４との接着力より大きい。 - 特許庁

The structure is situated in a high transmission region in which the structure is close to a transition region between a low and high transmission regions of the mask such that deterioration of the pellicle affects the print of an object.例文帳に追加

構造が、ペリクル劣化が物体のプリントに影響を及ぼすような、マスクの低透過領域と高透過領域の間の遷移領域に近接している高透過領域に位置する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask for obtaining flatness of a mask as predicted by an actual exposure apparatus, and to provide a method for measuring flatness of a mask, a pellicle mounting device and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

予測通りのマスクの平坦度を実際の露光装置で得られるマスクの製造方法、マスク平坦度測定方法、ペリクル装着装置、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a photomask having a tacky adhesive layer trapping foreign matter applied on an inner wall of a pellicle frame and suppressing production of a growing foreign matter by exposure light.例文帳に追加

ペリクルフレームの内壁に異物をトラップする粘着材層を設け且つ露光光による成長性異物の発生を抑えたフォトマスクを実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a film and hard spacer type pellicle structure, where the area of X-ray mask is increased, the film and fitting material of an X-ray mask is enlarged in range, and precision in manufacture is improved.例文帳に追加

Ｘ線マスク面積の増大、Ｘ線マスクの膜および取り付け材料の範囲拡大、および製造の精度の向上が実現される、膜および硬質スペーサ型ペリクル構造を提供する。 - 特許庁

In a projection aligner, a leans group 114 is moved in the direction of an optical axis by a drive unit 150, so that the group 114 is positioned at a position for correcting the aberrations occurring at the pellicle 104.例文帳に追加

駆動ユニット150によりレンズ群１１４を光軸方向に移動させることにより、レンズ群１１４をペリクル104で生じる収差が補正される位置に位置決めする。 - 特許庁

A first lighting system 31a irradiates a top surface of a reticle R with inspection light L, and a second lighting system 31b irradiates a surface of a pellicle P with inspection light L2.例文帳に追加

第１照明系３１ａは検査光Ｌ１をレチクルＲの上面に照射し、第２照明系３１ｂは検査光Ｌ２をペリクルＰの面上に照射する。 - 特許庁

An anti-oxidation film 30a, 30b is formed to cover the portion of the mono-crystalline silicon film that is externally exposed in order to prevent the surface of the pellicle film 10 from being oxidized.例文帳に追加

また、ペリクル膜１０の表面の酸化を防止するために、単結晶シリコン膜が外部に露出される部分を被覆する酸化防止膜３０ａ、３０ｂが形成されている。 - 特許庁

A resin sheet material is molded to obtain a lid 1 of the pellicle storage container; and ribs 3 are provided on the upper face of the lid 1, the rib making an angle of 10° or less with the short side of the lid and not crossing other ribs.例文帳に追加

樹脂のシート材を成形してペリクル収納容器の蓋体１とし、この蓋体１の上面に蓋体の短辺と成す角度が１０°以内で、なおかつ他のリブと交差しないリブ３を設ける。 - 特許庁

An optical flux is obliquely incident on a pattern face of a reticle R existing across a pellicle P, and reflected light is detected to measure the position of the optical axis direction of the exposed light of the pattern face (3A, 3B).例文帳に追加

ペリクルＰを隔てて存在するレチクルＲのパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の露光光の光軸方向の位置が計測される（３Ａ、３Ｂ）。 - 特許庁

The pellicle mirror 22 transmits a part of a subject image from the photographing lens system 12, to guide it to the imaging element 14 and reflects another part of the subject image from the photographing lens system 12, to guide it to a finder optical system 20.例文帳に追加

ペリクルミラー２２は、撮影レンズ系１２からの被写体像の一部を透過して撮像素子１４に、一部を反射させてファインダ光学系２０に導く。 - 特許庁

To provide an opening method for a storage container for a large pellicle by which the storage container can be opened by reliably gripping a lid, and to provide a lid opening/closing tool to be used for the method.例文帳に追加

本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、確実に蓋を把持して開封することが可能な大型ペリクル収納容器の開封方法、およびこれに用いられる蓋開閉治具を提供することを目的としている。 - 特許庁

A high voltage conductor in a dielectric pellicle or ion damage prevention system is coated with a separation layer having a resistance low enough to prevent accumulation of charges on its surface and also high enough to restrict a peak current on dielectric breakdown.例文帳に追加

静電ペリクル又はイオン損傷防止システムでは、高電圧導体が、その表面上に電荷が蓄積するのを防止するのに十分に低い抵抗を有するが、絶縁破壊時にピーク電流を制限するのに十分に高い抵抗を有する分離層が被覆される。 - 特許庁

To provide a useful fluorine-containing polymer which has high transparency and durability to a short wavelength light (ArF excimer laser with an oscillation wavelength of 193 nm, or F_2 excimer laser with an oscillation wavelength of 157 nm) at the time of using as a pellicle material or the like.例文帳に追加

ペリクル材料等として用いた場合に短波長光（発振波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー、発振波長１５７ｎｍのＦ_２エキシマレーザー）に対して高い透明性と耐久性を有する有用な含フッ素重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography that is suitable to be used for liquid immersion exposure type lithography selectively using only an oblique incident light component of incident laser beam and that has a transmittance for oblique incident light having an increased allowable range for lithographic operation.例文帳に追加

入射するレーザー光の斜入射成分のみを選択的に使用する液浸露光タイプのリソグラフィーに用いるのに最適な、斜入射光の光透過率がリソグラフィー操作にとって許容できる範囲を拡げたリソグラフィー用ペリクルを提供する。 - 特許庁

It is supposed that, in a production step of a pellicle frame subjected to black alumite processing, which is conventionally used, a growing foreign substance on a mask is induced by residues of an acid component by use of sulfuric acid or an azo dye and of ammonia ions.例文帳に追加

従来使用していた黒色アルマイト処理を施したペリクルフレームの製造工程で、硫酸、アゾ染料を使用したことによる酸成分、アンモニアイオンの残留が、マスク上の成長性異物の原因と考えられる。 - 特許庁

When performing alignment using the reference plate SP and the reference mark FM, a correction optical element G2 having thickness equal to the sum of thickness of the optical element G1 and the pellicle is interposed between the reference plate SP and the projection optical system 13.例文帳に追加

基準プレートＳＰと基準マークＦＭとを用いて位置合わせを行なう際には、基準プレートＳＰと投影光学系１３との間に、光学素子Ｇ１とペリクルの厚みの和に等しい厚みを有する補正用光学素子Ｇ２を介在させる。 - 特許庁

A thermally conductive filler such as a metal powder is compounded into an adhesive layer 13 so as to quickly radiate the heat generating in a photomask to the outside and to prevent a positional shift of a pellicle 1 stuck to the photomask due to the heat of the photomask heated by exposure.例文帳に追加

フォトマスクに生じた熱を速やかに外部に放熱し、フォトマスクに貼着したペリクル１が、露光により昇温したフォトマスクの熱によって位置ズレを起こすのを防止するため、粘着層１３に金属粉末等の熱伝導性充填剤を配合する。 - 特許庁

To provide a pellicle mirror excellent in optical characteristics, which substitutes for a half mirror made of normal glass material, as a mirror that is disposed in a position where field light from a photographic lens system is received within a single lens reflex camera and that splits incident field light into transmitted light and reflected light.例文帳に追加

一眼レフカメラ内で撮影レンズ系からの被写界光を受ける位置に配置され、入射した被写界光を透過光と反射光に分割するミラーにおいて、通常のガラス材質のハーフミラーに替わる光学特定の優れたペリクルミラーを提供すること。 - 特許庁

A hooking member 6 is attached by hooking a second arm 6C to the hooking projection 5, and then hooking a first arm 6B to a point at the back side of a photo mask 20 (a quartz substrate 21) which is located at an extension of the pellicle frame 4.例文帳に追加

掛け止め部材６の装着は、第２腕部６Ｃを係止用突起５に係止させ、第１腕部６Ｂを、ペリクルフレーム４の延長上に位置するフォトマスク２０（石英基板２１）の背面箇所に係止させることで行なわれる。 - 特許庁

Even if static electricity is induced in the photomask 20 for some reason, discharge is preferentially induced between the top end of the corner 11a (discharge-inducing protrusion) and the discharge inducing pattern 21, which avoids generation of discharging on the inside of the pellicle frame 11.例文帳に追加

何らかの原因によりフォトマスク２０に静電気が発生しても、角部１１ａの先端（放電誘発用突起）と放電誘発用パターン２１との間に優先的に放電が発生し、ペリクルフレーム１１の内側に放電が発生することが回避される。 - 特許庁

In particular, the pressure transmitting member 17 is further provided with a pressing part side pressure transmission plane 17b for transmitting the pressure from the pressing part 19 into the pressure transmitting member 17 and it is preferable that parallelism between the pellicle side pressure transmission plane 17a and the pressing part side pressure transmission plane 17b is 10 μm or less.例文帳に追加

特に、圧力伝達部材１７は、さらに加圧部１９からの圧力を圧力伝達部材１７内に伝える加圧部側圧力伝達面１７ｂを備え、ペリクル側圧力伝達面１７ａと加圧部側圧力伝達面１７ｂとの平行度が１０μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a photomask which has at least a light shielding film on the surface of a glass substrate, and is in a state before a wafer is exposed and almost free from haze caused by stains originating in a pellicle provided thereon, a case or a store place thereof, or the like.例文帳に追加

ガラス基板の表面に少なくとも遮光膜を備えたウェハ露光前のフォトマスクであって、フォトマスクに設けられたペリクル、フォトマスクのケースやフォトマスクの保管場所などに由来する汚れによる曇りの少ないフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The film forming substrate 1 having 1,100 mm maximum width in the short side to be used for the manufacture of a large-size pellicle film 4 is cut in the right lower corner to make a corner cut C to decrease the width W2 in the shorter side to 900 mm.例文帳に追加

大型ペリクル膜４を製造する際に使用される短辺側の最大巾が１，１００ｍｍの成膜基板１に於て、該成膜基板の右下隅にコーナーカットＣを施すことによって、短辺側の巾Ｗ２を９００ｍｍに形成して構成した大型ペリクル膜用成膜基板である。 - 特許庁

The amount of a phenol derivative contained in an organic material exposed to the inner face of a mask structure obtained by attaching a pellicle to a photomask and having ≥0.1% weight decrease by heating by a heat weight measuring method when heating is carried out at 50°C for 4 hr is adjusted to 0.1-15 μg.例文帳に追加

フォトマスクにペリクルを装着したマスク構成体の内面に露出する有機系材料中に含まれる、５０℃で４時間の加熱を行ったときの熱重量測定法による加熱減量が０．１％以上のフェノール誘導体の量が１５μｇ〜０．１μｇとなるようにする。 - 特許庁

To provide a storage container for a large pellicle in which rigidity can be improved without deteriorating a cleaning property even if the container is particularly manufactured by vacuum molding, and to provide a method for manufacturing the container.例文帳に追加

本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、特に真空成形を用いて製造した容器であっても、洗浄性を損なわずに剛性を向上させることのできる大型ペリクル収納容器及びその製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

The reticle window is provided with the frame regulating first and second opposed faces 320 and 322, the reticle 104 engaged with the first opposed face by using magnetic coupling and the pellicle 208 engaged with the second opposed face by using magnetic coupling.例文帳に追加

第１及び第２の向き合った面３２０，３２２を規定したフレームと、磁気結合を使用して前記第１の向き合った面に係合させられたレチクル１０４と、磁気結合を使用して前記第２の向き合った面に係合させられたペリクル１０８とが設けられている。 - 特許庁

The packing container to pack a plurality of cases to store a large pellicle comprises a holding groove to hold only one case inside thereof, and a plurality of case holding members formed of a shock-absorbing material and having stacking units stackable on each other.例文帳に追加

大型ペリクルを収納するケースを複数梱包するための梱包容器において、内部に前記ケースを１つだけ保持する保持溝及び互いに積載可能な積載部を有する緩衝材で構成された複数のケース保持部材からなることを特徴とする。 - 特許庁

A pellicle frame 21 is divided into an inner member 21b and an outer member 21a, the inner member 21b is constituted of self-color anodized aluminum or ceramic with excellent light resistance and an outer member 21a is constituted of aluminum base alloy 7075-T6 with large proof stress.例文帳に追加

ペリクル枠２１を内側部材２１ｂと外側部材２１ａとに分割し、内側部材２１ｂを耐光性に優れる自然発色アルマイト化アルミニウムまたはセラミックで構成し、外側部材２１ａを耐力の大きいアルミニウム合金７０７５−Ｔ６で構成する。 - 特許庁

Immediately after a resist pattern 2a having light shielding property against exposure light and consisting of an electron beam-sensitive resist film 2 is formed by patterning the electron beam-sensitive resist film 2 applied on the principal face of a mask substrate 1, a pellicle PE is mounted on the principal face of the mask substrate 1.例文帳に追加

マスク基板１の主面上に塗布された電子線感応レジスト膜２をパターニングすることにより、電子線感応レジスト膜２からなり露光光に対して遮光性を有するレジストパターン２ａを形成した直後にマスク基板１の主面にペリクルＰＥを装着する。 - 特許庁

Here, the angle of the inclined incidence is preferably 13.4 degrees, and the pellicle membrane has preferably a thickness of ≤600 nm, in particular, has a thickness in a range selected from among 560 to 563 nm, 489 to 494 nm, 418 to 425 nm, 346 to 355 nm, 275 to 286 nm, and 204 to 217 nm.例文帳に追加

この場合に、斜入射の角度が１３．４度であること、そして、そのペリクル膜の膜厚が６００ｎｍ以下であり、特にそのペリクル膜の膜厚が５６０〜５６３ｎｍ、４８９〜４９４ｎｍ、４１８〜４２５ｎｍ、３４６〜３５５ｎｍ、２７５〜２８６ｎｍ、２０４〜２１７ｎｍであるものが好ましい。 - 特許庁

Two air holes 32-27b-30, 20b-27a-34 having three bending parts are provided inside the pellicle frame 21 and an adhesive layer for sucking the dust is provided on the inner surface of the air holes 32-27b-30, 29b-27a-34.例文帳に追加

ペリクル枠２１の内部にそれぞれ３箇所の屈曲部を有する２つの通気孔３２−２７ｂ−３０、２９ｂ−２７ａ−３４を設け、通気孔３２−２７ｂ−３０、２９ｂ−２７ａ−３４の内表面にダストを吸着するための粘着層を設ける。 - 特許庁

Also the recessing parts 13 are preferably arranged on five places or more on the total outer side faces of the pellicle frame 11, and the recessing part 13 is preferably a non-penetrating round hole with 1.0 to 3.0 mm diameter and ≥0.5 mm depth.例文帳に追加

また、凹み部１３はペリクルフレーム１１の外側面全体で５箇所以上配置されていること、凹み部１３は直径１．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下、深さ０．５ｍｍ以上でかつ非貫通の丸穴であること、がそれぞれ好ましい。 - 特許庁

To provide a technique of replacing the space approximately closed by an original plate and a pellicle film with inert gas with an exposure device for replacing the interior of the device with the inert gas and irradiating a photosensitive substrate with the pattern of the plate across a projection optical system using UV light as exposure light.例文帳に追加

露光光として紫外光を用い、装置内を不活性ガスで置換し、原版のパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、原版とペリクル膜で略閉じられた空間を不活性ガスで有効に置換する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle which can be attached to a mask and detached from the mask without damaging the mask and does not impair the flatness of the mask even when the surface of the mask is maintained in any of horizontal and perpendicular directions.例文帳に追加

マスクに損傷を与えることなく、マスクへの装着及びマスクからの脱着を行うことができ、しかも水平方向及び鉛直方向の何れの方向にマスク面が維持された場合にもマスクの平面性（フラットネス）を損なうことのないペリクルを提供すること。 - 特許庁

The method for storing pellicles includes: putting the case storing the pellicle in a first bag for cleanliness specifications and closing its opening; putting it in a second bag with antistatic function and closing its opening; and further putting it in a third bag with the antistatic function and tightly sealing it.例文帳に追加

ペリクルを収納した容器をクリーン仕様の第一の袋に入れてその口を閉じ、次いでこれを帯電防止機能を有する第二の袋に入れてその口を閉じ、更に帯電防止機能を有する第三の袋に入れて密閉することを特徴とするペリクル収納方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin film having an insulated pellicle which needs no high temperature treatment during curing or processing, has flexibility superior in folding durability or bending, also has excellent preservation stability at a room temperature, anti-chemical and electric characteristics, and is hardly scratched.例文帳に追加

耐折性や屈曲性に優れた柔軟性を有しており、室温での保存安定性、耐薬品性、電気的特性に優れ、傷がつきにくく、硬化又は加工の際に高温処理を必要としない絶縁皮膜ができる感光性樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image receiving material which has satisfactory photolike luster and smoothness, has high photolike image density, and further has print quality superior in pellicle quality such as flaw resistance and scuff resistance after printing.例文帳に追加

１回の定着で満足できるフォトライクな光沢、平滑感を有し、フォトライクな高い画像濃度を有し、プリント後の耐傷性や耐擦性といった皮膜品質に優れたプリント品質を有する電子写真用受像材料を提供することである。 - 特許庁

To obtain a protective film consisting of a releasing layer which has satisfactory releasability, does no migrate to the surface of the adhesive layer of a mask and prevents the occurrence of foreign matter due to a sublimable material in a pellicle for lithography.例文帳に追加

リソグラフィーペリクルにおいて、充分な離型性を有し、離型層がマスク粘着剤層の表面に移行することがなく、また昇華性物質による異物の発生がない離型層からなる保護フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁