「pellicle」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

PERFLUOROPOLYETHER LIQUID PELLICLE AND MASK-CLEANING METHOD USING PERFLUOROPOLYETHER LIQUID例文帳に追加

過フルオロポリエーテル液ペリクルおよび過フルオロポリエーテル液を使用したマスクのクリーニング方法 - 特許庁

The pellicle film preferably comprises a fluororesin and the pellicle is used for light for exposure such as KrF excimer laser beam having 248 nm wavelength or ArF excimer laser beam having 193 nm wavelength.例文帳に追加

なかでもフッ素樹脂からなるペリクル膜が好ましく、波長２４８ｎｍのフッ化クリプトンエキシマレーザー光や、波長１９３ｎｍのフッ化アルゴンエキシマレーザー光の露光光に対して使用することができる。 - 特許庁

The process for producing a pellicle includes a step of irradiating a pellicle film comprising a fluorine resin with UV light having a wavelength of no greater than 220 nm.例文帳に追加

フッ素樹脂を含むペリクル膜に２２０ｎｍ以下の波長の紫外光を照射する工程を有することを特徴とする、ペリクルの製造方法。 - 特許庁

To prevent flexure of a pellicle film by a beam or a column in regard to a pellicle for a photomask for dealing with shortening of wavelength of exposure light.例文帳に追加

本発明は露光光の短波長化に対応するためのフォトマスク用ペリクルに関し、梁あるいは柱でペリクル膜のたわみを防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photomask with a pellicle that can solve problems caused when the size of a pellicle increases along a larger size of a photomask and result in a larger size.例文帳に追加

フォトマスクの大サイズ化に伴いペリクルが大サイズ化した場合に生じる問題を解消し、大サイズ化を達成できるペリクル付きフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography, which is provided with a monocrystalline silicon film which is a chemically stable material having high permeability to extreme ultraviolet rays (EUV rays) as a pellicle film, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

極端紫外光(ＥＵＶ光)に対する高い透過性を有し且つ化学的に安定な材料であるシリコン単結晶膜をペリクル膜として備えたリソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To industrially easily obtain a pellicle which is below 300 μm in the thickness of a pellicle plate made of synthetic quartz glass and is uniform in an intra-surface transmittance distribution.例文帳に追加

合成石英ガラス製のペリクル板の厚みが３００μｍ未満で、かつ面内光透過率分布が均一なのペリクルを工業的に容易に得る。 - 特許庁

The pellicle frame 10 constituting the pellicle is made of synthetic quartz glass having 0.2×10^15 to 7.0×10^15 cm^-3 oxygen-deficiency defect density.例文帳に追加

ペリクルを形成するペリクルフレーム１０を、酸素欠乏型欠陥の濃度が０．２×１０^１５〜７．０×１０^１５ヶ／ｃｍ^３である合成石英ガラスで構成する。 - 特許庁

In this case, such a photomask that a pattern formed surface is protected by a pellicle is used, and an inert gas added with fluorine at a specified concentration is used as an atmosphere around the pellicle.例文帳に追加

ここで、フォトマスクとしては、パターン形成面がペリクルにより保護されているものを用いるが、このペリクル周辺の雰囲気を、所定の濃度でフッ素を添加した不活性ガスとする。 - 特許庁

To suppress the variation of the shape of a resist pattern caused by the deformation of a pellicle film in a scanning exposing device while realizing the long life of the pellicle film at a photomask.例文帳に追加

フォトマスクにおけるペリクル膜の長命化を実現しつつ、走査型露光装置において、ペリクル膜の変形によって生じるレジストパターンの形状の変動を抑える。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method which changes refraction characteristics of eyes with the photodestruction of interstitial tissues by positioning the focus of a laser beam within the interstitial pellicle while maintaining the focus at a site within the interstitial pellicle.例文帳に追加

間質薄膜内にレーザビームの焦点を位置づけ、かつ間質薄膜内部の部位に焦点を維持して、間質組織を光破壊し、眼の屈折特性を変える装置、方法の提供。 - 特許庁

A patterning device includes a material layer 31, a patterned opaque material layer 32 on the surface of the material layer, and a pellicle 40 of a perfluoropolyether (PFPE) liquid, the pellicle covering the surface.例文帳に追加

パターニング・デバイスは、素材層３１と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層３２と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクル４０とを含む。 - 特許庁

In a jig for manufacturing pellicle, the tip head portion of a jig pin is brought into contact with the taper surface of a taper portion provided at the depth portion of a jig hole to press the taper surface, thereby fixing a pellicle frame.例文帳に追加

本発明のペリクル製造用ジグは、ジグピンの先端頭部分を、ジグ穴の奥部に設けられたテーパー部のテーパー面に当接させて、該テーパー面を押圧することにより、ペリクルフレームを固定する。 - 特許庁

To provide a pellicle peeling device and its method for quickly and easily peel a pellicle frame without contaminating, damaging or deforming a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを汚染せず、傷付け又は変形させずに、速やかに、かつ、簡単にペリクルフレームを剥離できるペリクル剥離装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To avoid problems caused by increase in the size of a pellicle accompanying the increased size of a photomask, and to realize, as fast as possible, a photomask for a display apparatus with a pellicle in urgent necessity of increasing the size.例文帳に追加

フォトマスクの大サイズ化に伴うペリクルの大サイズ化に起因して生じる問題を回避し、大サイズ化が急務であるペリクル付き表示装置用フォトマスクを早期に実現する。 - 特許庁

A pellicle frame 1 is fixed by pellicle tacky adhesive materials 2 to region segments where metallic parts 3 and glass parts 4 on the mask substrate 5 are lined up to each other.例文帳に追加

ペリクルフレーム１は、マスク基板５上の金属部３とガラス部４が交互に並べられている領域部分に、ペリクル粘着材２により固定されている。 - 特許庁

On the lithography pellicle, a mask binder for sticking the pellicle on the mask has a flat face, and flatness of the face is ≤15 μm.例文帳に追加

本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクルをマスクに貼り付ける為のマスク粘着剤が平坦な面を有し、かつその面の平坦度が１５μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pellicle frame preventing the generation of white dots by using a non-heattreated aluminum alloy allowed to be enlarged, and by suppressing pellicle defects after anodization dyeing.例文帳に追加

大型化が可能な非熱処理型のアルミニウム合金を用い、しかも陽極酸化染色後の皮膜欠陥を抑制して白点の発生を防いだペリクル枠を提供する。 - 特許庁

To prolong the lifetime of a pellicle film while suppressing the absorption of exposing light by active gas by limiting the number of molecules in an active purge gas filling a space touching the pellicle film and keeping its concentration at a high level.例文帳に追加

ペリクル膜に接する空間に充填されるパージガスの活性ガスの分子の数を抑え、かつ、この濃度を高く保つことにより、活性ガスによる露光光の吸収を抑えつつ、ペリクル膜の延命化を図る。 - 特許庁

To provide a storage container for a pellicle capable of transportation in which a load placed in a support frame of a pellicle is made more uniform for securer fixation for a photomask.例文帳に追加

フォトマスクに、より確実に固定できるようにペリクルの支持枠にかかる荷重をより均一にして輸送可能なペリクル用収納容器を提供する。 - 特許庁

On sticking the pellicle 100 to a photomask, first, the release sheet of the double-sided tape 130 is removed and the pellicle 100 is placed on the photomask so that the adhesive face of the double-sided tape 130 is brought into contact with the photomask.例文帳に追加

そして、ペリクル100をフォトマスクに貼り付ける際は、まず、両面テープ130の剥離紙を剥がし、両面テープ130の粘着剤面がフォトマスクに接するように、ペリクル100をフォトマスク上に載置する。 - 特許庁

To provide a photomask unit in which a photomask substrate and a pellicle frame are simply joined, a pellicle is easily exchanged and generation of outgas and contamination on the mask substrate are less.例文帳に追加

ホトマスク基板とペリクルフレームの接合に際して簡易かつペリクルの交換が容易で、かつ、アウトガスの発生及びマスク基板の汚染の少ないホトマスクユニットを提供する。 - 特許庁

Thereby, the gas in the pellicle-reticle space 540 is forcibly evacuated, in a state with the evacuating attachment 326 stuck tightly to the pellicle frame 520.例文帳に追加

これにより、排気用アタッチメント３２６はぺリクルフレーム５２０に密着された状態で、ペリクル−レチクル間空間５４０のガスが強制排気される。 - 特許庁

To provide a pellicle glue removing device capable of removing glue that remains after pellicle is removed from a photomask, in a state where a mask pattern is protected, and to provide a method for the device.例文帳に追加

本発明は、マスクパターンを保護した状態でフォトマスクからペリクルを外した後に残ったグルーを取り除くことができるペリクル・グルーの除去装置及びその方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a pellicle storage container for photolithography that prevents contamination of a stored pellicle and maintains the quality during storage, transportation and operation.例文帳に追加

保管、輸送、操作中において収納するペリクルの汚損を防止して品質を維持することのできるフォトリソグラフィー用ペリクル収納容器を提供すること。 - 特許庁

Further, a gas discharge passage 15 has a discharge exit 14 to discharge the gas from the pellicle space 17 and a discharge outlet 16 to send the discharged gas from the discharge exit to the outside of the pellicle frame.例文帳に追加

また、排気送出路１５は、ペリクル空間１７のガスを排気する排気出口１４と、排気出口から排気された排気をペリクルフレームの外部に送り出す排気口１６とを有する。 - 特許庁

The pellicle has a pellicle material comprising synthetic quartz glass having ≤100 ppm concentration of OH groups and not substantially containing a reduced form defect.例文帳に追加

ＯＨ基濃度が１００ｐｐｍ以下であり実質的に還元型欠陥を含まない合成石英ガラスからなるペリクル材を有してなることを特徴とする。 - 特許庁

As a result, a gas of external portion space is prevented from mixing the space between the reticle and the pellicle 440, and the reticle 400 is delivered keeping a state of substituting the low-absorbing property gas for the space between the reticle and the pellicle 440.例文帳に追加

その結果、外部空間の気体のレチクル−ペリクル間空間４４０への混入を防ぎ、レチクル−ペリクル間空間４４０が低吸収性ガスで置換された状態を維持しながら、レチクル４００を搬送することができる。 - 特許庁

The pellicle used for semiconductor lithography is characterized in that the thickness of a mask pressure-sensitive adhesive for attaching the pellicle to a mask is ≥0.4 mm.例文帳に追加

半導体リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに貼り付ける為のマスク粘着剤の厚みが０．４ｍｍ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pellicle capable of improving dimension stability and retaining an effective exposure area during exposure while securing rigidity to withstand a use as a pellicle frame body.例文帳に追加

ペリクルの枠体として使用に耐え得る剛性を確保した上で、寸法安定性を向上させ露光中の有効露光面積を保つことができるペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a cushioning material that protects pellicle for lithography from external impact, makes dust less likely to occur, and prevents adhesion of dust to pellicle during unpacking.例文帳に追加

リソグラフィ用ペリクルを外部からの衝撃から保護すると供に、塵が発生しにくく、開封時にペリクルに塵や埃が付着するのを防ぐことができる緩衝材の提供。 - 特許庁

To provide a pellicle, and a method of applying the pellicle for easing deterioration of flatness due to self weight deflection of a substrate during transfer, and improving the flatness of a mask substrate during transfer.例文帳に追加

転写時における基板の自重たわみによる平坦度の悪化を緩和させ、転写時のマスク基板の平坦度を改善することができるペリクル及びペリクル貼付方法を提供することである。 - 特許庁

Thus, the retention of the pellicle 2 inclined with respect to the surface-to-be-surmounted 5a enables the width dimension of a packing box 4 to be small as compared with the structure in which the pellicle 2 is horizontally retained.例文帳に追加

このように、ペリク２ルを載置面５ａに対して傾斜した状態で保持することにより、ペリクル２を水平に保持する構成に比べて、梱包箱４の幅寸法を小さくすることができる。 - 特許庁

The pellicle frame is subjected to a preliminary heat treatment at a predetermined temperature, whereby the pellicle can substantially avoid undergoing frame deformation due to a temperature change upon lithography processes.例文帳に追加

事前に所定温度で加熱処理しておくことで、リソグラフィー工程時の温度変化によるフレーム変形が実質的に生じないようにすることを特徴とする。 - 特許庁

In addition, as compared with a structure wherein the pellicle 2 is vertically held, the deterioration with age of the adhesive layer 8 can be restrained by the alleviation of load under own weight of the pellicle 2 to the adhesive layer 8.例文帳に追加

また、ペリクル２を垂直に保持する構成に比べて、ペリクル２の自重による粘着剤層８への負荷を軽減できるので、粘着剤層８の経時劣化を抑制することができる。 - 特許庁

The mount base 6 has a step 8 formed in the height direction of a pellicle frame 4b on the outer edge side of the tray 2 and a step 9 formed in the height direction of the pellicle frame 4b on the side of the tray central bottom surface 5.例文帳に追加

載置台６には、トレイ２の外縁側に、ペリクルフレーム４ｂの高さ方向の段差８が形成され、トレイ中央底面５側に、ペリクルフレーム４ｂの高さ方向の段差９が形成される。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography that can reduce deformation of an exposure master plate due to deformation of a pellicle frame as much as possible even when being affixed to the exposure master plate.例文帳に追加

ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography that reduces foreign substances generated from or being likely to pass through one or more air pressure adjusting holes provided in a pellicle frame.例文帳に追加

ペリクルフレームに設けられた１以上の気圧調整孔から発生する、又は、これを通過する可能性のある異物を低減し得るリソグラフィ用ペリクルを提供すること。 - 特許庁

To provide a pellicle storage container capable of keeping the inside of the container clean even when functional components such as a handle, a pellicle fixing member and a reinforcing material are attached to the container.例文帳に追加

ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付けた際でも、容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることを課題とする。 - 特許庁

The method for attaching the pellicle includes a step of supporting a mask (13) as extending in a vertical direction in a clean room (1) and a step of disposing a pellicle (23) so as to oppose to the pattern face of the mask.例文帳に追加

本発明によるペリクル装着方法は、クリーンルーム（１）内にマスク（１３）を鉛直方向に延在するように支持する工程と、マスクのパターン面と対向するようにペリクル（２３）を配置する工程とを具える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pellicle, the method including a means of checking an application position prior to application in a process of applying an adhesive or a pressure-sensitive adhesive to a pellicle frame by using an automatic application device.例文帳に追加

ペリクルフレームに接着剤、粘着剤を自動塗布装置を用いて塗布する工程において、塗布前に塗布位置を確認する手段を備えたペリクルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography, of which the pellicle frame is not deformed with film tension even in the case of a large frame with ≥300 mm respective edge lengths, and which satisfies a specified dimensional specification and its manufacturing method.例文帳に追加

各辺が300mm以上の大型であっても膜張力でペリクル枠が変形せず、所定の寸法仕様を満たすことのできるリソグラフィ用ペリクル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing support frame for a pellicle which prevents occurrence of haze even under irradiation with high energy light as much as possible by reducing a content of inorganic acids, and a support frame for a pellicle, which is obtained by this method.例文帳に追加

無機酸の含有量を低減して、高エネルギーの光の照射下においてもヘイズの発生を可及的に防止できるペリクル用支持枠の製造方法、及びこれによって得られるペリクル用支持枠を提供する。 - 特許庁

Each of the work base 12 is provided with a pan 12A on which a pellicle frame is mounted in a unlocked state, and a stopper 12B for preventing the pellicle frame from falling.例文帳に追加

ワーク台１２には、ペリクル枠が非拘束状態で載置される受け面１２Ａと、ペリクル枠の落下防止用のストッパー１２Ｂとが設けられている。 - 特許庁

To provide a pellicle storage container having sufficient rigidity that endures against external force during storage or transportation, suppressing drastic inflow of external air upon opening a lid, and preventing deposition of foreign matters on a pellicle.例文帳に追加

本発明は、保管、輸送中の外力に耐える十分な剛性を有し、なおかつ蓋体を開ける際の急激な外気の巻き込みを抑制して、ペリクルへの異物付着を防止するペリクル収納容器を提供する。 - 特許庁