「pellicle」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pellicle configured to prevent a material decomposed from a tacky adhesive or adhesive from being emitted into a space surrounded by the pellicle and a reticle.例文帳に追加

粘着剤もしくは接着剤からの分解物がペリクルとレチクルに囲まれた空間に放出されない構造のペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography that prevents distortion of a mask even when the pellicle is bonded to the mask.例文帳に追加

マスクに貼り付けてもマスクに歪みを与えることの少ないリソグラフィー用ペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle hardly causing adhesive deposit when the pellicle is exfoliated from a mask, and having excellent load resistance.例文帳に追加

マスクからペリクルを剥離する際に糊残りが発生しにくく、且つ、耐荷重性に優れたペリクルを提供する。 - 特許庁

A pellicle support 28 supports one end in an axial direction of a pellicle frame 16 via membrane structures 26.例文帳に追加

ペリクル支持部２８は、膜構造体２６を介してペリクルフレーム１６の軸方向の一方の端部を支持している。 - 特許庁

A surface of the reticle is protected by a pellicle attached thereto with a gas permeable pellicle frame.例文帳に追加

レチクルの表面は、ガス浸透性ペリクル・フレームによりレチクルに取り付けられているペリクルにより保護されている。 - 特許庁

To provide a pellicle paper processing device for making paper directly from a log, and the pellicle paper with an eye-filling grain or the like and a soothing effect.例文帳に追加

丸太を直接ペーパーにする薄皮ペーパー加工装置を提供すると共に、木目等が美しく、癒し効果のある薄皮ペーパーを提供する。 - 特許庁

The pellicle support part 10 has a structure for adjusting the pellicle film face, in parallel with respect to the mask face.例文帳に追加

該ペリクル支持部１０は、ペリクル膜面をマスク面に対して平行に調整する構造となっている。 - 特許庁

To provide a device for peeling a large pellicle in which a pellicle film and a temporary frame can be reliably peeled from a film forming substrate by easy work.例文帳に追加

簡単な作業でペリクル膜及び仮枠を成膜基板から確実に剥離させる大型ペリクル用剥離装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a pellicle frame cleaning method allowing high cleanliness without damaging a surface of a pellicle frame.例文帳に追加

ペリクルフレームの表面にキズを生じさせることがなく、かつ清浄度の高い、ペリクルフレームの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and a device for a mask capable of inspecting both of a pellicle surface and a region out of a pellicle frame.例文帳に追加

ペリクル面の検査及びペリクル枠外の領域の検査の両方を行うことができるマスク検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle that does not impair photomask flatness even when the pellicle is bonded to the mask.例文帳に追加

本発明は、上記の事情に鑑み、ペリクルをマスクに貼着しても、マスクの平坦度が損なわれないようなペリクルを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a pellicle for lithography capable of reducing deformation in an exposure precursor when the pellicle is attached to the exposure precursor.例文帳に追加

ペリクルを露光原版に貼り付けたときの露光原版の変形を低減することができる、リソグラフィ用ペリクルを提供する。 - 特許庁

To suppress distortion of a pellicle due to load in mounting and deformation of a pellicle frame due to residual stress generated in the process of forming ventilating holes.例文帳に追加

マウント時の荷重によるペリクルの歪み、および通気孔形成加工による残留応力のためのペリクルフレームの変形を小さくする。 - 特許庁

To provide a lithography projector which reduces the number of man-hours required to exchange a reticle with a pellicle, with a reticle without a pellicle.例文帳に追加

ペリクル付きレチクルとペリクルなしレチクルの交換のための手間を軽減するリソグラフ投影装置を提供すること。 - 特許庁

A pellicle material used for the pellicle consisting of the material having a spin concentration of ≤1×1013 pieces per g.例文帳に追加

スピン濃度が１ｇ当たり1×10^13個以下の材料である事を特徴とするペリクルに用いられるペリクル材料。 - 特許庁

In the pellicle, the pellicle film has a tensile strength of not less than about 38.25 MPa (390 kgf/cm^2).例文帳に追加

そして、本発明のペリクルは、ペリクル膜の引っ張り強度が約３８．２５ＭＰａ（３９０ｋｇｆ／ｃｍ^2）以上であることを特徴とする。 - 特許庁

A pellicle frame 8 is disposed in the circumference of the hollowed portion 10h, and a protective film 3f is formed in a stretched manner over the pellicle frame 8.例文帳に追加

刳り抜き部１０ｈ外周にペリクルフレーム８を配設してペリクルフレーム８に保護膜３ｆを張設する。 - 特許庁

With a plurality of pairs of the surface acoustic wave elements 20A, 20B provided on the pellicle frame 52, the location of the foreign object on the pellicle film 51 can be specified.例文帳に追加

また、弾性表面波素子２０Ａ，２０Ｂをペリクルフレーム５２に複数組設ければ、ペリクル膜５１上の異物の位置を特定できる。 - 特許庁

Films TSF and CSF having such a stress as to correct the deflection of a pellicle PE are formed on the surface of the pellicle PE.例文帳に追加

ペリクルＰＥの表面に、ペリクルＰＥの撓みを補正する応力を有する膜ＴＳＦ，ＣＳＦを形成する。 - 特許庁

The pellicle 30 has a second joining part 32 to be joined with the pellicle frame 20 by using the magnetized magnetic material.例文帳に追加

ペリクル３０は、磁化された磁性体を用いてペリクルフレーム２０と接合する第２接合部３２を有する。 - 特許庁

To provide a large pellicle having a deformation range preventing a pellicle film from touching a substrate on blowing air.例文帳に追加

エアブロー時にペリクル膜が基板に接触しないような変形範囲を持つ大型ペリクルを提供すること。 - 特許庁

To easily release a pellicle film from a film forming substrate and to prevent decrease in the quality due to deposition of dust on the pellicle film.例文帳に追加

ペリクル膜の成膜基板からの剥離作業を容易にすると共に、ペリクル膜に発塵が付着して品質を低下させることを防止すること。 - 特許庁

To adjust for parallelism between a pellicle film face and a mask face during exposure at lithograph with a pellicle.例文帳に追加

ペリクルを用いたリソグラフィーにおける露光の際に、ペリクル膜面とマスク面との平行度を調整することができるようにする。 - 特許庁

An aligner has a mask-holding part 8, and a pellicle-holding part 9 or a pellicle support part 10.例文帳に追加

露光装置にマスク保持部８と、ペリクル保持部９ないしペリクル支持部１０とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

This pellicle is formed by using a plate of synthetic quartz glass of ≤20 ppm in the content of an OH group as a pellicle film.例文帳に追加

ＯＨ基の含有量が２０ｐｐｍ以下である合成石英ガラスの板をペリクル膜として用いてなる。 - 特許庁

FAR ULTRAVIOLET RAY PELLICLE FOR PHOTOCHEMICALLY STABLE EXCIMER LASER例文帳に追加

光化学的に安定なエキシマレーザー用遠紫外線ペリクル - 特許庁

PELLICLE FOR FLUORINE GAS EXCIMER LASER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

フッ素ガスエキシマレーザー用ペリクルおよびその製造方法 - 特許庁

To provide a pellicle excellent in short-wavelength UV transmittance.例文帳に追加

短波長紫外線の透過性に優れたペリクルを提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, PELLICLE FRAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、ペリクルフレーム、および、半導体装置の製造方法 - 特許庁

MASK HAVING PELLICLE STICKING SEGMENT AND METHOD FOR FIXING THE SAME例文帳に追加

ペリクル貼付部分を有するマスク及びその固定方法 - 特許庁

PELLICLE FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

半導体リソグラフィー用ペリクルおよびその製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK, DEVICE FOR APPLYING AND REMOVING PELLICLE, AND DEVICE FOR PROCESSING SUBSTRATE例文帳に追加

フォトマスク、ペリクル装脱着装置及び基板処理装置 - 特許庁

To provide a pellicle that does not cause haze by including a pellicle frame using a material having a filter function for a member of the pellicle frame, so as to prevent ozone and organic gas from concentrating in a space inside the pellicle film and on the photomask plate.例文帳に追加

オゾンや有機系ガスをペリクル膜の内側とフォトマスクプレート上との空間内で濃縮させないために、ペリクルフレームの部材にフィルター機能を有する素材を用いたペリクルフレームを具備させることで、ＨＡＺＥを発生させないペリクルを提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING FLUORINE-CONTAINING RESIN FILM, AND PELLICLE USING THE SAME例文帳に追加

フッ素含有樹脂膜の製造方法およびそれをもちいたペリクル - 特許庁

The pellicle 4 is attached to a pattern forming surface of a glass photomask plate 5.例文帳に追加

ガラスフォトマスク板５のパターン形成面にペリクル４を取り付ける。 - 特許庁

To facilitate attachment/detachment of a pellicle to/from a photomask substrate.例文帳に追加

フォトマスク基板へのペリクルの装脱着を容易に行えるようにする。 - 特許庁

To attach a pellicle frame to a reticle without using an adhesive.例文帳に追加

接着剤を用いることなく、ペリクルフレームをレチクルに取り付ける。 - 特許庁

ALIGNER, PELLICLE ALTERNATIVE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光装置及びペリクル代替物、半導体装置の製造方法 - 特許庁

A photomask storage device 100 with a pellicle stores the photomask with the pellicle with an internal space of the pellicle composed to communicate with the outside through an atmosphere pressure adjustment hole, and comprises a temperature-change imparting part 100a capable of imparting the temperature change to the photomask with the pellicle.例文帳に追加

ペリクル付きフォトマスク保管装置１００は、ペリクルの内部空間が気圧調整穴を介して外部に連通した構成のペリクル付きフォトマスクを保管しながら、ペリクル付きフォトマスクに対して温度変化を与えることが可能な温度変化付与部１００ａを備える。 - 特許庁

The pellicle to be used in lithography includes: a non-tacky rubber layer disposed on a side of a tacky layer for bonding the pellicle to a mask, the side facing the inner space of the pellicle; and a tacky rubber layer disposed in a side facing the outer space of the pellicle.例文帳に追加

リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、ペリクルをマスクに固定する為の粘着剤層のペリクル内部に面した側に非粘着性のゴム層を配置し、ペリクル外部に面した側に粘着性のゴム層を配置したことを特徴とする。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR ACTIVE PURGING OF PELLICLE VOLUME例文帳に追加

ペリクル容積のアクティブパージのための方法及びシステム - 特許庁

Inorganic materials are used for at least the substance of the pellicle container or the substance of a layer 10 formed on the inner side surface of the pellicle container which houses the pellicle 6 and for the surfaces of the inner side and/or the outer side of the body 8 of the pellicle container made synthetic resin.例文帳に追加

ペリクル容器の材質もしくは合成樹脂製のペリクル容器本体８の内側および／または外側の表面のうち少なくともペリクル６を収納するペリクル容器の内側表面に形成される層１０の材質を無機物とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a pellicle preventing overflowing of an adhesive or a gluing agent from a pellicle frame and discontinuous joint of a coating, at the time of applying a pellicle film adhesive or a mask gluing agent to the pellicle frame.例文帳に追加

ペリクル膜接着剤もしくはマスク粘着剤をペリクルフレームに塗布するに際し、ペリクルフレームから接着剤もしくは粘着剤がはみ出したり、塗布の継ぎ目が不連続になることのないペリクルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent deteriorations of an image due to aberrations occurring at a pellicle.例文帳に追加

ペリクルで生じる収差による、像の劣化を防止すること。 - 特許庁

To provide a protective film material applying nozzle member to a pellicle frame, which is capable of uniformly applying a protective film material on the inside surface of the pellicle frame and keeping the quality of the pellicle, and a protective film material applying method to the pellicle frame.例文帳に追加

本発明は、ペリクル枠の内側面に保護膜材を均一に塗布することが出来、ペリクルの品質を維持することが出来るペリクル枠への保護膜材塗布ノズル部材及びペリクル枠への保護膜材塗布方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁