「pellicle」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

PELLICLE FOR LITHOGRAPHY WITH IMPROVED LIGHT RESISTANCE例文帳に追加

耐光性を改良したリソグラフィー用ペリクル - 特許庁

To provide a pellicle frame body in which a frame is not distorted when a pellicle film is stretched and adhered, and the pellicle frame body itself follows flexure caused by the weight of a mask even after a pellicle is adhered to the mask.例文帳に追加

ペリクル枠体が、ペリクル膜を展張して接着する時に枠体が歪むことなく、さらに、ペリクルをマスクに貼着後もマスクの自重による撓みに対してペリクル枠体自身が追従するペリクル枠体の提供。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING PELLICLE OF MASK例文帳に追加

マスクのペリクル除去装置および方法 - 特許庁

To provide a pellicle capable of reducing the difference in atmospheric pressure between the inside and outside of the pellicle while preventing dust, etc., from entering into the pellicle and also capable of substituting a gas for the gas in the pellicle.例文帳に追加

ペリクル内部に塵埃等が侵入することなく、ペリクル内外の気圧差を緩和し得ると共に、ペリクル内部の気体の置換も可能なペリクルを提供するにある。 - 特許庁

ATTITUDE CONTROL MECHANISM OF PELLICLE STRUCTURE AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

ペリクル構造体の姿勢制御機構及び露光方法 - 特許庁

A pellicle frame of a reticle 20 with a pellicle is constituted of a porous pellicle frame pieces 30a, 30b and an inert gas is supplied into the pellicle space 100 through the porous pellicle frame piece 30a while the inert gas is discharged together with oxygen or the like in the pellicle space 100 through the porous pellicle frame piece 30b.例文帳に追加

ペリクル付きレチクル２０のペリクル枠を多孔質材のペリクル枠片３０ａ、３０ｂで構成し、多孔質ペリクル枠片３０ａを通してペリクル空間１００に不活性ガスを供給し、多孔質ペリクル枠片３０ｂを通してペリクル空間１００内の酸素等とともに不活性ガスを排出する。 - 特許庁

In the method for carrying a large pellicle, having a pellicle film disposed on the upper face of a pellicle frame and a tacky adhesive face formed on the lower face of the pellicle frame to adhere to a photomask, the pellicle is carried, while the lower face of the pellicle frame is partially adhered temporarily to the surface of a carrying tool for the large pellicle.例文帳に追加

ペリクルフレーム上面にペリクル膜を設け、前記ペリクルフレーム下面にフォトマスクに接着するための粘着面を形成してなる大型ペリクルの搬送方法において、前記ペリクルフレーム下面の一部を前記大型ペリクルの搬送用治具の表面に一時的に粘着させて搬送することを特徴とする。 - 特許庁

The method for housing a pellicle 5 comprising a pellicle film 5a, a frame 5b with the pellicle film stuck to one end face, and an adhesive layer formed on the other end face of the frame into a pellicle container 3 is characterized in that the pellicle is housed into the pellicle container with the film face of the pellicle film substantially along a vertical direction.例文帳に追加

ペリクル膜５ａと、一方の端面に、ペリクル膜が接着されたフレーム５ｂと、フレームの他方の端面に、粘着層が形成されたペリクル５をペリクル容器３に収納する方法であって、ペリクル膜の膜面が実質的に鉛直方向を向くように、ペリクルをペリクル容器内に収納することを特徴とするペリクルのペリクル容器への収納方法。 - 特許庁

The pellicle structure consisting of a pellicle frame 3 and a pellicle plate 4 adhered atop the pellicle frame 3 has a gas introducing hole 1 for introducing the gas into the pellicle structure in the state that the pellicle structure is mounted to a mask 5 and a gas discharge hole 2 for discharge the gas from the inside of the pellicle structure.例文帳に追加

ペリクルフレーム３とペリクルフレーム３の上面に接着されたペリクル板４とからなるペリクル構造体であって、マスク５にペリクル構造体が装着された状態でペリクル構造体内部にガスを導入するためのガス導入孔１とペリクル構造体内部からガスを排出するためのガス排出孔２とを有する。 - 特許庁

The pellicle for photolithography comprises the above pellicle frame the recessed groove of which is coated or filled with a pellicle film adhesive and/or a mask adhesive, and a pellicle film stuck to the frame with the pellicle film adhesive.例文帳に追加

及び、上記ペリクルフレームを具備し、前記凹状の溝にペリクル膜接着剤及び／またはマスク粘着剤が塗布もしくは充填され、前記ペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が貼り付けられているものであることを特徴とするフォトリソグラフィー用ペリクル。 - 特許庁

In the pellicle for lithography consisting essentially of a pellicle membrane and a pellicle frame, the pellicle membrane stretched on the pellicle frame comprises an amorphous perfluoropolymer and the terminal groups of the perfluoropolymer have been fluorinated.例文帳に追加

本発明のリソグラフィー用ペリクルは、少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリクル膜が、非晶質パーフルオロポリマーからなり、該ポリマーの末端基がフッ素化されていることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a pellicle adhesive which ensures stable adhesive strength, does not cause photodegradation and decomposition, does not damage a pellicle membrane and has a long service life and high performance and a pellicle obtained by bonding a pellicle membrane to pellicle frame with the adhesive.例文帳に追加

安定した接着強度が得られ、また光劣化したり分解したりすることが無く、ペリクル膜にダメージを与えることがないとともに、寿命が長く高性能なペリクル接着剤と、これを用いてペリクル膜をペリクル枠に接着したペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle frame which minimizes deformation of an exposure original plate caused by deformation of the pellicle frame even when the pellicle is stuck to the exposure original plate, and to provide a pellicle for lithography, having the above pellicle frame.例文帳に追加

ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及びこのようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle frame that can decrease as much as possible deformation of an exposure master plate due to deformation of the pellicle frame even if a pellicle is affixed to the exposure master plate, and to provide a lithographic pellicle having the pellicle frame.例文帳に追加

ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及び、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供すること。 - 特許庁

To provide a pellicle frame capable of suppressing deformation of the pellicle frame due to thermal deformation and, even when a pellicle is attached to an exposure precursor, capable of minimizing the deformation of the exposure precursor due to the deformation of the pellicle frame, and to provide a method of fabricating the pellicle frame.例文帳に追加

熱変形によるペリクルフレームの変形を抑制し、ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるペリクルフレームおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This pellicle for lithography and mitigating method of warp of pellicle film is featured in that the glass sheet is used as the pellicle film of the pellicle for lithography, the warp is previously formed in the glass sheet and the glass sheet is stuck to the pellicle frame in such a manner that the concave face of the glass sheet is faced upward.例文帳に追加

リソグラフィー用ペリクルのペリクル膜としてガラス板を使用するペリクルにおいて、ガラス板に予め反りを形成し、該ガラス板の凸面が上方になるようにペリクルフレームに貼り付けて成るリソグラフィー用ペリクルおよびペリクル膜の反りの緩和方法。 - 特許庁

The pellicle is provided with a shielding means for shielding at least one layer of a tacky adhesive layer 4 for fitting the reticle 5 with the pellicle and an adhesive layer 2 for adhering a pellicle film 1 to a pellicle frame 3 from the irregularly reflected light from the space enclosed by the pellicle and the reticle 5.例文帳に追加

ペリクルをレチクル５に装着するための粘着剤層４およびペリクル膜１をペリクルフレーム３に接着する接着剤層２のうち少なくとも一つの層を、ペリクルとレチクル５に囲まれた空間からの乱反射光から、遮蔽するための遮蔽手段を設ける。 - 特許庁

In a pellicle 42 having a rectangular pellicle frame 10 to which a pellicle film 44 is attached, a plurality of linear reinforcement bodies 12 having a thickness of 100 μm at maximum are contained in the pellicle film 44 and provided in a tensioned state between long sides, facing each other, of the pellicle frame 10.例文帳に追加

ペリクルは、長方形状のペリクルフレーム１０にペリクル膜４４が貼付されたペリクル４２であって、複数本の太さが最大でも１００μｍの線状補強体１２が、ペリクル膜４４内に包有されて、ペリクルフレーム１０の互いに対向する長辺間に張設されている。 - 特許庁

A method for peeling a pellicle comprises: mounting and fixing a mask 1 on a hot plate; softening and melting an adhesive which fixes a pellicle to the mask; gripping and peeling the pellicle in a prescribed length; and inserting an adhesive winding means 12 into the gap and winding up the pellicle adhesive to peel the pellicle.例文帳に追加

マスク１を熱板に載置して固定し、ペリクルをマスクに固定する粘着剤を軟溶化して、ペリクルを把持して所定長移動し、そのギャップに粘着剤巻き取り手段１２を挿入してペリクル粘着剤を巻き取って剥離する。 - 特許庁

In the pellicle including a pellicle film, a pellicle frame having the pellicle film stretched over one end face thereof and having the other end face open, and an adhesion layer for sealing the pellicle frame to the mask; the adhesion layer is provided on an inner peripheral face of the pellicle frame so as to be capable of adhering to a side face of a mask having a mask image on a front face.例文帳に追加

ペリクル膜と、前記ペリクル膜が一端面に張設され他端面が開放されたペリクルフレームと、前記ペリクルフレームをマスクにシールするための粘着層とを有し、前記粘着層が、表面にマスク画像を有するマスクの側面と粘着可能に前記ペリクルフレームの内周面に設けられたことを特徴とするペリクル。 - 特許庁

This pellicle attaching device is a device for attaching a pellicle including a pellicle frame 120 onto a reticle 140, and is provided with a pellicle pressurizing plate 110 constituted to apply respective individual pressures onto the pellicle frame 120, on a plurality of points or faces within an area with the pellicle frame 120 attached to the reticle 140.例文帳に追加

レチクル１４０上にペリクルフレーム１２０を含むペリクルを付着する装置であって、ペリクルフレーム１２０がレチクル１４０に付着される領域中の複数の点または面にそれぞれ個別的な圧力をペリクルフレーム１２０上に印加できるように構成されたペリクル加圧板１１０を備えるペリクル付着装置である。 - 特許庁

The large pellicle, having a pellicle film disposed on the upper face of a pellicle frame, has the lower face of the pellicle frame divided into at least two regions; and a first tacky adhesive face to finally adhere the pellicle frame to a photomask and a second tacky adhesive face protruding from the first tacky adhesive face and to temporarily fix the pellicle frame formed in the respective regions.例文帳に追加

ペリクルフレーム上面にペリクル膜を設けた大型ペリクルにおいて、前記ペリクルフレーム下面を少なくとも２つの領域に分け、それぞれの領域に前記ペリクルフレームを最終的にフォトマスクに接着させるための第１の粘着面と、該第１の粘着面より突出させて、前記ペリクルフレームを一時的に固定するための第２の粘着面とを形成したことを特徴とする。 - 特許庁

A pellicle frame 6 of the pellicle is pressed towards the exposure original plate by a pressure plate 2 via a plurality of spring members 13 that are mounted on the surface of the pressure plate 2 facing the pellicle frame 6 along the side of the pellicle frame 6 that forms the frame shape of the pellicle, so as to face the pellicle frame 6.例文帳に追加

加圧板２のペリクルフレーム６に対向する面に、ペリクルのフレーム形状をなしたペリクルフレーム６の辺に沿って、ペリクルフレーム６に対向するように取り付けられた複数のばね部材１３を介して、加圧板２によって、ペリクルのペリクルフレーム６を露光用原版に向けて押圧する。 - 特許庁

The aligner has a support base for holding a reticle with a pellicle; a nozzle that is made opposite to the gas flowing-in port and the gas flowing-out port, made in a pellicle frame, and supplies the inert gas to the pellicle space surrounded by the reticle, the pellicle frame and a pellicle film; and a nozzle that discharges gas in the pellicle space.例文帳に追加

本発明の露光装置は、ペリクル付レチクルを保持する支持台と、ペリクル枠に設けられたガス流入口およびガス流出口に対向して設けられ、レチクルとペリクル枠とペリクル膜とで囲まれたペリクル空間内に不活性ガスを供給するノズルと、ペリクル空間内のガスを排出するノズルとを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pellicle which releases little amount of acid and ammonium ion, and exhibits superior detectability with a pellicle detection sensor.例文帳に追加

ペリクルからの酸及びアンモニウムイオンの放出が少なく、かつ、ペリクル検出センサーによる検出性に優れるペリクルを提供すること。 - 特許庁

PELLICLE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK PROVIDED WITH PELLICLE, EXPOSING METHOD USING PHOTOMASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク用ペリクル、ペリクルを備えたフォトマスク、フォトマスクを用いた露光方法、および半導体装置 - 特許庁

To obtain a pellicle provided with a pellicle film capable of the lowering of transmittance to light for exposure having a short wavelength.例文帳に追加

短波長の露光光に対して、透過率劣化の進行を遅らせることができるペリクル膜を備えたペリクルを提供する。 - 特許庁

Imparting the temperature change to the photomask with the pellicle ventilates the atmosphere in the pellicle through the atmosphere pressure adjustment hole.例文帳に追加

ペリクル付きフォトマスクに温度変化を与えることによって、気圧調整穴を介してペリクル内の雰囲気を換気する。 - 特許庁

In addition, in the pellicle used in the semiconductor lithography, the flatness of the pellicle frame is ≤15 μm.例文帳に追加

また、半導体リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、そのペリクルフレームの平坦度が１５μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To prevent the deterioration of an adhesive which bonds a pellicle membrane to a pellicle frame by UV radiated for cleaning.例文帳に追加

洗浄のために照射される紫外線によるペリクル膜とペリクルフレームとを接着する接着剤の劣化を防止する。 - 特許庁

The whole photomask with the pellicle film, especially with the photomask which contains the organic material pellicle film is purged by an inert gas mixed with a small amount of an active gas.例文帳に追加

ペリクル膜、特に有機材料ペリクル膜を有したフォトマスク全体を、微量の活性ガスを混合した不活性ガスによりパージする。 - 特許庁

To permit efficient inert gas purging within a pellicle space enclosed by a reticle and a pellicle film.例文帳に追加

レチクルとペリクル膜とで囲まれたペリクル空間内の不活性ガスパージを効率良く行うことを可能とする。 - 特許庁

The pellicle is likewise provided with a means for hermetically closing at least the one layer from the space enclosed by the pellicle and the reticle 5.例文帳に追加

また、同じく少なくとも一つの層を、ペリクルとレチクル５に囲まれた空間に対し、密閉するするための手段を設ける。 - 特許庁

To provide a mask having pellicle sticking segments which allow the adequate peeling of a pellicle from the surface of a mask substrate and a method for fixing the same.例文帳に追加

マスク基板上からのペリクルの剥がれを適切になし得るペリクル貼付部分を有するマスク及びその固定方法を提供する。 - 特許庁

The pellicle is used by replacing the gas in the space enclosed by the pellicle and an exposure original plate with the inert gas.例文帳に追加

また、ペリクルと露光原版とに囲まれた空間内の気体を不活性ガスに置換してペリクルを使用する。 - 特許庁

To obtain smoothness of a mask surface to which a pellicle is attached, wherein the smoothness is not dependent on the smoothness of an end face of a pellicle frame.例文帳に追加

本発明は、ペリクルフレーム端面の平滑度に依存しない、ペリクルが貼付されたマスクの表面の平滑性を実現することを課題とする。 - 特許庁

Thereby, a spread state of adhesive on the pellicle frame can be observed without approaching the pellicle.例文帳に追加

これにより、ペリクルに近接することなくペリクル枠上の接着剤の広がりを観察することができる。 - 特許庁

The surface of reticle is protected by a pellicle fitted to the reticle by a gas-permeable pellicle frame.例文帳に追加

レチクルの表面は、ガス浸透性ペリクル・フレームによりレチクルに取り付けられているペリクルにより保護されている。 - 特許庁

To provide a pellicle that prevents clouding in a photomask caused by a pellicle and decreases the number of mask cleaning times.例文帳に追加

ペリクルに起因するフォトマスクの曇りを防止し、フォトマスクの洗浄の回数を少なくするペリクルを提供する事を目的とする。 - 特許庁

The beam 2 which is constituted of a material having smaller ductility or malleability and larger hardness than the pellicle film 1, is attached to the pellicle film 1.例文帳に追加

ペリクル膜１には、ペリクル膜１に比して延性或いは展性が小さく硬度の高い材料で構成された梁２を取り付ける。 - 特許庁

To provide a pellicle mirror which prevents curl of a substrate and is simply manufactured, and to provide an imaging apparatus using the pellicle mirror.例文帳に追加

基板のカールを防止するとともに簡便に作製することができるペリクルミラー及び該ペリクルミラーを用いた撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle frame that causes less harm to mask flatness even when a pellicle is stuck after a mask is finished.例文帳に追加

マスクが完成した後にペリクルを貼り付けても、マスクの平坦度を悪化させることの少ないペリクルフレームを提供する。 - 特許庁

In a preferred pellicle, a three-layer pellicle is provided having a transparent inorganic layer 4 sandwiched between two polymer layers 12a and 12b.例文帳に追加

好ましいペリクルでは、２つのポリマー層に挟まれた透明な無機層を有する３層ペリクルが提供される。 - 特許庁

SUPPORT FRAME FOR PELLICLE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PELLICLE, AND METHOD OF MANUFACTURING SURFACE TREATED ALUMINUM MATERIAL例文帳に追加

ペリクル用支持枠とその製造方法及びペリクル並びに表面処理アルミニウム材の製造方法 - 特許庁

To efficiently obtain a pellicle frame having high flatness and parallelism of the top and bottom faces in a method for producing a pellicle frame using quartz glass as a substrate.例文帳に追加

石英ガラスを基材としたペリクルフレームの製造方法において上下面の平坦度、平行度の高いものを効率的に得る。 - 特許庁