「pellicle」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

However, the remaining pellicle plate material 23 may have a thickness smaller than 200 μm or greater than 900 μm depending on the predetermined desired thickness of the bottom optical pellicle portion of the resultant pellicle 20 as well as its ultimate use.例文帳に追加

しかしながら、残ったペリクル・プレート材料２３は、その最終的な使用だけではなく、結果として得られるペリクル２０底部の光学ペリクル部分の予め決められた所望の厚さに応じて、２００μｍより薄いか、又は９００μｍより厚い厚みを有することができる。 - 特許庁

Preferably the thickness of the pellicle film is 1 to 500 μ, the variation in the thickness of the pellicle film is ≤0.5 μ and the variation in the OH group content within the surface of the synthetic quartz glass constituting the pellicle film is ≤10 ppm.例文帳に追加

ペリクル膜の厚さが１〜５００μｍであること、ペリクル膜の厚さのばらつきが０．５μｍ以下であること、ペリクル膜を構成する合成石英ガラスの、面内のＯＨ基含有量のばらつきが１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

In the pellicle with a pellicle membrane stretched on one opening of a pellicle frame and an adhesive layer for attachment to a mask disposed on the other opening, a temperature-sensitive adhesive whose adhesive power varies in accordance with the environmental temperature is used in the adhesive layer.例文帳に追加

ペリクル枠の一方の開口部にペリクル膜が張設され，もう一方の枠の開口部にマスクへ装着するための粘着層が設けられているペリクルにおいて，環境の温度により粘着力が変化する感温性粘着材を粘着層に使用する事を特徴とするペリクル。 - 特許庁

The lower end of a pellicle frame 4 disposed so as to enclose a pattern 3 formed on the top of a reticle 2 is joined to the top of the reticle 2 with an adhesive layer 6 and a pellicle film 8 is joined to the upper end of the pellicle frame 4.例文帳に追加

レチクル２の上面に形成されたパターン３を囲うように配置されたペリクル枠４の下端面が接着剤層６によりレチクル２の上面と接合されており、ペリクル枠４の上端面にはペリクル膜８が接合されている。 - 特許庁

METHOD FOR EXPOSURE PROCESSING USING SHORT WAVELENGTH LASER LIGHT AND METHOD FOR STORING PELLICLE FOR SHORT WAVELENGTH EXPOSURE例文帳に追加

短波長レーザー光を用いた露光処理方法および短波長露光用ペリクルの保管方法 - 特許庁

The pellicle is a thin film comprising silicon dioxide obtained by oxidizing and hardening polysilazane.例文帳に追加

ポリシラザンの酸化硬化により得られる二酸化ケイ素からなる薄膜であるペリクル。 - 特許庁

To eliminate water molecules adsorbed to the reticle substrate and the pellicle of a reticle.例文帳に追加

レチクルのレチクル基板及びぺリクルに吸着した水分子を除去する。 - 特許庁

To provide a photomask in which a pellicle can be easily removed from the photomask after use.例文帳に追加

使用後のフォトマスクからペリクルを容易に除去できるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

Consequently, the pellicle frame 110 is reliably stuck to the photomask by the double-sided tape 130.例文帳に追加

その結果、ペリクル枠110が両面テープ130によってフォトマスクに確実に貼り付けられる。 - 特許庁

The detection of large air bubbles indicates that the photodestruction was conducted in the interface 58 between the pellicle layers.例文帳に追加

大きい気泡が検出されれば、薄膜層間の界面５８で光破壊が行われたことを示す。 - 特許庁

If a pellicle exists in an optical path, a substantial shift occurs in the position of the pattern surface of the reticle.例文帳に追加

光路内にペリクルが存在すると、レチクルのパターン面の位置に実質上のずれが生じる。 - 特許庁

To provide a pellicle that can be reliably stuck to a photomask without using a press machine.例文帳に追加

プレス機を使うことなく、フォトマスクに確実に貼り付けることができるペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a photomask capable of suppressing influences of exposure light on a pellicle adhesion part.例文帳に追加

ペリクル接着部に対する露光光の影響を抑制できるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

After the air in the groove 111 is discharged, the pellicle frame 110 is pressed to the photomask by atmospheric pressure.例文帳に追加

溝111内の空気を排気すると、大気圧によってペリクル枠110がフォトマスクに対して押しつけられる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PURIFIED FLUORINE-CONTAINING POLYMER, PELLICLE AND EXPOSURE PROCESSING METHOD例文帳に追加

精製された含フッ素重合体の製造方法、ペリクルおよび露光処理方法 - 特許庁

LITHOGRAPHY APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, MASK, METHOD OF CHARACTERIZING MASK AND/OR PELLICLE例文帳に追加

リソグラフ装置、デバイス製造方法、マスク、及びマスク及び／又はペリクルを特徴付ける方法 - 特許庁

ULTRA-VIOLET LIGHT TRANSMISSIVE FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND PELLICLE MADE OF SAME POLYMER例文帳に追加

紫外光透過性含フッ素重合体および該重合体からなるペリクル - 特許庁

The pellicle frame 1 is adhered onto the mask substrate 5 by a sticking pressure 6.例文帳に追加

ペリクルフレーム１は、貼り付け圧力６によりマスク基板５上に接着される。 - 特許庁

To easily and reliably remove a pyrolytic contaminant without peeling a pellicle.例文帳に追加

ペリクルを剥がすことなく簡便かつ確実に熱分解性の汚染物質を除去すること。 - 特許庁

To attach a pellicle to a reticle while reducing the influence of an adhesive on a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンに及ぼす接着剤の影響を軽減しつつ、ペリクルをレチクルに取り付ける。 - 特許庁

CORRECTING APPARATUS FOR OPTICAL MEMBER, CORRECTION METHOD THEREFOR AND CORRECTING APPARATUS FOR PELLICLE USING THE METHOD例文帳に追加

光学部材の修正装置及びその修正方法及びそれを用いたペリクルの修正装置 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for removing a pellicle from a mask without contamination or damages.例文帳に追加

ペリクルを汚染または損傷することなく、マスクから除去する装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle having a pressure-sensitive adhesive excellent in adsorption performance of organic gas.例文帳に追加

有機ガスの吸着性能に優れた粘着剤を有するペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a pellicle capable of preventing effectively occurrence of haze on a photomask.例文帳に追加

フォトマスク上のヘイズの発生を効果的に防止するペリクルを提供。 - 特許庁

The foreign matter removing apparatus 10 further includes an ionizer 12 which eliminates static electricity between the pellicle 22 and foreign matters 25.例文帳に追加

また、ペリクル２２と異物２５との間の静電気を除去するイオナイザ１２をさらに備える。 - 特許庁

An adhesive layer 20 deforms following fluctuation in the flatness at the other end in the axial direction of the pellicle frame.例文帳に追加

接着剤層２０は、軸方向の他方の端部の平坦度のばらつきに追従して変形する。 - 特許庁

The pellicle frame is preferably made of an aluminum alloy having an anodized surface.例文帳に追加

前記ペリクルフレームの材質が、表面をアルマイト処理したアルミニウム合金であることが好ましい。 - 特許庁

The pellicle 5 for lithography having a frame 6, and a pellicle film 7 stuck on one surface of the frame 6 is constituted so that the pellicle film 7 is stuck on one surface of the frame 6 by an adhesive layer comprising an adhesive having a low creep resistance, and that tension of the pellicle film 7 is lowered gradually as the time elapses.例文帳に追加

フレーム６と、フレーム６の一方の表面に接着されたペリクル膜７を有し、ペリクル膜７が、耐クリープ性の低い接着剤よりなる接着剤層によって、フレーム６の一方の表面に接着され、時間経過とともに、ペリクル膜７の張力が徐々に低下するように構成されたリソグラフィー用ペリクル５。 - 特許庁

To provide a reliable pellicle having no possibility of dust generation from a vent hole or filter during use.例文帳に追加

使用中に通気孔やフィルタから発塵する恐れの無い信頼性の高いペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a method for easily obtaining a pellicle for sensitivity verification which is attached with a desired number of standard particles.例文帳に追加

所望する個数の標準粒子が付着した感度検定用のペリクルを簡便に得ること - 特許庁

A pellicle housing case 1 is equipped with a pellicle mounting surface 2 trapezoidal in cross section at the center and protrudent posts 3 located at the peripheral edge of the mounting surface 2, where a rib 4 half or above as high as the thickness of the pellicle mounting surface 2 is provided to the pellicle mounting surface 2.例文帳に追加

中央部に台状のペリクル搭載面２を有し、かつこのペリクル搭載面２の周りに複数の突起状のポスト３を有するペリクル収納ケースのトレイ１に於いて、前記ペリクル搭載面２にペリクル搭載面２の板厚の５０％以上の高さを有するリブ４を設けて構成したペリクル収納ケースの構造である。 - 特許庁

A method is provided to reduce differences between the way in which reticle holding forces and gravity force act upon the reticle during use and during assembly of the pellicle, and to combine this with a similar reduction concerning pellicle holding forces and gravity force acting upon the pellicle during bonding to the reticle and during quality control of the pellicle.例文帳に追加

表皮部材の使用中と組立中にレチクル把持力および重力がレチクルに作用する方法の違いを減少させ、これを、レチクルに接合する間、および、表皮部材の品質管理を行なう間に、表皮部材に作用する表皮部材の把持力と重力に関する同様な違いの減少と組み合わせる方法が提供される。 - 特許庁

While a pellicle frame is kept in a cleaning jig, ultrapure water is made flow upward from below the pellicle frame so that the pellicle frame floats off the cleaning jig to perform ultrasonic cleaning, where the flow velocity of ultrapure water flowing upward from below the pellicle frame is preferably in the range of 5-25 mm/sec.例文帳に追加

ペリクルフレームを洗浄治具に保持し、該ペリクルフレームの下方から上方に向けて超純水を流しながら、該ペリクルフレームを該洗浄治具から浮いた状態にして、超音波洗浄を行うことを特徴とし、ペリクルフレームの下方から上方に向けて流す超純水の流速は、５mm／sec〜２５mm／secの範囲が好ましい。 - 特許庁

To generate no strain on a mask even when a pellicle is stuck on the mask.例文帳に追加

本発明は、マスクにペリクルを貼り付けても、マスクに歪みが生じないようにすることを課題とする。 - 特許庁

To prevent deposition of foreign matters on a mask or damages on the mask when peeling a pellicle from the mask.例文帳に追加

ペリクルをマスクから剥がす際に、異物がマスクに付着したりマスクを傷つけることを防止する。 - 特許庁

PELLICLE STRUCTURE AND SYSTEM FOR CHECKING INTERNAL ATMOSPHERE THEREOF, AND METHOD FOR DECIDING ATMOSPHERE REPLACEMENT例文帳に追加

ペリクル構造体及びその内部の雰囲気確認システム並びに雰囲気置換判定方法 - 特許庁

A mask 102 with a pellicle is housed in a hermetic case 103 and the content of the case 103 is replaced with nitrogen.例文帳に追加

ペリクル付きマスクを密封ケースに収納するとともにケース内を窒素置換する。 - 特許庁

To couple a reticle, pellicle and frame by an easy form in a photolithographic system.例文帳に追加

フォトリソグラフィシステムにおいてレチクルと、ペリクルと、フレームとを容易な形式で結合する。 - 特許庁

The heating temperature is preferably lower than the temperature of a glass transition point of the pellicle film.例文帳に追加

加熱する温度が、ペリクル膜のガラス転移点未満の温度であることが好ましい。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask includes a step of mounting a pellicle on an exposure mask, wherein in the step (S110) of mounting the pellicle, a first humidity in the environment where the pellicle is exposed is controlled to be lower than a second humidity in the environment where an exposure mask mounting the pellicle is exposed in a predetermined exposure apparatus.例文帳に追加

本発明の一形態のマスクの製造方法は、露光マスクにペリクルを装着する工程を含むマスクの製造方法において、前記ペリクルを装着する工程（Ｓ１１０）において前記ペリクルが曝される雰囲気の第１の湿度を、前記ペリクルが装着された前記露光マスクが所定の露光装置内で曝される雰囲気の第２の湿度よりも低く制御する。 - 特許庁

The pellicle storage container comprises: a container body mounting a pellicle; and a cap body covering and holding the pellicle and fitted and rocked at the rim with the container body, wherein the cap body is preliminarily designed and manufactured in a convex form so as to prevent the cap body from bending by gravity to adhere to the pellicle.例文帳に追加

ペリクルを載置する容器本体と、ペリクルを被覆・保持すると共に容器本体と互いに周縁部で嵌合係止する蓋体とからなるペリクル収納容器であって、蓋体が自重によりたわんでペリクル膜に付着することがないよう予め凸形状に設計、製作したことを特徴とするペリクル収納容器。 - 特許庁

On a reticle support base 28, a reticle 23 with a pellicle is movably mounted and then the inert gas supply part 29 and an inert gas discharge part 37 are driven so as to sandwich the pellicle frame 25 to position the pellicle frame 25 and also bring the inert gas supply part 29 and inert gas discharge part 37 into contact with the pellicle frame 25.例文帳に追加

レチクル支持台２８上にペリクル付きレチクル２３を移動可能な状態で載置し、その後、ペリクル枠２５を挟むように、不活性ガス供給部２９及び不活性ガス排気部３７を駆動し、ペリクル枠２５を位置決めするとともに、ペリクル枠２５に不活性ガス供給部２９及び不活性ガス排気部３７を密着させる。 - 特許庁

PELLICLE STRUCTURE, SYSTEM FOR CHECKING INTERNAL ATMOSPHERE THEREOF AND METHOD FOR DETERMINING DISPLACEMENT OF ATMOSPHERE例文帳に追加

ペリクル構造体及びその内部の雰囲気確認システム並びに雰囲気置換判定方法 - 特許庁

DIE COATER-USED COATING METHOD, AND PHOTO-LITHOGRAPHIC PELLICLE PRODUCED BY THE METHOD例文帳に追加

ダイコータの塗工方法およびこの方法によって作製されたフォトリソグラフィ用ペリクル - 特許庁

To ensure transfer precision by preventing deformation such as distortion, vibration of a film surface of a pellicle film.例文帳に追加

ペリクル膜の膜面の撓み、振動といった変形を防いで、転写精度を確保する。 - 特許庁