「silica chemical」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The chemical mechanical polishing method comprises a chemical mechanical polishing step employing a water based dispersing element for chemical mechanical polishing containing abrasive grains (dispersing element containing silica particles), and a non-chemical mechanical polishing step employing an aqueous solution for non-chemical mechanical polishing.例文帳に追加

本化学機械研磨方法は、砥粒を含む化学機械研磨用水系分散体（シリカ粒子含有分散体）を用いた化学機械研磨工程と、上記非化学機械研磨用水溶液を用いた非化学機械研磨工程と、を備える。 - 特許庁

To prepare a silica gel composite membrane having chemical stability and electrical properties both inherent in silica gel, and easily handleable as well.例文帳に追加

シリカゲルが本来有する化学的安定性、電気的性質を有し、しかもハンドリングしやすいシリカゲル膜を提供する。 - 特許庁

The silica is used as the best-suited material in all of the cases, since the surface of the silica offers appropriate chemical environments and is of an appropriate pore structure.例文帳に追加

シリカは、その表面が適した化学的環境であり、適した孔構造であることから、全てのケースで最良の材料として使用される。 - 特許庁

Preferably, the aqueous chemical treatment liquid further contains silica of 0.5 to 10 g/L.例文帳に追加

前記水性化成処理液は、好ましくは、シリカを０．５〜１０ｇ／Ｌさらに含む。 - 特許庁

COMPOSITION AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF SILICA AND SILICON NITRIDE例文帳に追加

シリカ及び窒化ケイ素のケミカルメカニカルポリッシングのための組成物及び方法 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition method providing porous silica glass films with improved characteristics.例文帳に追加

特性の向上した多孔性シリカガラスフィルムを提供する化学気相蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a porous organic silica glass film with low dielectric constant, improved chemical property, thermal stability and chemical tolerance.例文帳に追加

低い誘電率および改良された機械的性質、熱的安定性および化学的耐性を有する多孔質有機シリカガラス膜を提供する。 - 特許庁

The chemical conversion film contains no organic component and the silica component selected from silica sol and fumed silica, in addition to the oxide and hydroxide of the valve metal such as Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo or W.例文帳に追加

化成皮膜は、有機成分を全く含まず、Ti，Zr，Hf，V，Nb，Ta，Mo，W等のバルブメタルの水酸化物，酸化物に加えてシリカゾル，フュームドシリカから選ばれたシリカ成分を含んでいる。 - 特許庁

To provide a silica layer having an excellent chemical resistance even when the silica layer is formed by a plasma enhanced CVD process and to provide an antireflection film utilizing this silica layer.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により形成した場合であっても耐薬品性に優れているシリカ層を提供すること、及び当該シリカ層を利用した反射防止フィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide: a porous silica precursor composition for obtaining a porous silica film increased in film strength and improved in chemical liquid resistance and preparation method thereof; a porous silica film prepared by using the precursor composition and preparation method thereof; and a semiconductor element obtained by using the porous silica film.例文帳に追加

膜強度を高くし、薬液耐性を向上させたポーラスシリカ膜を得るためのポーラスシリカ前駆体組成物及びその作製方法、この前駆体組成物を用いて作製したポーラスシリカ膜及びその作製方法、並びにこのポーラスシリカ膜を用いて得られた半導体素子の提供。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing that reduces metal contamination in a wafer for forming a device and has improved storage stability of silica particles, and to provide a chemical mechanical polishing method using the aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing.例文帳に追加

デバイス化用ウエハの金属汚染が低減され、かつ、シリカ粒子の保存安定性に優れた化学機械研磨用水系分散体、およびこれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

A chemical-mechanical polishing composition contains methanesulfonic acid, an alkali metal ion, an oxidizing agent, a silica abrasive, and water; and has a pH of 8 to 12.例文帳に追加

メタンスルホン酸、アルカリ金属イオン、酸化剤、シリカ研磨材、水を含有し、且つｐＨが８〜１２である、化学的機械的研磨組成物とする。 - 特許庁

A drying and reaction vessel 30 drys the applied poly silazane solution and forms a silica layer by converting into ceramic by a chemical reaction.例文帳に追加

乾燥反応槽３０は、塗布されたポリシラザン溶液を乾燥すると共に化学反応させてセラミック化することによりシリカ層を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of hydrogen separation membrane capable of forming a silica separation membrane having high hydrogen selective permeability by a CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

CVD法により高い水素選択透過性を有するシリカ分離膜を形成せしめる水素分離膜の製造法を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF SILICA AND SILICON NITRIDE WITH IMPROVED END-POINT DETECTION例文帳に追加

改良された終点検出を有する、シリカ及び窒化ケイ素をケミカルメカニカル研磨するための組成物 - 特許庁

To provide a porous silica membrane which includes surface chemical modification groups in a large amount and has pores suitable for membrane emulsification.例文帳に追加

本発明は、表面化学修飾基を多量に含み、膜乳化に適した細孔を有する多孔質シリカ膜を提供する。 - 特許庁

The silica particles (A) have such a chemical property that the number of silanol groups calculated from a signal area of ^29Si-NMR spectrum is 2.0-3.0×10^21 pieces/g.例文帳に追加

^２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナル面積から算出されるシラノール基数が、２．０〜３．０×１０^２１個／ｇである。 - 特許庁

The silica particles (A) have such a chemical property that the number of silanol groups as calculated based on the signal area of the ^29Si-NMR spectrum is within the range from 2.0×10^21 to 3.0×10^21 groups/g.例文帳に追加

^２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナル面積から算出されるシラノール基数が、２．０〜３．０×１０^２１個／ｇである。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing a compound of chemical formula (II) [wherein, E is a 1-6C alkyl group which may have a substituent] by a short process without using a silica gel and methylene chloride.例文帳に追加

下記化学式（ＩＩ）の化合物の短工程・高効率で、シリカゲルおよび塩化メチレンを使用しない製造法を見出すこと。 - 特許庁

The coagulant can be produced using CMP (chemical-mechanical polishing) discharge water containing a large amount of silica as a material.例文帳に追加

また、この凝集剤は、シリカ分を多量に含むＣＭＰ排水を材料として生成することができる。 - 特許庁

At least one layer in the recording layer is a recording layer comprising a colloidal silica and a cationic chemical as main ingredients.例文帳に追加

該記録層中の少なくとも１層がコロイダルシリカとカチオン性薬品を主成分とする記録層である。 - 特許庁

To provide a silica-based material having strong mechanical strength and large specific surface area and also excellent chemical stability.例文帳に追加

機械的強度が強く、かつ比表面積も大きなシリカ系材料であって、しかも化学的安定性に優れたシリカ系材料を提供すること。 - 特許庁

The silica particles (A) have such chemical properties that the number of silanol groups calculated based on the signal area of a ^29Si-NMR spectrum is 2.0 to 3.0×10^21 groups/g.例文帳に追加

^２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナル面積から算出されるシラノール基数が、２．０〜３．０×１０^２１個／ｇである。 - 特許庁

This chemical-holding material 1 is composed of a fabric in which liquid antimicrobial sorptive silica gel particle 3 is fixed on the surface of sheet-like base material 5.例文帳に追加

薬剤担持資材１は、液状抗菌剤を収着したシリカゲル粒子３をシート状基材５の表面に固着した構造になっている。 - 特許庁

The aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing polishes a copper film containing a silica particle (A) and an amino acid (B), where the silica particle (A) has the following chemical properties.例文帳に追加

本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）シリカ粒子と、（Ｂ）アミノ酸と、を含有する銅膜を研磨するための化学機械研磨用水系分散体であって、前記（Ａ）シリカ粒子は、下記の化学的性質を有することを特徴とする。 - 特許庁

The column packing comprises a silica gel with silanol groups, first chemical modified groups to be combined with the silanol groups, a silicone polymer covering the surfaces of the silica gel, and trimethylsilyl groups to be combined with the silanol groups on the silicone polymer and/or with the silanol groups on the silica gel.例文帳に追加

シラノール基を有するシリカゲルと、該シラノール基に結合する第一化学修飾基と、該シリカゲル表面を被覆するシリコーンポリマーと、該シリコーンポリマー上のシラノール基及び／又は該シリカゲル上のシラノール基に結合するトリメチルシリル基と、を有するカラム充填剤。 - 特許庁

The acid colloid polishing slurry for chemical mechanical polishing including 0.1 to 5 wt.% colloid silica polishing material and 0.5 to 10 wt.% fluoride salt characteristically has high polishing selectivity concerning the ratio of the removing speed of silica to the removing speed of silicon nitride, compared with a conventional slurry including baked silica.例文帳に追加

０．１〜５重量％のコロイドシリカ研磨材および０．５〜１０重量％のフッ化物塩を含む化学機械研磨用の酸性研磨スラリーは、焼成シリカを含む従来の研磨スラリーと比較して、シリカ除去速度対窒化ケイ素除去速度に関する、より高い研磨選択性を特徴とする。 - 特許庁

To supply a mixture which is prepared by mixing a chemical fertilizer component into clay mineral which is rich in silica into the soil in which the balance of silica is destroyed in a pellet shape, to supplement silica thereto and, at the same time, to supply fertilizer component and nutrient components for effective micro-organisms.例文帳に追加

ケイ酸質のバランスが壊れた土壌に、ケイ酸質に富んだ粘土鉱物に化学肥料成分を混入したものをペレット状にして供給し、ケイ酸質を補給するとともに、同時に肥料成分と有効微生物のための栄養成分を供給可能にする。 - 特許庁

Concerning an alkali silica reactivity test method of an aggregate (JIS A 1145 chemical method), this alkali silica reactivity test method of the aggregate is characterized by determining the alkali concentration reduction quantity (Rc) from a BET specific surface area of the aggregate.例文帳に追加

骨材のアルカリシリカ反応性試験方法（JIS A 1145化学法）において、アルカリ濃度減少量（Ｒｃ）を骨材のＢＥＴ比表面積から求めることを特徴とする骨材のアルカリシリカ反応性試験方法。 - 特許庁

To provide a silica type acid colloid polishing slurry for chemical mechanical polishing, which has high polishing selectivity concerning the removing speed of silica compared with the removing speed of silicon nitride.例文帳に追加

本発明の目的は、窒化ケイ素が除去される速度と対比したシリカが除去される速度に関して高い研磨選択性を有する、化学機械研磨のためのシリカ型の酸性コロイド研磨スラリーを提供することである。 - 特許庁

To provide porous silica glass which exhibits excellent characteristics in heat resistance, chemical resistance, heat insulating property or the like in comparison with a conventional silica glass porous body, and which has high purity and high strength.例文帳に追加

従来のシリカガラス多孔体よりも、耐熱性、耐薬品性、断熱性等において優れた特性を発揮し、しかも、高純度かつ高強度である多孔質シリカガラスを提供する。 - 特許庁

To provide a silica-based film forming composition and the like, which can form a silica-based film excellent in mechanical strength such as sufficient CMP (chemical mechanical polish) resistance, low dielectric properties, and adhesive properties.例文帳に追加

十分なＣＭＰ耐性等の機械強度、及び、低誘電性、並びに、接着性に優れるシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物等を提供する。 - 特許庁

The divulged form of the invention settles the conventional technical issue by excluding whatever catalytic activity on the surface of the silica in the process of acquiring the image color fading fastness and the moisture fastness through a chemical modification of the silica.例文帳に追加

開示した実施態様は、シリカの化学的な変性によって画像退色及び湿気堅牢度に向かうシリカ表面のいかなる触媒活性も排除するという点において従来技術における課題を解決する。 - 特許庁

To provide a silica-based film forming composition and the like, which forms a silica-based film excellent in mechanical strength such as sufficient CMP (chemical mechanical polishing) resistance, low dielectric properties, and adhesive properties.例文帳に追加

十分なＣＭＰ耐性等の機械強度、及び、低誘電性、並びに、接着性に優れるシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物等を提供する。 - 特許庁

In the galvanized steel sheet in which a phosphate film is sealed by a chemical conversion film, the chemical conversion film is formed of a mixed treatment liquid with the ratio of coupling agent/silica particles being 0.05-0.5.例文帳に追加

リン酸塩皮膜を化成皮膜でシーリングした亜鉛系めっき鋼板であり、シランカップリング剤／シリカ微粒子=０.０５〜０.５の混合処理液から化成皮膜が形成されている。 - 特許庁

To infer the strength of improved ground which is an object improved by chemical injection using an active-silica-based chemical, from its early age after the improvement, with accuracy.例文帳に追加

活性シリカ系薬剤を用いた薬液注入改良地盤において、改良後の早期材齢から、精度良く対象改良地盤の強度を推定する。 - 特許庁

To form a protective layer excellent in thermal and chemical durability and to minimize a manufacture cost rise in order to prevent a chemical reaction of a luminous material with a silica glass.例文帳に追加

発光材料と石英ガラスとの化学反応を防止するため、熱的および化学的な耐久性に優れた保護層を形成し、その製造コストの上昇を最小限とする。 - 特許庁

Disclosed is the polishing solution for chemical-mechanical polishing used for chemical-mechanical polishing of the manufacturing method for the semiconductor device, the polishing solution for chemical-mechanical polishing being characterized in containing abrasive grins which have colloidal silica obtained by hydrolyzing alkoxy silane as a nucleus and have some of silicon atoms on a colloidal silica surface substituted by aluminum atoms.例文帳に追加

半導体デバイスの製造法における化学的機械的研磨に用いる化学的機械的研磨用研磨液であって、アルコキシシランの加水分解によって得たコロイダルシリカを核とし、該コロイダルシリカ表面の珪素原子の一部がアルミニウム原子に置換されてなる砥粒を含有することを特徴とする化学的機械的研磨用研磨液。 - 特許庁

The column filling includes a silica gel, having the silanol group and a silicone polymer in which a chemical modification group and a trimethylsilyl group bonded to the silanol group and a silyl isocyanate compound crosslink each other and which partially covers the surface of the silica gel.例文帳に追加

シラノール基を有するシリカゲルと、該シラノール基に結合する化学修飾基及びトリメチルシリル基と、シリルイソシアネート化合物が互いに架橋し、該シリカゲル表面の一部を被覆するシリコーンポリマーと、を有するカラム充填剤。 - 特許庁

The conductive silica particles having the silica particles provided with the substantially global and/or spherical shapes bonded by chemical bonding over the entire surface of the parent body particles and conductive coating layers formed on their surfaces and the particles provided with insulative coating layers on their outer peripheries.例文帳に追加

母体粒子全面に、化学結合により結着してなる実質上球状および／または球冠状の突起物をもつシリカ系粒子と、その表面に形成された導電性被覆層とを有する導電性シリカ系粒子、およびその外周に絶縁性被覆層を設けてなる粒子である。 - 特許庁

To provide new fluorine-containing silica nanocomposite particles as a material utilizing the chemical and thermal stability of silica and the excellent water repellent, oil repellent, fouling-preventing and catalytic characters of a fluorine compound by using a fluorine low molecular surfactant as a raw material.例文帳に追加

シリカの化学的、熱的安定性とフッ素化合物の優れた撥水・溌油・防汚・触媒特性を活かす材料であって、フッ素低分子界面活性剤を原料とする新規なフッ素含有シリカナノコンポジット粒子の提供。 - 特許庁

In the method for manufacturing a porous gel for the material for removing the harmful chemical substances, a silica wet gel is impregnated with a titanium compound solution and then dried by using a drying medium at the critical point or supercritical state of the drying medium to produce crystalline titania on the silica framework.例文帳に追加

シリカの湿潤ゲル体にチタン化合物溶液を含浸させ、次いで乾燥媒体を用いて、乾燥媒体の臨界点ないし超臨界において、乾燥することにより、結晶性のチタニアをシリカ骨格上に生成させる有害化学物質除去材用多孔質ゲルの製造方法。 - 特許庁

To provide a chemical cleaning method for effectively removing silica- base scale including silica and/or silicate adhering to the metal surface, out of the removal method, without damaging a passivation coating, while inhibiting corrosion of the metal to the minimum.例文帳に追加

本発明の課題は、金属表面に付着したシリカおよび／又は珪酸塩を含むシリカ系スケールの除去において、金属の腐食を最小に抑えるとともに、不働態化皮膜を損なうことなく、金属表面に付着したシリカ系スケールを効率的に除去できる化学的洗浄方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method of repairing a low-dielectric-constant silica-based film which is given a chemical damage by a cleaning liquid used for the purpose of removing residue such as a silica-based denatured substance produced during etching of a low-dielectric-constant silica-based film or a resist decomposed substance produced during ashing, or removing residue such as polishing waste produced during CMP processing.例文帳に追加

低誘電率シリカ系被膜のエッチング加工時に発生するシリカ系変性物やアッシング加工時に発生するレジスト分解物などの残渣除去、あるいはＣＭＰ加工時に発生する研磨屑などの残渣除去を目的として使用される洗浄液によって化学的なダメージを受けた低誘電率シリカ系被膜を修復する方法に関する。 - 特許庁

The low refractive index layer includes a modified colloidal silica modified by using a silane coupling agent represented by the following chemical formula (1), a crosslinking agent, a polysiloxane resin and a polymerization initiator and is formed from a raw material including 75-90 mass% modified colloidal silica and 25-10 mass% crosslinking agent in the sum total amount of the modified colloidal silica and the crosslinking agent.例文帳に追加

そして、低屈折率層が、下記の化学式（１）で示されるシランカップリング剤によって変性された変性コロイダルシリカ、架橋剤、ポリシロキサン樹脂及び重合開始剤を含有すると共に、変性コロイダルシリカと架橋剤との総量中に変性コロイダルシリカが７５〜９０質量％及び架橋剤が２５〜１０質量％含まれる原料から成膜されて形成されている。 - 特許庁