「substrate oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ANODE OXIDATION HEAT DISSIPATION SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

陽極酸化放熱基板及びその製造方法 - 特許庁

Thereafter, a thermal oxide film is formed within the cavity with thermal oxidation of the Si substrate 1 (BOX oxidation method).例文帳に追加

その後、Ｓｉ基板１を熱酸化して空洞部内に熱酸化膜を形成する（ＢＯＸ酸化工程）。 - 特許庁

If the protective film on the side of the substrate protecting the membrane from oxidation is furthermore provided between the substrate and the membrane, the oxidation of the membrane is more effectively protected.例文帳に追加

さらに基板と薄膜との間に薄膜を酸化から保護する基板側保護膜を設ければ、薄膜の酸化をより効果的に防ぐことができる。 - 特許庁

To dope an alkaline metal on an anodic oxidation substrate in a photoelectric conversion device using the anodic oxidation substrate.例文帳に追加

陽極酸化基板を用いた光電変換素子において、陽極酸化基板にアルカリ金属をドープすることを可能とする。 - 特許庁

To suppress corrosion of a surface of an anodic oxidation substrate due to an alkaline solution in the anodic oxidation substrate for a photoelectric conversion element.例文帳に追加

光電変換素子用の陽極酸化基板において、アルカリ溶液による陽極酸化基板の裏面の腐食を抑制する。 - 特許庁

OXIDATION OF SUBSTRATE CONTAINING METHYL, METHYLENE OR METHINE GROUP例文帳に追加

メチル、メチレンまたはメチン基を含む基質を酸化する方法 - 特許庁

OXIDATION METHOD OF ORGANIC SUBSTRATE AND CATALYST COMPOSITION FOR PERFORMING THE SAME例文帳に追加

有機基質の酸化方法及び前記方法を実施するための触媒組成物 - 特許庁

Next, heat treatment with oxidation is performed to the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

次に、半導体基板１に対して酸化を伴う熱処理を行う。 - 特許庁

ANODIC OXIDATION FILM APPLIED ALUMINUM SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

陽極酸化皮膜付きアルミ基材及びその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR PACKAGE SUBSTRATE WITH FINE CIRCUIT PATTERN BY ANODIC OXIDATION例文帳に追加

陽極酸化による微細回路パターン付きパッケージ基板の製造方法 - 特許庁

A surface oxide film 4 is formed on a silicon substrate 1 with a hot oxidation method.例文帳に追加

シリコン基板１に熱酸化法により表面酸化膜４を形成する。 - 特許庁

INSULATING SUBSTRATE WITH ANODIC OXIDATION COATING, AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

陽極酸化皮膜を有する絶縁基板およびその製造方法 - 特許庁

Subsequently, radical oxidation is carried out on the exposed surface of the substrate 1.例文帳に追加

次いで、露出した基板１の表面に対してラジカル酸化をする。 - 特許庁

ANODIC OXIDATION SYSTEM, OXIDE LAYER MANUFACTURING METHOD, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD例文帳に追加

陽極酸化システム、酸化層の製造方法、基板処理方法 - 特許庁

The method for applying the oxidation resistant coating on a substrate is also provided.例文帳に追加

耐酸化性皮膜を基板に施工する方法も提供される。 - 特許庁

To provide a coating method capable of improving an oxidation resistance of a substrate.例文帳に追加

基体の耐酸化性を改善するコーティング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma oxidation method and apparatus enabling oxidation in a low temperature and oxidation of a thick film by increasing an oxidation rate even when a substrate temperature is low.例文帳に追加

基板温度が低温の場合でも酸化レートを高速化して、低温での酸化を可能とするとともに、厚膜酸化を可能とするプラズマ酸化方法および装置を提供する。 - 特許庁

The primary substrate 1000 is made to be a substrate formed of pores by aluminium anodic oxidation.例文帳に追加

第１の基板は、アルミニウムの陽極酸化処理により細孔が形成されている基板である。 - 特許庁

To adequately oxidize a substrate to be processed on one hand, and to restrain oxidation of the substrate to be processed on the other hand.例文帳に追加

一方で被処理基板を適度に酸化し、他方で被処理基板の酸化抑制を可能にする。 - 特許庁

To provide oxidation catalysts which can efficiently oxidize an organic substrate and an oxidation method.例文帳に追加

本発明の目的は、有機基質を効率よく酸化できる酸化触媒及び酸化方法を提供することにある。 - 特許庁

To achieve an efficient oxidation treatment of a substrate by preventing a decrease of oxidation power of ozone gas.例文帳に追加

オゾンガスの酸化力低下を防止し、効率的に基板の酸化処理を行うことができるようにすることにある。 - 特許庁

On a silicon carbide semiconductor substrate 2, an oxidation silicon 5 with a thickness of 0.5 to 2 nm is formed by a thermal oxidation method.例文帳に追加

炭化珪素半導体基板２上に、熱酸化法により、０．５ｎｍ〜２ｎｍの範囲内の厚みを有する酸化珪素５を形成する。 - 特許庁

In the method for forming a thermal oxidation film, a tunnel oxidation film is formed on a surface of a silicon substrate 1 within a heated furnace.例文帳に追加

本発明に係る熱酸化膜の形成方法は、加熱した炉内でシリコン基板１の表面にトンネル酸化膜を形成するものである。 - 特許庁

To measure an uppermost surface temperature of a substrate supplied to an oxidation process system using an oxidation treatment gas and light irradiation.例文帳に追加

酸化処理ガスと光照射とを用いた酸化プロセス系に供された基板の最表面温度を測定する。 - 特許庁

To restrain a formed oxide film from deteriorating in characteristics in a plasma oxidation treatment method for subjecting a substrate to a plasma oxidation treatment.例文帳に追加

プラズマを用いて基板の酸化処理を行うプラズマ酸化処理方法において、生成する酸化膜の特性劣化を抑制すること。 - 特許庁

In the method for producing the electrophotographic photoreceptor, an electrically conductive substrate is immersed in an anodic oxidation solution at 0-16°C and subjected to anodic oxidation.例文帳に追加

導電性支持基体を温度が０℃〜１６℃である陽極酸化処理液に浸して陽極酸化処理を施す電子写真感光体の製造方法 - 特許庁

The silicon nitride film 7 functions as an oxidation preventive film which prevents the titanium oxide film 6 from oxidation when the surface of the substrate 1 is subjected to the thermal oxidation in the next process.例文帳に追加

窒化シリコン膜７は、次の工程で基板１の表面を熱酸化する時に酸化チタン膜６が酸化されるのを防ぐ酸化防止膜として機能する。 - 特許庁

To reduce patterning defects in device fabrication caused by sticking of oxidation foreign matter by removing the oxidation foreign matter sticking on the reverse surface of a substrate through a high-temperature oxidation heat treatment.例文帳に追加

高温酸化熱処理で基板裏面に付着した酸化異物を除去し、この付着酸化異物を起因として生じていたデバイス作製時のパターニング不良を低減できる。 - 特許庁

To prevent oxidation of a surface of a processed substrate during peeling processing between the processed substrate and a support substrate, which involves heating processing.例文帳に追加

加熱処理を伴う被処理基板と支持基板との剥離処理の際に、被処理基板の表面の酸化を抑制する。 - 特許庁

To prevent oxidation of a non-joined surface of a processed substrate during peeling processing between the processed substrate and a support substrate, which involves heating processing.例文帳に追加

加熱処理を伴う被処理基板と支持基板との剥離処理の際に、被処理基板の非接合面の酸化を抑制する。 - 特許庁

The method includes a step of simultaneously treating the substrate to be determined at the thermal oxidation treating time of the semiconductor substrate or the semiconductor material, and forming the thermal oxidation film on the substrate to be determined (c).例文帳に追加

次に、判定用基板を半導体基板もしくは半導体材料の熱酸化処理時に同時処理して、判定用基板上に熱酸化膜を形成する（ｃ）。 - 特許庁

ION IMPLANTATION OF NITROGEN INTO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PRIOR TO OXIDATION FOR OFFSET SPACER FORMATION例文帳に追加

オフセット・スペーサ形成用の酸化に先立つ半導体基板への窒素のイオン注入方法 - 特許庁

To suppress deterioration caused by oxidation of a hydrogen permeable metal substrate containing a group 5A metal element.例文帳に追加

５Ａ属金属元素を含む水素透過性金属基材の酸化による劣化を抑制する。 - 特許庁

Thereafter, low-density ozone water is supplied onto the surface of the substrate W from the nozzle 50 for oxidation treatment.例文帳に追加

その後、基板Ｗ表面に酸化処理用ノズル５０から低濃度オゾン水が供給される。 - 特許庁

Thereafter, oxygen water is supplied onto the surface of the substrate W from the nozzle 50 for oxidation treatment.例文帳に追加

その後、基板Ｗ表面に酸化処理用ノズル５０から酸素水が供給される。 - 特許庁

METHOD OF FORMING FILM ON SURFACE OF LIGHT METAL SUBSTRATE BY PLASMA ELECTROLYTIC OXIDATION例文帳に追加

プラズマ電解酸化処理による軽金属系基材の表面への皮膜形成方法 - 特許庁

The second oxidation window 15b reaching the semiconductor substrate 11 is formed on the second region 11b.例文帳に追加

第２領域１１ｂに半導体基板１１にまで達する第２酸化窓１５ｂを形成する。 - 特許庁

THERMAL OXIDATION METHOD, PIEZOELECTRIC ACTUATOR WITH SUBSTRATE FORMED THEREBY, AND LIQUID INJECTION DEVICE例文帳に追加

熱酸化方法及びこれによって得られた基板を備えた圧電アクチュエータ並びに液体噴射装置 - 特許庁

The upper surface of a semiconductor substrate 1 is subjected to thermal oxidation treatment to form a gate insulation film 5.例文帳に追加

半導体基板１の上面には、ゲート絶縁膜５を形成すべく熱酸化処理が施される。 - 特許庁

ANODIC OXIDATION SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT USING THE SAME, THE PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT, AND SOLAR CELL例文帳に追加

陽極酸化基板、それを用いた光電変換素子の製造方法、光電変換素子及び太陽電池 - 特許庁

OXIDATION RESISTANT AND CORROSION RESISTANT METAL SUBSTRATE, CATALYST FOR NITROGEN OXIDE REMOVAL, AND WASTE GAS CLEANING METHOD例文帳に追加

耐酸化性耐腐食性金属基板、脱硝用触媒および排ガスの浄化方法 - 特許庁

To reduce the level of metal contamination of an oxide film formed on a silicon substrate by plasma oxidation.例文帳に追加

プラズマ酸化によりシリコン基板上に形成される酸化膜の金属汚染量を低減すること。 - 特許庁

HEAT SHIELD OXIDATION RESISTANT COATING FOR ORGANIC MATRIX COMPOSITE SUBSTRATE AND COATED ARTICLE例文帳に追加

有機マトリックス複合材基材用の遮熱酸化防止コーティング及び被覆物品 - 特許庁

Thereafter, thermal oxidation of the Si substrate 1 forms a thermally-oxidized film each in the cavities 25 and 27.例文帳に追加

その後、Ｓｉ基板１を熱酸化して空洞部２５、２７内にそれぞれ熱酸化膜を形成する。 - 特許庁

Then, the surface of the exposed semiconductor substrate 1 is subjected to oxidation treatment.例文帳に追加

次に、所定の条件のもとで、露出している半導体基板１の表面に酸化処理が施される。 - 特許庁