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substrate surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 43290件
The manufacturing method of a substrate for the magnetic recording medium includes a process to contact a mold 2 on a surface of the substrate 1 and stress pressure to a surface of the substrate 1, and a transfer process which heats a surface of the substrate 1 by irradiating the surface of the substrate 1 with a laser beam 3 and transcribe the surface shape of the mold 2 on the surface of the substrate 1.例文帳に追加
本発明に係る磁気記録媒体用基板の製造方法は、モールド２を基板１の表面に接触させ、基板１の表面に圧力を印加する工程と、基板１の表面にレーザ光３を照射することにより、基板１の表面を加熱してモールド２の表面形状を基板１の表面に転写する転写工程とを包含する。 - 特許庁
To provide a rear surface cleaning apparatus capable of well cleaning the rear surface of a substrate without turning the substrate up side down, and to provide a substrate processing apparatus equipped with the rear surface cleaning apparatus and a rear surface cleaning method.例文帳に追加
基板の表裏を反転させることなく基板の裏面を良好に洗浄することができる裏面洗浄装置、該裏面洗浄装置を備えた基板処理装置および裏面洗浄方法を提供する。 - 特許庁
Height from a surface including the terminal 21 of the substrate 11 to an exterior surface of the wiring substrate 5 is nearly as same as that from the surface including the terminal 21 of the substrate 11 to an exterior surface of the deflection plate 17.例文帳に追加
基板１１の端子２１を備えている表面から配線基板５の外表面までの高さは、基板１１の端子２１を備えている表面から偏光板１７の外表面までの高さとほぼ同じである。 - 特許庁
The first smoothing layer 16 is welded to the surface of the first support substrate 14 to form, on the surface of the support substrate 17, surface roughness that is smaller than the surface roughness of the first support substrate 14.例文帳に追加
第１平滑層１６は第１支持基板１４の表面に溶着されて、支持基板１７の表面に第１支持基板１４の表面粗さより小さい表面粗さの表面を形成するものである。 - 特許庁
To provide a surface treatment method removing a natural oxide film on the surface of a substrate consisting of a biboride single crystal, while coating the surface of the substrate with a specific protective layer and inhibiting reoxidation of the surface of the substrate.例文帳に追加
二硼化物単結晶から成る基板の表面の自然酸化膜を除去するとともに、基板の表面を特定の保護層で覆い、基板の表面の再酸化を抑制する表面処理方法を提供すること。 - 特許庁
The anode substrate structure comprises an anode substrate opposed to a cathode substrate, having a smaller area than the cathode substrate and disposed inside the cathode substrate so that four surface frames of the cathode substrate are all exposed.例文帳に追加
アノード基板はカソード基板と対向して前記カソード基板より小さな面積を持ち、前記カソード基板の４面の枠がいずれも露出されるようにカソード基板の内側に位置するアノード基板構造体。 - 特許庁
The method for cleaning the substrate comprise, for cleaning both surfaces of the substrate, the steps of executing first cleaning of one surface of the substrate W by using liquid while rotating the substrate, and executing second cleaning of other surface of the substrate W by using the liquid while rotating the substrate.例文帳に追加
基板の両面を洗浄するにあたり、基板Ｗの一方の面を基板を回転させながら液体を用いて第１の洗浄を行い、基板Ｗの他方の面を基板を回転させながら液体を用いて第２の洗浄を行う。 - 特許庁
A substrate having a structured surface including a sidewall is prepared.例文帳に追加
側壁を含む構造化表面を有する基板が準備される。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR COATING SURFACE OF SUBSTRATE IN UNIFORM THICKNESS例文帳に追加
基板表面に均一の厚みにコ—ティングする方法と装置 - 特許庁
A conductive layer 17 of ground potential is formed on a substrate back surface.例文帳に追加
基板裏面にグランド電位の導電層１７を形成する。 - 特許庁
The dielectric constant of the film 3 lacks uniformity within the surface of the substrate 1.例文帳に追加
ゲート絶縁膜３の誘電率は、面内で一様でない。 - 特許庁
The gas cluster C is emitted to the surface of the silicon substrate W without being ionized and as a result, the surface of the silicon substrate W becomes a porous state.例文帳に追加
このガスクラスターＣをイオン化させずにシリコン基板Ｗの表面部に照射し、当該表面部を多孔質化する。 - 特許庁
An insulating film 12 is formed on a surface of a SOI substrate 7.例文帳に追加
ＳＯＩ基板７の表面に絶縁膜１２を形成する。 - 特許庁
A sub-substrate 35 is provided below the side of the lower surface of the board 3.例文帳に追加
変換基板３の下面側にサブ基板３５を配設する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR BONDING SKIN MATERIAL TO SURFACE OF SUBSTRATE例文帳に追加
基材表面へ表皮材を貼着する装置および方法 - 特許庁
A colored coating layer 2 is deposited on the upper surface of a substrate 1.例文帳に追加
基材１の上面に着色塗装層２を形成する。 - 特許庁
SURFACE ROUGHNESS DETECTING METHOD AND APPARATUS FOR SUBSTRATE, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
基板の表面粗さ検出方法、装置及び記憶媒体 - 特許庁
Between the surface and rear surface of the substrate 1 are connected with connectors provided oppositely on both the faces at the edges of the substrate 1.例文帳に追加
また、基板１の表裏面間は基板１端部に表裏面に対向して設けた接続部をコネクタによって接続する。 - 特許庁
Furthermore, it is preferable that the substrate 1 has a colorant layer 3 on the other surface of the substrate 1 than the surface having the pressure-sensitive adhesive layer 2.例文帳に追加
また、好ましくは、前記支持体１の粘着層２を有していない方の面に、色材層３を有するものである。 - 特許庁
To evaluate the surface contamination state of a substrate by a simple technique.例文帳に追加
基板表面の汚染状況を簡易な手法で評価する。 - 特許庁
To prevent the waterdrops scattered from the surface of a substrate from rebounding at the inner face of a cover and adhering again to the surface of the substrate.例文帳に追加
基板の表面から飛散した水滴がカバーの内面で跳ね返って基板の表面に再付着するのを防止する。 - 特許庁
A second thermal oxide film is formed on the exposed surface of the substrate.例文帳に追加
基板の露出面上に、第２熱酸化膜を形成する。 - 特許庁
A nano particle arrangement layer 5 is arranged on the surface of a substrate 1.例文帳に追加
基板１の表面にナノ粒子配列層５を配置する。 - 特許庁
The heat insulated sheet is disposed on one surface of the substrate.例文帳に追加
前記保温シートは、前記基板の一つの表面に配置される。 - 特許庁
To provide a substrate cleaning apparatus which can swab-clean the end surface and/or bevel surface of a substrate simply and effectively.例文帳に追加
基板の端面及び／またはベベル面を簡便かつ効果的にスクラブ洗浄できるようにした基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁
METHOD OF CLEANING SUBSTRATE SURFACE AND METHOD OF FORMING EPITAXIAL FILM例文帳に追加
基板表面の清浄化方法とエピタキシャル膜の成膜方法 - 特許庁
The glass substrate for the information recording medium is formed by polishing the main surface of a glass substrate material, then washing the surface.例文帳に追加
情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス基板材料の主表面を研磨した後、洗浄することにより形成される。 - 特許庁
The other side of the source/drain regions is situated on the flat surface of the substrate.例文帳に追加
ソース／ドレイン領域の他方側は基板の平面内にある。 - 特許庁
A semiconductor substrate SUB has a recession CP on its surface.例文帳に追加
半導体基板ＳＵＢは表面に凹部ＣＰを有している。 - 特許庁
To prevent an embedded oxide film from being exposed to the substrate surface.例文帳に追加
埋込み酸化膜が基板表面に露出するのを防止する。 - 特許庁
An element structure is formed on the surface layer of an SOI substrate 22.例文帳に追加
ＳＯＩ基板２２の表面層に素子構造を形成する。 - 特許庁
The reverse surface 60a (substrate facing surface) of the upper rotary disk 60 which faces the substrate can, therefore, be washed.例文帳に追加
したがって、基板Ｗに臨んだ対向部位（基板対向面）である上部回転板６０の下面６０ａを洗浄できる。 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE例文帳に追加
基板表面欠陥検査方法，基板表面欠陥検査装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH SURFACE STRUCTURE BY EMPLOYING PHOTOTHERMAL EFFECT例文帳に追加
光熱作用を利用した基板の表面構造の製造方法 - 特許庁
The decorative layer 6 is formed on the surface 21 of a substrate 2.例文帳に追加
基材２の表面２１に設けてなる装飾層６である。 - 特許庁
Thereby, the edge surface of glass substrate has become smooth.例文帳に追加
そして、製造されたガラス基板の端面は平滑になっている。 - 特許庁
A recessed portion 3 is formed in the surface of a silicon substrate 1.例文帳に追加
シリコン基板１の表面に、凹み部３が形成されている。 - 特許庁
A partial glaze 50 is formed at a surface of the ceramic substrate 45.例文帳に追加
セラミック基板４５の表面に部分グレーズ５０を形成する。 - 特許庁
The integrated circuit die is arranged on the substrate surface, and the first surface of the integrated circuit die is contacted to the package substrate.例文帳に追加
集積回路ダイが基板表面上に配置され、集積回路ダイの第１の表面がパッケージ基板に当接される。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING CORROSION-RESISTANT ALLOY FILM ON SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加
基材表面に耐食性合金皮膜を形成させる方法 - 特許庁
A substrate opposing surface which faces a surface of the substrate held by the spin chuck 17 is provided on the undersurface of the shield plate 14.例文帳に追加
遮断板１４の下面には、スピンチャック１７に保持される基板の表面と対向する基板対向面が形成されている。 - 特許庁
A semiconductor substrate has a surface layer part of a first conductivity.例文帳に追加
半導体基板が、第１の導電型の表層部を有する。 - 特許庁
To provide a substrate for surface-enhanced Raman scattering studies.例文帳に追加
表面増強ラマン散乱の研究用の基板を提供する。 - 特許庁
A film member 7 is arranged at a substrate holding part 5 (an upper surface 5a, a top surface P1a, and a tip part P1b) of a substrate stage 2.例文帳に追加
基板ステージ２の基板保持部５（上面５ａ、表面Ｐ１ａおよび先端部Ｐ１ｂ）に、フィルム部材７が配置してある。 - 特許庁
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