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「シマ帯」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 30



例文

多波長発振狭域エキシマレーザ装置例文帳に追加

MULTI-WAVELENGTH OSCILLATION NARROW BAND EXCIMER LASER DEVICE - 特許庁

域エキシマレーザ装置の波長安定化装置例文帳に追加

WAVELENGTH STABILIZER OF NARROW BAND EXCIMER LASER - 特許庁

半導体露光光源用狭域エキシマレーザ装置例文帳に追加

NARROW-BAND EXCIMER LASER APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR EXPOSURE LIGHT SOURCE - 特許庁

エキシマレーザ装置の狭域化モジュール例文帳に追加

NARROW-BAND MODULE OF EXCIMER LASER - 特許庁

域発振エキシマレーザの波面最適化方法例文帳に追加

METHOD FOR OPTIMIZING WAVE FRONT OF NARROW BAND OSCILLATION EXCIMER LASER - 特許庁

化ArFエキシマレーザ装置例文帳に追加

LINE NARROW-BAND ArF EXCIMER LASER - 特許庁

ArFエキシマレーザ装置及びその狭域化モジュール例文帳に追加

ArF EXCIMER LASER AND BAND NARROWING MODULE THEREOF - 特許庁

高繰返し動作が可能で狭域化効率の高いエキシマレーザ装置例文帳に追加

EXCIMER LASER DEVICE OF BAND NARROWING EFFICIENCY WHICH ALLOWS FREQUENT RECURRENCE - 特許庁

域エキシマレ—ザに対する絶対波長較正方法及び装置とその装置を備えたエキシマレ—ザシステム例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CALIBRATING ABSOLUTE WAVELENGTH FOR NARROW BAND EXCIMER LASER, AND EXCIMER LASER SYSTEM EQUIPPED WITH THE DEVICE - 特許庁

高信頼性・モジュラ製造高品質狭域高繰り返しレ—トArFエキシマレ—ザ例文帳に追加

HIGH-RELIABILITY MODULAR PRODUCTION HIGH-QUALITY NARROW- BAND HIGH-REPETITION RATE ArF EXCIMER LASER - 特許庁

高信頼性、モジュラ、プロダクションクオリティ狭域化KrFエキシマレ—ザ例文帳に追加

HIGHLY RELIABLE MODULAR NARROW BAND PRODUCTION QUALITY KrF EXCIMER LASER - 特許庁

制御システム(44)が、エキシマレーザ内のガス混合物が最適混合物と異なっているか否かを測定するために、利得、波長、域幅、およびパルス繰返数を含むエキシマレーザの動作パラメータを監視することが好ましい。例文帳に追加

The control system (44) preferably monitors the operation parameters of the excimer laser including gain, wavelength, bandwidth, and the number of pulse repetition to measure whether the gas mixture is different from an optimum mixture or not. - 特許庁

MHz域の高周波電圧をパルス的(間欠的)に供給して、エキシマ光を効率よく発光させ、印加電圧を低くすることが可能な、高出力の真空紫外光を発光させることのできるエキシマランプ点灯装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an excimer lamp lighting device capable of lowering an impression voltage by having excimer light efficiently emitted by the pulse (intermittent) supply of high-frequency voltages in a MHz band and capable of having a high-output vacuum ultraviolet ray emitted. - 特許庁

ネッタイシマカやネッタイイエカ、ハマダラカ類等の各種の熱感染症媒介蚊類に卓効を示し、かつ安価に製造でき、しかも人畜に対する安全性に優れた熱感染症媒介蚊防除用蚊取線香の提供。例文帳に追加

To provide a mosquito incense coil for controlling tropical infectious disease-mediating mosquitoes, which exhibits excellent effects for various tropical infectious disease-mediating mosquitoes such as Aedes aegypti, Culex pipiens guinguefasciatus, and Anopheles mosquito, can be produced at a low cost, and has excellent safety for humans and animals. - 特許庁

ビーム径拡大プリズムとリトロー配置の反射型回折格子とからなる狭域化光学系を用いるエキシマレーザ装置において、温度変動があっても発振中心波長変動の極力少ない狭域化光学系の構成。例文帳に追加

To obtain the constitution of a band narrowing optical system having little variation in its oscillation center wavelength to the utmost even though a temperature variation is generated in an excimer laser using the band narrowing optical system, which consists of beam radius spread prisms and a Littrow layout reflection type diffraction grating. - 特許庁

歪みが大きく、かつ形状が複雑な波面も精細に補正可能な、エキシマレーザ装置の狭域化モジュールを提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a narrow-band module of an excimer laser, in which wavefronts which are large in distortion and complicated in shape can be corrected finely. - 特許庁

域化エキシマレーザにおいて、良質な光品位を得ることのできる光学部品の組み合わせを選定し、この光学部品の特性を調整して波面の最適化を行なう。例文帳に追加

To optimize a wave front of a narrow band eximer laser by selecting a combination of optical components for obtaining high optical quality and controlling the characteristics of the optical components. - 特許庁

清浄な不活性ガスを効率良くパージして光学素子の劣化を防ぐことの可能なArFエキシマレーザ装置及びその狭域化ボックス。例文帳に追加

To provide an ArF excimer laser, which prevents efficiently impure gas from being mixed in the interiors of band narrowing boxes and a monitor box, and a band narrowing module of the excimer laser. - 特許庁

約500乃至2000Hzの範囲内の周波数でパルスを発生でき、エネルギ用量制御及び再現性を強化した極狭域パルスエキシマレーザを提供する。例文帳に追加

To provide a narrow-band pulse excimer laser, that can generate a pulse with a frequency within a range of approximately 500 to 2,000 Hz, and has enhanced energy dose control and reproducibility. - 特許庁

本発明が提供する波長較正装置は、エキシマレーザ1と、狭まった放出を生成するための域狭化光学機器と、既知の波長の基準光を生成するための基準レーザ又は較正ランプ光源2と、狭まったエキシマレーザ放出と基準光が入射する分散素子である格子7を備える。例文帳に追加

This wavelength calibrator is equipped with an excimer laser 1, a band narrowing optical apparatus for generating narrow emission, a reference laser for generating a reference beam of known wavelength or a calibration lamp light source 2, and a lattice 7 which performs emission of narrow excimer laser and also serves as a dispersion element to allow the reference beam to enter. - 特許庁

本発明のエキシマランプの構成は、石英ガラスから成る二重円筒型の放電容器と、該放電容器の外側管の外壁に形成された第1の電極と該内側管の内側に形成された第2の電極と、該第2の電極に電力供給する給電線と、該放電容器の管軸方向端部に形成された光取り出し窓と、から成り、高周波高電圧を発生する電源に該給電線を介して接続されたヘッドオン型のエキシマランプにおいて、該エキシマランプの点灯周波数をMHz域で点灯し、点灯時の入力電力を可変にすることにより光出力を調光可能としたことを特徴とする。例文帳に追加

In a head-on type excimer lamp connected to a power supply that generates a high-frequency high-voltage via the feeder line, the lamp is lit up with the lighting frequency of MHz bandwidth and a light output when lighting up is made to be light controllable by making an input electricity to be variable. - 特許庁

240〜260nmおよび280〜300nmの波長域にも複数の顕著なピーク波長が検出されることなく、193nmの波長を最大ピーク波長とした狭域の発光をするArFエキシマ放電ランプを提供すること。例文帳に追加

To provide an ArF excimer discharge lamp to carry out light emission of a narrow band of the maximum peak wavelength of a wavelength of 193 nm without detecting a plurality of remarkable peak wavelengths of 240 to 260 nm and 280 to 300 nm. - 特許庁

レジスト膜11に対してマスク12を介して、157nmの波長を持つF_2 エキシマレーザ13を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜11を現像液により現像してレジストパターン14を形成する例文帳に追加

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14. - 特許庁

レジスト膜11に対してマスク12を介して、157nmの波長を持つF_2 エキシマレーザ13を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜11を現像液により現像してレジストパターン14を形成する。例文帳に追加

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14. - 特許庁

レーザ光6を反射するミラー8と、レーザ光6の発振波長を選択するグレーティング9とを備え、レーザ光6を狭域化するエキシマレーザ装置の狭域化モジュール3において、ミラー8及びグレーティング9それぞれに、ミラー8及びグレーティング9の表面形状を曲げる曲げ機構24,28を装着している。例文帳に追加

A narrow-band module 3 of an excimer laser device is equipped with a mirror 8, which reflects a laser beam 6 and a grating 9, which selects the oscillation wavelength of the laser beam 6 to make the laser beam 6 narrow in bandwidth, where bending mechanism 24 and 28 which change the mirror 8 and the grating 9 in surface shape respectively are each mounted on the mirror 8 and the grating 9. - 特許庁

ブラシマークを回避するためにスクラバーレス操業技術を採用しつつ、CVJ圧力や電清添加剤濃度を安定的に維持し、十分な脱脂洗浄効果を安定的に得ることを可能として脱脂洗浄効果の向上を図った、金属洗浄工程のスクラバーレス操業方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a scrubber-less operation method in a metal strip cleaning process in which CVJ pressure and the concentration of an electrolytic-cleaning additive are stably maintained and sufficient degreasing cleaning effect can be stably obtained to improve the degreasing cleaning effect while adopting a scrubber-less operation technique for evading brush marks. - 特許庁

域化エキシマレーザ(20)の中心波長を検出する波長検出器(2) の内部又はその近傍の環境特性として、少なくとも温度T又は圧力Pのいずれか一方を検出し、その環境特性の変化量が予め定められた所定の値を越えたことを検知したときに、中心波長を補正するための補正パラメータを獲得することによって波長検出器(2) を較正する。例文帳に追加

A wavelength detector 2 is calibrated by acquiring a correction parameter for correcting a center wavelength, when at least either temperature or pressure is detected as environmental characteristics inside or near the wavelength detector 2 for detecting the central wavelength of a narrow-band excimer laser 20 and the excess of a predetermined, a specific value by the amount of change in the environmental characteristics is detected. - 特許庁

例文

CMB現像用キャリアの欠点であるブラシマークやキャリアオーバーによる画像欠陥を解消し、トナーに対する安定した電付与性を有し、環境依存性を抑制したCMB現像用キャリアを提供し、カブリのない高品質の画像を形成できる画像の形成方法を提供しようとするものである。例文帳に追加

To provide an image forming method capable of forming a fog-free high-quality image by providing a CMB developing carrier capable of eliminating an image defect by a brush mark and carrier-over being a weak point of the CMB developing carrier, having stable charging imparting performance to a toner and capable of restraining environmental dependency. - 特許庁

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