影響のある箇所の英語

ウェーハ搬送ロボット内部の配線作業が困難である配線箇所にてノイズ影響に強く、かつ配線作業効率を向上させることができるウェーハ搬送ロボット及びそれを用いたウェーハ搬送装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wafer conveying robot which is strong to noise influence at a wiring position where a wiring work is difficult in the wafer conveying robot and can improve a wiring work efficiency, and to provide a wafer-conveying device which uses the robot. - 特許庁

複数の制御プログラム（制御ブロック）に影響する恐れがある修正箇所を短時間で認識することが可能なバージョン管理装置及び管理方法を得る。例文帳に追加

To provide a version management device and management method, for notifying a user of a part to be corrected which is likely to affect a plurality of control programs (control blocks), in a short time. - 特許庁

ＩＰ網上で通話状態に影響を与えることなく音声モニタでき、且つ、故障箇所の特定をできる音声モニタ方法及び装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a method and a device for monitoring voice by which voice monitoring is performed without influencing a call state on an IP network and a failed part is specified. - 特許庁

作業者が機器モデル及びプラントモデルの変更箇所や変更による影響を意識することなく、プラントモデル開発を行うことができるプラントモデル開発システムを提供することである。例文帳に追加

To provide a plant model development system, in which an operator can perform plant model development without being aware of a change point of an equipment model or a plant model or an influence of a change. - 特許庁

また、磁界発生手段と検査物との間に２箇所の検知部を設ける場合、アルミ箔等の包装容器の磁界発生手段への影響をカットできる。例文帳に追加

Moreover, in the case where two detection units are provided between magnetic field generation means and the check object, influences of a package of aluminum foil or the like upon the magnetic field generation means can be cut. - 特許庁

あるいは、中継局の位置により中央周波数に影響がある隣接セルが変わるので、周辺周波数のうち中継局に許可する領域を、中継局の位置に応じて設定して、隣接セルの中央周波数で干渉が強い可能性が高いと設定される箇所を少なくする。例文帳に追加

Alternatively, an adjacent cell whose central frequency is affected changes depending on a position of the relay station and thus, locations set to be highly likely to interfere with the central frequency of the adjacent cell are reduced by setting a region of the boundary frequencies permitted to the relay station in accordance with the position of the relay station. - 特許庁

検査対象である相互に同一であるべきパターンを撮像して得た検査画像と参照画像とを比較して、相違する箇所を前記パターンの欠陥として検出する欠陥検査において、検査画像と参照画像とに含まれる飽和画素による影響を回避する。例文帳に追加

To avoid an influence by saturation pixels contained in an inspection image and a reference image, in defect inspection, for comparing the inspection image with the reference image that are acquired by imaging patterns which should be mutually identical and are the objects of inspection, and for detecting a difference spot as a pattern defect. - 特許庁

本発明の目的は、高周波特性に悪影響を及ぼす有機物はんだレジスト剤を塗布せず、その代替えとして、はんだレジストを必要とする箇所のパターンの表面処理に酸化膜を形成させて酸化膜にはんだレジスト効果を持たせた構造のプリント基板の提供にある。例文帳に追加

To provide a printed substrate of a structure in which an organic matter solder resist agent having adverse effects on high frequency property is not applied, that an oxide film is made for surface treatment of the pattern in the place requiring solder resist as its substitute, and that the oxide film has solder resist effect. - 特許庁