ふぉんぎーるけびょうの英語

自己免疫疾患である全身性紅斑性狼瘡（ＳＬＥ）などの病気を治療するために用いる、化学的に定義された非ポリマー性の結合手プラットフォーム分子を含む複合体を開発すること。例文帳に追加

To develop a conjugate comprising chemically-defined, non-polymeric valency platform molecule usable for treating diseases such as autoimmune disease systemic lupus erythematosus(SLE) or the like. - 特許庁

レーザー光または発光ダイオード光を用いたフォトプロッターで原画パターンを描画する際に、マスクパターンの線巾変動を受けにく、描画パターンエッジのスムースネスが良いハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic sensitive material which is hardly affected by a change in the line width of a mask pattern and ensures good smoothness of the edges of a formed pattern when an original pattern is formed with a photo-plotter using laser light or light of a light emitting diode. - 特許庁

近年、描画装置用のフォトマスクデータの大規模化がますます進む中、検査装置が複数台ある場合にも、各検査装置にて、作業効率良く、実用レベルで検査を行なうことができる検査システムを提供する。例文帳に追加

To provide an inspection system which makes it possible to carry out inspection by a plurality of inspecting devices at practical level with good operation efficiency even when the plurality of inspecting devices are available as photomask data for a drawing device become larger in scale. - 特許庁

2 番目および 3 番目の引数は描画すべき矩形の左上角の y および x座標です; 4 番目および 5 番目の引数は右下角の y および x 座標です。 矩形は、 VT100/IBM PC におけるフォーム文字を利用できる端末(xterm やその他のほとんどのソフトウェア端末エミュレータを含む)ではそれを使って描画されます。例文帳に追加

The second and third arguments are the y and x coordinates of the upper left hand corner of the rectangle to be drawn; the fourth and fiftharguments are the y and x coordinates of the lower right hand corner.The rectangle will be drawn using VT100/IBM PC forms characters on terminals that make this possible (including xterm and most other software terminal emulators). - Python

ＬＳＩ設計拠点、あるいは、ＬＳＩ製造拠点と、描画装置用フォトマスクデータが存在するフォトマスク製造拠点とが遠く離れている場合、一方の拠点において、他方の拠点のフォトマスクデータの図形を表示させる際、そのデータ量が増大化ても、フォトマスクデータのビューイングに費やす時間が増大化せず、作業性の面から実用的レベルでビューイングが行なえるフォトマスクデータ表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a photomask data display device which does not increase the time spent to view photomask data even if the data increase in amount and enables the viewing at practical level of operability when a figure of photomask data at one base is displayed at another base in the case that an LSI design base or LSI manufacturing base and a photomask manufacturing base where photomask data for a drawing device are present are far away from each other. - 特許庁

顕著なフォーカスずれを起こさずにパターンを確実に描画することのできる荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam device capable of surely drawing a pattern, without causing significant defocusing, and to provide a method for controlling the charged particle beam. - 特許庁

パターン描画が一定時間行われると、制御部９０の指示により、照明光学系４３が備える照明系フォーカスレンズ４３５の設置位置を変位させる。例文帳に追加

By performing a pattern drawing for a predetermined time, an instruction of a controller 90 displaces a location of an illumination system focus lens 435 included in the illumination optical system 43. - 特許庁

本発明の発光式道路鋲は、道路やその周辺に設置され視線誘導や外側線の表示等を行う光を出射する光出射面を備えた道路鋲であって、該道路鋲が走行車両が点灯するヘッドライトやフォグランプ等の光を受けて、光電変換する電子回路とその電気エネルギーにより該走行車両に向けて発光する発光素子を有する構成にした発光式道路鋲を提供するものである。例文帳に追加

The illuminating road rivet comprises an electronic circuit for performing photoelectric transformation by receiving the light of a head lamp and a fog lamp of a traveling vehicle and a light emitting element for emitting light toward the traveling vehicle by the electric energy. - 特許庁