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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 百科事典 > Blank (solution)の意味・解説 

Blank (solution)とは 意味・読み方・使い方

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ウィキペディア英語版での「Blank (solution)」の意味

Blank (solution)

出典:『Wikipedia』 (2010/02/06 05:10 UTC 版)

英語による解説
ウィキペディア英語版からの引用

「Blank (solution)」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 21



例文

According to the fluctuation of the accuracy control results, reagent blank absorbance, reagent blank initial absorbance, difference between two times of measurement of standard solution absorbance, a K factor are statistically processed.例文帳に追加

精度管理結果の変動に合わせて、試薬ブランク吸光度,試薬ブランク初期吸光度,標準液吸光度2回測定の差,K factorを統計処理する。 - 特許庁

An NaOH water solution is dropped in 100 ml of sulfuric acid water solution, and pH of blank water solution is measured with a potential of manganese sulfate water solution, the NaOH water solution is dropped in test water solution made by dissolving 1 g of lithium manganese nickel cobalt multiple oxide in sulfuric acid water solution and pH is measured with potential of the test water solution.例文帳に追加

硫酸マンガン水溶液100mlにNaOH水溶液を滴下して硫酸マンガン水溶液の電位によりブランク水溶液のpHを計測しておき、硫酸マンガン水溶液にリチウムマンガンニッケルコバルト複酸化物1gを溶解させた試験水溶液にNaOH水溶液を滴下して試験水溶液の電位によりpHを計測した。 - 特許庁

Since temperatures become the same at the absorbance measurement of the sample solution to be measured and the absorbance measurement of the blank sample solution by this, it is possible to remove the effects of solvents and highly accurately obtain absorbance by DNA.例文帳に追加

これにより、測定試料溶液の吸光度測定時とブランク試料溶液の吸光度測定時とで温度が同一となるので、溶媒の影響を除去したDNAによる吸光度を高い精度で求めることができる。 - 特許庁

A reference spectrum updating section appropriately computes the numerical value which is most approximate to the ultraviolet spectrum ν (λ) of a blank sample solution and q'.δ (λ) and performs blank calibration by updating the ultraviolet spectrum δ (λ) with ν(λ)/q'.例文帳に追加

基準スペクトル更新部は、適宜、ブランク試料液の紫外線スペクトルν(λ)と、q’・δ(λ)とが最もよく近似する数値q’を演算し、ν(λ)/q’でもって紫外線スペクトルδ(λ)を更新してブランク校正を行う。 - 特許庁

A blank is used for manufacturing a paper formed product, and a resin solution is applied as a coating or an impregnat only on ruled lines or in the vicinity of the ruled lines formed on the folding sections of the blank to improve the paper rigidity in the vicinity of the ruled lines and reduce the flexural yield angle of ruled line sections.例文帳に追加

紙製成型物を得るためのブランクにおいて、ブランクの折り曲げ部分に設けられた罫線上あるいは罫線近傍のみに樹脂溶液を塗工あるいは含浸することにより、罫線近傍の紙剛性を向上させ、罫線部分の折り曲げ降伏角度を小さくする。 - 特許庁

The lithium manganese nickel cobalt multiple oxide, in which a slope of pH change corresponding to the drop quantity of NaOH water solution in the test water solution is larger than a slope of pH change corresponding to the drop quantity equal to that in the blank water solution, is used as positive electrode active substance.例文帳に追加

試験水溶液でのNaOH水溶液の滴下量に対するpH変化の傾きが、ブランク水溶液でのこの滴下量と同一の滴下量に対するpH変化の傾きより大きいリチウムマンガンニッケルコバルト複酸化物を正極活物質として用いた。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a mask blank capable of surely starting solution-contact, when applying a resist solution by using a slit coater device, such as a CAP coater, and capable of preventing the occurrence of unevenness in application caused by a solution-contact gap.例文帳に追加

CAPコータなどのスリットコータ装置を用いてレジスト液の塗布を行う場合に、確実に接液を開始させることができ、かつ、接液ギャップに起因して生じる塗布ムラの発生を防止できるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

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「Blank (solution)」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 21



例文

A temperature profile can be set so as to raise or lower temperatures stepwise when sequentially and repeatedly measuring the absorbance of a sample solution to be measured or a blank sample solution housed in each cell of multi-cells 32 while raising or lowering temperatures.例文帳に追加

温度を上昇又は下降させながらマルチセル32の各セルに収容された測定試料溶液又はブランク試料溶液の吸光度を順次繰り返し測定する際に、昇温又は降温を階段状で行えるように温度プロファイルを設定可能とする。 - 特許庁

The specific drop ratio of the enzyme activity is a percentage of an enzyme activity value (measured value) measured by using a solution for an enzyme activity measurement containing a surfactant based on an enzyme activity value (blank value) measured by using a solution for an enzyme activity measurement not containing a surfactant.例文帳に追加

但し、酵素の比活性低下率とは、界面活性剤を含まない酵素活性測定溶液により測定された酵素活性値(ブランク値)に対して、界面活性剤を含有する酵素活性測定溶液により測定された酵素活性値(測定値)を百分率(%)で表したものである。 - 特許庁

Also, the amount of Si solid solution and the area rate of the crystallized matter are achieved by subjecting an aluminum alloy casting blank to one or more hours of a heating and holding treatment at 400 to 510°C after casting.例文帳に追加

また、Si固溶量と晶出物の面積率は、鋳造後にアルミニウム合金鋳物素材を、400〜510℃で1時間以上の加熱保持処理を行うことにより、達成される。 - 特許庁

On the display sheet 1, equation 2, 9, 11, 12 of any one of the four operations containing two or more blanks A, B and a plurality of solution displays (b) indicating the figure to fill one blank B are displayed.例文帳に追加

表示シート1には2個以上の空欄A,Bを含む加減乗除いずれかの計算の等式2,9,11,12及び上記一方の空欄Bに当てはまるべき数を表わす複数の解表示bとが表示されている。 - 特許庁

On the display piece 3, a question display (a), indicating a figure to be filled in the other blank A, corresponding to the solution display (b), is displayed on the surface side.例文帳に追加

また表示ピース3には解表示bに対応して上記他方の空欄Aに当てはまるべき数を表わす問表示aが表面側に表示されている。 - 特許庁

The simultaneous equation system is not established again for each repeat operation of analog solution finding but a blank space for a conditional equation is prepared in the original simultaneous equation system and filled with an effective equation.例文帳に追加

アナログ求解反復動作ごとに連立方程式系を立て直すのではなく、もとの連立方程式系に、条件付き方程式のための空欄を作っておき、有効となった方程式でそれを埋めるようにする。 - 特許庁

The method for producing the mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film composed with the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板2上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液13を滴下し、前記基板2を回転させ、滴下されたレジスト液13を前記基板2上に広げるとともに、前記基板2上のレジスト液13を乾燥させて、前記基板2上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing a mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film comprising the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板2上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液13を滴下し、前記基板2を回転させ、滴下されたレジスト液13を前記基板2上に広げるとともに、前記基板2上のレジスト液13を乾燥させて、前記基板2上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

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Text is available under Creative Commons Attribution-ShareAlike (CC-BY-SA) and/or GNU Free Documentation License (GFDL).
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