「Blank (solution)」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The lithium manganese nickel cobalt multiple oxide, in which a slope of pH change corresponding to the drop quantity of NaOH water solution in the test water solution is larger than a slope of pH change corresponding to the drop quantity equal to that in the blank water solution, is used as positive electrode active substance.例文帳に追加

試験水溶液でのＮａＯＨ水溶液の滴下量に対するｐＨ変化の傾きが、ブランク水溶液でのこの滴下量と同一の滴下量に対するｐＨ変化の傾きより大きいリチウムマンガンニッケルコバルト複酸化物を正極活物質として用いた。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a mask blank capable of surely starting solution-contact, when applying a resist solution by using a slit coater device, such as a CAP coater, and capable of preventing the occurrence of unevenness in application caused by a solution-contact gap.例文帳に追加

ＣＡＰコータなどのスリットコータ装置を用いてレジスト液の塗布を行う場合に、確実に接液を開始させることができ、かつ、接液ギャップに起因して生じる塗布ムラの発生を防止できるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A temperature profile can be set so as to raise or lower temperatures stepwise when sequentially and repeatedly measuring the absorbance of a sample solution to be measured or a blank sample solution housed in each cell of multi-cells 32 while raising or lowering temperatures.例文帳に追加

温度を上昇又は下降させながらマルチセル３２の各セルに収容された測定試料溶液又はブランク試料溶液の吸光度を順次繰り返し測定する際に、昇温又は降温を階段状で行えるように温度プロファイルを設定可能とする。 - 特許庁

The specific drop ratio of the enzyme activity is a percentage of an enzyme activity value (measured value) measured by using a solution for an enzyme activity measurement containing a surfactant based on an enzyme activity value (blank value) measured by using a solution for an enzyme activity measurement not containing a surfactant.例文帳に追加

但し、酵素の比活性低下率とは、界面活性剤を含まない酵素活性測定溶液により測定された酵素活性値（ブランク値）に対して、界面活性剤を含有する酵素活性測定溶液により測定された酵素活性値（測定値）を百分率（％）で表したものである。 - 特許庁

Also, the amount of Si solid solution and the area rate of the crystallized matter are achieved by subjecting an aluminum alloy casting blank to one or more hours of a heating and holding treatment at 400 to 510°C after casting.例文帳に追加

また、Ｓｉ固溶量と晶出物の面積率は、鋳造後にアルミニウム合金鋳物素材を、４００〜５１０℃で１時間以上の加熱保持処理を行うことにより、達成される。 - 特許庁

On the display sheet 1, equation 2, 9, 11, 12 of any one of the four operations containing two or more blanks A, B and a plurality of solution displays (b) indicating the figure to fill one blank B are displayed.例文帳に追加

表示シート１には２個以上の空欄Ａ，Ｂを含む加減乗除いずれかの計算の等式２，９，１１，１２及び上記一方の空欄Ｂに当てはまるべき数を表わす複数の解表示ｂとが表示されている。 - 特許庁

On the display piece 3, a question display (a), indicating a figure to be filled in the other blank A, corresponding to the solution display (b), is displayed on the surface side.例文帳に追加

また表示ピース３には解表示ｂに対応して上記他方の空欄Ａに当てはまるべき数を表わす問表示ａが表面側に表示されている。 - 特許庁

The simultaneous equation system is not established again for each repeat operation of analog solution finding but a blank space for a conditional equation is prepared in the original simultaneous equation system and filled with an effective equation.例文帳に追加

アナログ求解反復動作ごとに連立方程式系を立て直すのではなく、もとの連立方程式系に、条件付き方程式のための空欄を作っておき、有効となった方程式でそれを埋めるようにする。 - 特許庁

The method for producing the mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film composed with the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film comprising the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

Provided is the method for manufacturing the substrate for the mask blank in which a low thermal expansion glass substrate containing titanium (Ti) oxide is polished using a polishing agent, then treated using an aqueous solution containing hydrofluoric acid, then cleaned using an acidic solution with a pH of 4 or less, and then further cleaned using an alkaline solution.例文帳に追加

チタン（Ｔｉ）の酸化物を含有する低熱膨張ガラス基板を研磨剤により研磨した後、フッ酸を含む水溶液を用いて処理し、次いでｐＨが４以下の酸性溶液を用いて洗浄処理し、更にアルカリ性溶液を用いて洗浄処理することによるマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

At the time of producing a picture on a plain paper 4 by an ink jet printer 3, before producing the picture, the stock solution in the container 2 is jetted in mist onto the plain paper 4 in a blank state to form a blotting preventive film 5 of cellulose, and after that, the plain paper 4 is set in the ink jet printer 3 to execute picture producing.例文帳に追加

普通紙（４）にインクジェットプリンタ（３）で作画をする場合には、作画前に、白紙状態の普通紙（４）に、容器（２）内の混合液を霧状に噴射して、普通紙（４）にセルロースのにじみ防止膜（５）を形成し、しかる後に、インクジェットプリンタ（３）に用紙（４）をセットし、作画を施行する。 - 特許庁

The thinned bottomed seamless can body is obtained by blanking a blank from a composite metallic sheet covering the metal the solubility of which is larger than that of the base material on one side or both sides of the base material as a covering layer, forming a bottomed seamless can body by performing the drawing/ironing work and dissolving and removing the covering layer with a solution by immersing the bottomed seamless can body in the solution.例文帳に追加

母材の片面又は両面に、母材より溶解度が大きい金属を被覆層として被覆した複合金属板からブランク材を打ち抜き、絞りしごき加工して有底シームレス缶体を成形し、有底シームレス缶体を溶解液に浸漬して被覆層を溶解液で溶解・除去した薄肉化有底シームレス缶体を得る。 - 特許庁

The method for cleaning a reflective photomask blank, which has a conductive film essentially comprising Cr formed on one surface of a glass substrate, comprises etching the conductive film by using an aqueous solution of diammonium cerium nitrate in an etching amount of 10 nm to L-20 nm, wherein L (nm) represents the film thickness of the conductive film.例文帳に追加

ガラス基板の一方の面にＣｒを主成分とする導電膜が形成された反射型マスクブランクスの洗浄方法であって、前記導電膜の膜厚をＬ（ｎｍ）とするとき、エッチング量が１０ｎｍ以上、Ｌ−２０ｎｍ以下となるように、硝酸第二セリウムアンモニウム水溶液を用いて該導電膜をエッチング処理することを特徴とする反射型マスクブランクスの洗浄方法。 - 特許庁

To provide a mask blank for use in manufacturing of an FPD device, which is capable of suppressing the damage to a tantalum light-semitransmissive film of a lower layer as much as possible when wet-etching a light-shielding film (upper layer) made of chromium by a chromium etching solution and doesn't need an etching stopper and has a simple film configuration.例文帳に追加

クロムからなる遮光性膜（上層）をクロムのエッチング液でウエットエッチングする際に、下層のタンタル系半透光性膜へのダメージを極力抑えることができ、しかもエッチングストッパも不要で膜構成が単純であるＦＰＤデバイスを製造するためのマスクブランクを提供する。 - 特許庁

A method of smoothing the surface of a substrate for a reflective type mask blank for EUV lithography is characterized by smoothing the surface of a substrate having concave defects by applying a solution containing a polysilazane compound on the surface of the substrate having the concave defects and heating/curing it to form a silica coating (or a coating containing SiO_2 as a main skeleton).例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板表面を平滑化する方法であって、凹欠点を有する基板表面に、ポリシラザン化合物を含む溶液を塗布し、加熱・硬化してシリカ被膜（またはＳｉＯ_2を主骨格とする被膜）を形成することにより、前記凹欠点を有する基板表面を平滑化することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板表面を平滑化する方法。 - 特許庁