He-Xeとは 意味・読み方・使い方

He gas is mixed with at least one gas selected from among Ne, Ar, Kr, Xe and Rn to form a sputter-gas mixture.例文帳に追加

Ｈｅガスと、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、ＸｅおよびＲｎから選択される少なくとも１つのガスとを混合してスパッタリングガス混合物を得る。 - 特許庁

Accompanying gas which does not contain oxygen such as He, Ar, Kr, Xe, hydrogen, hydrocarbon whose carbon number is 2-6 or the like can be accompanied upon forming the film.例文帳に追加

Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、水素、炭素数２〜６の炭化水素などの水素を含まない同伴ガスを成膜時に同伴させてもよい。 - 特許庁

In using three components of gas of Ne, Xe and He, their mixture ratio, pressure, and a width of voltage pulse impressed on an address electrode are to be in following conditions.例文帳に追加

Ｎｅ、Ｘｅ、Ｈｅの３成分のガスを用いて、その混合比および圧力、アドレス電極に印加する電圧パルスの幅を次の条件となす。 - 特許庁

Since the position Xe of the moving mirror 15 corresponding to the interference strength measurement point is calculated by the extrapolation method, therefore, the position Xe of the moving mirror 15 corresponding to the interference strength measurement point is found without use of the coherent reference light source (e.g. a large He-Ne laser) even if the displacement of the moving mirror 15 is increased to achieve the high-resolution spectroscope 1.例文帳に追加

外挿法によって干渉強度測定点に対応する移動鏡１５の位置Ｘｅを算出するので、移動鏡１５の変位量を大きくして、高分解能の分光器１を実現する場合でも、干渉性の高い基準光源（例えば大型のＨｅ−Ｎｅレーザ）を用いることなく、干渉強度測定点に対応する移動鏡１５の位置Ｘｅを求めることができる。 - 特許庁

The gas electric panel is constituted of introducing an auxiliary gas, that consists of at least one kind chosen from carbon dioxide gas, steam, oxygen gas, and nitrogen gas, to the discharge space 30, which has been evacuated, until the residual gas pressure is set to 0.02 mPa or lower, and after that, introducing the gas base body of a He-Xe system or a Ne-Xe system.例文帳に追加

これを解決するために、本発明のガス放電パネルでは、残存ガス圧が０．０２ｍＰａ以下になるまで真空排気された放電空間３０に対して、炭酸ガス、水蒸気、酸素ガス、窒素ガスの中から選ばれる少なくとも一種類からなる補助ガスが導入され、その後にＨｅ−Ｘｅ系あるいはＮｅ−Ｘｅ系のガス基体が導入されてなる。 - 特許庁

The discharge gas is set to have a total pressure of 1.50×10^4 [Pa] or higher and 5.00×10^4 [Pa] or lower, Xe gas as a main component and He gas or Ar gas as an added component are contained and Ne gas is not contained.例文帳に追加

放電ガスには、全圧１．５０×１０^４［Ｐａ］以上５．００×１０^４［Ｐａ］以下に設定されており、主成分としてのＸｅガスと、添加成分としてのＨｅガスまたはＡｒガスとを含み、且つ、Ｎｅガスが含まれていない。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with the plasm of mixed gas made of water and inert gas, such as He, Ne, Ar, and Xe.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、ならびに、その表面と、水およびＨｅ、Ｎｅ、ＡｒまたはＸｅなどの不活性ガスからなる混合ガスのプラズマとを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

Or, silicon ultrafine particles are heat treated in one kind of inert gas selected from N2, He, Ar, Ne, Kr, Xe and mixture gas of these or in an inert gas containing these gases as the maim component.例文帳に追加

また、シリコン超微粒子をＮ_2、Ｈｅ、Ａｒ、Ｎｅ、Ｋｒ、Ｘｅ、及びそれらの混合ガスのうちいずれか１つの不活性ガス、又はそれらを主成分とする不活性ガス中で加熱処理するシリコン超微粒子の処理方法である。 - 特許庁