sputter outとは 意味・読み方・使い方

The shoulder of a portion of the silicon oxide film 30 covering a side wall spacer 14 in the silicide region is removed by carrying out sputter etching in the state.例文帳に追加

この状態でスパッタエッチングを行うことにより、シリサイド領域におけるシリコン酸化膜３０のうちサイドウォールスペーサ１４を覆う部分の肩部を除去する。 - 特許庁

Since SiO_2 is employed as the material of a guide ring 9, O_2 atoms out of the SiO_2 subjected to sputter etching with Ar ions contributes to etching at the end portion of a body 6 to be etched thereby raising etching rate at the end portion.例文帳に追加

ガイドリング９の材質をＳｉＯ_2にすることにより、ＡｒイオンによりスパッタエッチングされたＳｉＯ_2のうちのＯ_2原子が被エッチング体６の端部のエッチングに寄与し、端部のエッチング速度を上げることができる。 - 特許庁

Further, the unevenness is formed in the via hole even by the processing using the excimer laser, and a sputter layer is not uniform, so seed plating 11 on the via hole is carried out.例文帳に追加

更に、エキシマレーザで加工してもビアホール内部に凹凸が出来、スパッタ層が均一にされないため、ビアホールにシードめっき１１を施す。 - 特許庁

Machining is carried out after control of the hardness Hv of the sputter surface to ≥20, to suppressed the development of surface defects due to working and to prevent abnormal discharges.例文帳に追加

スパッタ面側の硬度をＨｖ２０以上に調整した後、機械加工を行なうことにより、加工に伴なう表面欠陥の発生を抑制し、異常放電の発生を防ぐ。 - 特許庁

To provide a radiation system which has a large turnout, and radiates a reduced out-of-band radiation amount and a reduced amount of high-speed particles which may possibly sputter downstream matters.例文帳に追加

大きな生産高を有し、低減された量の帯域外放射、及び、下流の物体をスパッタする可能性がある高速粒子の低減された量を発生できる放射システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a understructure of an elevator car on hydraulic system capable of suppressing sputter of the water having flowed out onto the bottom surface of the car floor and establishing the waterproofing measure for a hydraulic jack at a low cost and with easy mounting works.例文帳に追加

かご床底面に流れ出た水分の飛散を抑制し、油圧ジャッキの防水対策を安価で取付けが容易に行なえる油圧式エレベーターのかご下構造の提供。 - 特許庁

The manufacturing method of this lithium secondary battery electrode comprises a process of forming an oxidation film 11 by carrying out oxidation treatment on the surface of a current collector 10 made of copper and then a process of forming an active material layer 12 made of Si on the current collector 10 by using a sputter method.例文帳に追加

このリチウム二次電池用電極の製造方法は、銅からなる集電体１０の表面を酸化処理することによって、酸化膜１１を形成する工程と、その後、スパッタ法を用いて、集電体１０上に、Ｓｉからなる活物質層１２を形成する工程とを含んでいる。 - 特許庁

The lower electrode arranged with a substrate 19 is applied with an rf electric current such as MF, HF or VHF so that negative self-bias voltage is generated on the lower electrode for taking out ionized sputter atoms filling a contact hole on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板１９が配置される下部電極は、基板の表面上のコンタクトホールを満たすイオン化されたスパッタ原子を取り出すため、下部電極上に負の自己バイアス電圧を生成するようにＭＦ，ＨＦまたはＶＨＦのｒｆ電流が与えられる。 - 特許庁