w/aとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ダブリュー‐エー、和の思想（わのしそう）、あるいは、和の精神（わのせいしん）、和の心（わのこころ）とは、一部の（保守的な）知識人・評論家・思想家らが日本の精神文化・社会特性を説明するときに用いる用語、およびその用語を用いた日本の文化に関するナラティブ（日本人論）の一つである。
「w/a」を含む例文一覧
該当件数 : 517件
(w) A monitoring equipment shall be provided.発音を聞く 例文帳に追加
ム 監視装置を設備すること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
The mode of the stream (one of the values "r", "r+", "w", "w+", "a", "a+") must be compatible with the mode of the file descriptor.発音を聞く 例文帳に追加
ストリームのmode("r", "r+", "w", "w+", "a", "a+" のいずれか) はファイル記述子のモードと互換のものでなければならない。 - JM
A work W (a pump shell 21) is rotated at the predetermined number of rotation.例文帳に追加
ワークＷ（ポンプシェル２１）を所定回転数で回転駆動する。 - 特許庁
The cut length L1 is obtained by a relation: width of the recording paper W ×(A/B).例文帳に追加
この切断長Ｌ１は、記録紙幅Ｗ×（Ａ／Ｂ）で求められる。 - 特許庁
On the outermost peripheral surface of a silicon wafer W, a protective coat Wa is formed.例文帳に追加
シリコンウェーハＷの最外周面に保護膜Ｗａを形成する。 - 特許庁
The film deposition apparatus 100 includes: a treatment container 1 for housing a wafer W; a substrate heater 11 for heating the wafer W; a holding member 21 for holding the wafer W; a stage 31 as a raw material supporting part; and a raw material heater 41 for heating a solid raw material.例文帳に追加
成膜装置１００は、ウエハＷを収容する処理容器１と、ウエハＷを加熱する基板ヒーター１１と、ウエハＷを保持する保持部材２１と、原料支持部としてのステージ３１と、固体原料を加熱する原料ヒーター４１と、を備えている。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「w/a」の意味 |
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Wiktionary英語版での「w/a」の意味 |
W.A.
アナグラム
WA
発音
- (General Australian) IPA(key): /ˈdʌbəlˌjuː eɪ/
固有名詞
WA
- (US) Abbreviation of Washington: a state of the United States of America.
- (Australia) Initialism of Western Australia.
- (sports) Initialism of World Athletics.
アナグラム
Wa.
Weblio例文辞書での「w/a」に類似した例文 |
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w/a
つや
かぶっている
かま
with reservation(s)
since
正統性のある
with validity
with ostentation
a
むら
a village
Mr. So-and-so.
to speak with a provincial accent
1時に.
なってゆく
a trumpet
with
a fellow
wa
a
uj
むら
a village
since
a trumpet
かま
to speak with a provincial accent
that
ふた
wrasses
おおわれる
cutworms
あご
「w/a」を含む例文一覧
該当件数 : 517件
The CPU 200 calculates a weight W (a, i) set for each of the plurality of image data F(a).例文帳に追加
ＣＰＵ２００は、複数の画像データＦ(a)ごとに設定される重み付けＷ(a,i)を算出する。 - 特許庁
Surface roughness index φ=φ0×K2/D×Σ (K1×L×P/W)...(A).例文帳に追加
面荒れ指数φ＝φ０・Ｋ２／Ｄ・Σ（Ｋ１・Ｌ・Ｐ／Ｗ）・・・・・（Ａ） - 特許庁
The sipe has a width W, a depth Ds, and an effective length Le.例文帳に追加
サイプは、幅Ｗ、サイプ深さＤｓ、および有効サイプ長Ｌｅを有している。 - 特許庁
When finishing the child window W, a prescribed animation is displayed on the display area S.例文帳に追加
子ウインドウＷを終了する際に、所定のアニメーションを表示領域Ｓ上に表示する。 - 特許庁
Heating of a workpiece W, a pressurizing and a voltage application are carried out at the same location in a heating tank 2.例文帳に追加
ワークＷの加熱、加圧及び電圧印加を、加熱槽２内の同一位置で行う。 - 特許庁
The correcting element 13 can suppress an aberration W_A including the arrow-shaped aberration generated in the optical path by imparting an aberration having the opposite polarity to the aberration W_A.例文帳に追加
補正素子１３は、光路中で発生する矢形収差を含む収差Ｗ_Aに対して逆極性の収差を与えることによって、収差Ｗ_Aを抑制できる。 - 特許庁
A relation between a magnetic resistance WA in an actuating space formed by the armature 11, the core 6, and the yoke 1 and a magnetic resistance WR in a peripheral space between the core flange 8 and the yoke 1, WA<WR is established.例文帳に追加
アーマチャ１１とコア６及びヨーク１間の作動空隙の磁気抵抗W_Aと、コアフランジ８及びヨーク１間の周辺間隙の磁気抵抗W_Rとの間には、W_A<W_Rの関係が成立する。 - 特許庁
This machine tool is provided with a workpiece support means 3 such as a spindle 8 for supporting a workpiece W; a slide 9 movable with respect to the workpiece support means 3 in order to machine the workpiece W; a machining means 4 such as a tool rest 10; and a control means 2.例文帳に追加
ワークＷを支持する主軸８等のワーク支持手段３と、ワークＷに加工を行うためにワーク支持手段３に対し移動自在な送り台９，刃物台１０等の加工手段４と、制御手段２とを備える。 - 特許庁
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