「"発生しやすさ"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

また、作業問題事項それぞれについての、それら作業問題事項の発生しやすさを示す発生頻度を、作業者による複数の発生頻度選択項目の何れかの選択に基づいて算出する。例文帳に追加

A occurrence frequency that indicates how much each of the plurality of the operation problem items easily occurs is calculated based upon one operator's choice among a plurality of occurrence frequency choice items. - 特許庁

火災警報の発生しやすさを使用者に容易に認識させ、これによって、十分な換気を行い、誤報の発生を防止することができる警報器を提供する。例文帳に追加

To provide an alarm capable of allowing a user to easily to recognize that a fire alarm apt to be generated and preventing the generation of an erroneous alarm by sufficiently performing ventilation. - 特許庁

特に、解析回路５−５は、前記映像信号の１画面における偽輪郭の発生しやすさを、実輪郭が存在するか否かを考慮して解析し、解析結果に基づき、映像信号に基づく表示方法を変更する。例文帳に追加

In particular, an analysis circuit 5-5 analyzes occurrence proneness of the false outline on one screen of a video signal while considering whether an actual outline exists or not, and based on the analysis result, changes a displaying method based on the video signal. - 特許庁

そして輝度分布判定部12において、該フィルタ画像における輝度分布を所定エリア単位で判定し、該判定結果に基づくノイズの発生しやすさに応じて、輝度,色差ノイズ除去部15,16におけるノイズ除去係数を所定エリア単位で設定する。例文帳に追加

Then, a luminance distribution deciding part 12 decides luminance distribution in the filter image by predetermined area units, and sets noise removal coefficients in luminance and color difference noise removing parts 15 and 16 according to the easiness of the generation of a noise based on the decision result. - 特許庁

ロックアップを一時的に解除する踏み込み速度しきい値をガクガク振動のレベル（発生しやすさ）と相関のあるパラメータにより切り換えることで、ガクガク振動の発生の抑制と燃費の向上との両立を図ることができる自動変速機のロックアップ制御装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a lock-up control device for an automatic transmission capable of improving fuel consumption as well as suppressing generation of rattled vibration by changing an actuating speed threshold value for temporarily releasing lock-up by a parameter which is correlated with rattled vibration level (easily generating). - 特許庁

入力する映像信号の最大値、すなわち液晶パネルに印加される最低電位を検出し、この検出値をフレーム単位で平滑化した値をもとに、表示画面上での逆転移現象の発生しやすさを判断する。例文帳に追加

A tendency for the reverse transition phenomenon to occur on a display picture is determined by detecting the maximum value of input image signals, i.e., the lowest potential applied on a liquid crystal panel and by taking a value derived from smoothing the detected value for a unit frame as a basis. - 特許庁

装置は第１の期間にて切替弁の状態を通過状態に設定するとともにノッキングの発生しやすさの程度を表す状態量を取得し、且つ、第２の期間にて切替弁の状態を迂回状態に設定するとともに同状態量を取得する。例文帳に追加

The device sets the state of the selector valve to the passing state and acquires a state quantity representing a degree of ease to cause knocking in a first time period, and the device sets the state of the selector valve to the bypassing state and acquires the state quantity in a second time period. - 特許庁

基板上に形成した突起によってセルギャップを支持する液晶パネルでは、突起の大きさ、形状、突起の下地の構成によって、低温気泡の発生しやすさやパネルの押圧に対する強度が異なり、最適な突起密度をもとめることが困難である。例文帳に追加

To solve the problem, in a liquid crystal panel wherein a cell gap is supported by the protrusions formed on a substrate, the ease of generation of a low-temperature bubble and the strength to the pushing pressure of the panel depend on the sizes, shapes and the constitution of the underground of the protrusions and the optimal density of the protrusions is difficult to be found. - 特許庁

このとき、エンジンＥＣＵ４０は、筒内圧力、筒内温度及び空燃比に基づいて電流リークの発生しやすさを判定すると共に、電流リークが発生しにくくなるよう印加電圧の電圧値や印加タイミングを決定する。例文帳に追加

At this time, the engine ECU 40 determines probability of generation of the current leak based on cylinder pressure, a cylinder temperature, and an air-fuel ratio, and determines the application timing or voltage value of the applied voltage to make it harder for the current to leak. - 特許庁

リソグラフィとプロセスによる半導体装置の設計レイアウトパターンでの配線不良の発生しやすさをスコアとして定量化し、このスコアに基づいて設計レイアウトパターンの良否を判定し、この良否の判定が良であれば設計レイアウトパターンを転写した転写レイアウトパターンを半導体基板上に形成する。例文帳に追加

A tendency of inducing wiring failures in a design layout pattern of a semiconductor device by lithography and processing is quantified as a score; whether the design layout pattern is good or not is discriminated by the score; and if the pattern is discriminated as good, a transfer layout pattern transferred from the design layout pattern is formed on a semiconductor substrate. - 特許庁