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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "AL is"に関連した英語例文

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"AL is"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 279



例文

In order to provide frequency dependency onto the coefficient K, the alignment signal AL is added to the signals E or F through a filter.例文帳に追加

この係数Kに周波数依存性を持たせるため、アライメント信号ALをフィルタを通して信号EまたはFに加算する。 - 特許庁

A thin film 161 containing Al is also formed between the Cu wiring member 16 and the barrier metal layer BMTL.例文帳に追加

さらに、上記Cu配線部材16とバリアメタル層BMTLの間にAlを含む薄膜161が介在している。 - 特許庁

(2) A slag refining agent (30% pure metallic Al) is added, before vacuum-decarbirizing to adjust low grade oxide concentration in the ladle slag.例文帳に追加

(2)真空脱炭前にスラグ改質剤(金属Al純分30%)を添加して取鍋スラグ中の低級酸化物濃度を調整する。 - 特許庁

To completely prevent the occurrence of dross in a hot dip galvanizing bath when a zinc ingot containing Al is charged into the hot dip galvanizing bath.例文帳に追加

溶融亜鉛めっき浴中にAlを含有する亜鉛インゴットを投入する際に、めっき浴中のドロス発生を完全に防止する。 - 特許庁

例文

The ridge side surface of the p-AlInAs/p- AlGaInAs layer 25 is formed as the Al oxide film 28 where the Al is selectively oxidized.例文帳に追加

p−AlInAs/p−AlGa InAs層25のリッジ側面部は、Alが選択的に酸化されたAl酸化層28となっている。 - 特許庁


例文

In a practical device, Ni or Al is laminated on the metal layer for soldering to a lead frame or for wire-bonding, respectively.例文帳に追加

また、実際のデバイスでは、リードフレームへ半田接合する場合には該金属層の上にNiを、ワイヤ接合する場合にはAlをそれぞれ積層する。 - 特許庁

The electrode 16 comprising an alloy between Ni and Al is formed on the surface of the first region 15.例文帳に追加

第1の領域15の表面には、NiとAlとからなる合金によって構成される電極16が形成されている。 - 特許庁

Further, the total content of the oxide of at least one kind selected from Cr, Cu, Fe, Si and Al is preferably controlled to ≤1,000 ppm.例文帳に追加

また、Cr,Cu,Fe,SiおよびAlの少なくとも1種の酸化物の合計含有量が1000ppm以下であることが好ましい。 - 特許庁

Meanwhile, an air introducing passage PAo introducing the pressurized air into the air passage AL is provided outside each brake pad 14.例文帳に追加

一方、各ブレーキパッド(14)外には、空気通路(AL)に加圧空気を導入可能な空気導入路(PAo)が設けられている。 - 特許庁

例文

Then, a group III nitride film containing Al is formed via the needlelike structure onto the main surface of the single crystal substrate.例文帳に追加

次いで、前記単結晶基板の前記主面上において、前記針状構造を介してAl含有III族窒化物膜を形成する。 - 特許庁

例文

Al is then deposited as an insulating layer 12 at a size of 4.5 mmϕ diameter to a film thickness of 1.5 nm at the center of the Fe 10.例文帳に追加

次に、Fe10の中心に、絶縁層12としてAlを、4.5mmφの大きさで1.5nmの膜厚に成膜する。 - 特許庁

This attachment lens AL is attached to the object side of the photographic lens main body TL in the case of short distance photography.例文帳に追加

近距離撮影の際に、撮影レンズ本体TLの物体側にアタッチメントレンズALを装着する。 - 特許庁

To provide a new method for manufacturing a III group nitride film of satisfactory film quality especially when a comparatively large amount of Al is included.例文帳に追加

特にAlを比較的多く含む場合において、良好な膜質のIII族窒化物膜を製造することが可能な新規な方法を提供する。 - 特許庁

Oxide containing Zn and Al is coated on a surface of cathode active material particles mainly composed of lithium-nickel composite oxide.例文帳に追加

リチウムニッケル複合酸化物を主成分とする正極活物質粒子の表面にZnとAlとを含む酸化物を被着させる。 - 特許庁

The steel to be cut preferably includes S≤0.05 mass%, and/or Al is regulated to be at 0.005 mass% or less.例文帳に追加

被切削鋼は、質量%で、S≦0.05%を含むこと、および/または、Al:0.005%以下に規制されることが好ましい。 - 特許庁

The steel to be cut preferably includes S≤0.05 mass%, and/or Al is regulated to be at 0.005 mass% or less.例文帳に追加

また被切削鋼は、質量%で、S≦0.05%を含むこと、および/または、Al:0.005%以下に規制されることが好ましい。 - 特許庁

A heat sink 30 (that is formed, for example, of Al) is mounted on the passivation layer 28 with an adhesive layer 29 interposed therebetween.例文帳に追加

パッシベーション層28上には、接着剤層29を介してヒートシンク30(例えばAlによって形成)が取り付けられている。 - 特許庁

An alloy coating layer 5 in which Hf or the like is diffused into (Pt, Ni) Al is formed on the base material 1 by the Al diffusion coating.例文帳に追加

Alの拡散コーティングにより基材1上に、(Pt、Ni)AlにHf等が拡散した合金コーティング層5が形成される。 - 特許庁

Here, a melting point of the low melting point material (Al) is higher than a heat resistant temperature of an insulating coating film of an armature coil.例文帳に追加

但し、低融点材料(Al)の融点は、アーマチャコイルの絶縁皮膜の耐熱温度より高くなっている。 - 特許庁

It is possible that, in addition to the above composition, N is contained so as to be regulated to600 ppm, or Ca is contained by ≤0.01%, one or more kinds selected from V, Nb and Ti are contained by ≤0.5% in total, and Al is contained by ≤1.5%.例文帳に追加

上記組成に加えNを600ppm以下に規制し、あるいは、Caを0.01%以下、V,Nb,Tiのうち1種類以上を合計で0.5%以下、Alを1.5%以下含んでもよい。 - 特許庁

The M-th processor processes the command inputted thereto in ST203, when the AM>AL is not satisfied in ST202.例文帳に追加

ST202においてAM>ALでない場合は、ST203において第Mプロセッサが、自身に入力された命令を処理する。 - 特許庁

Preferably, the content of Al is ≥0.6%, or further, the content of Ca is regulated to ≤5 ppm and Mg to30 ppm.例文帳に追加

好ましくは、Al:0.6%以上、あるいはさらにCa:5ppm以下、Mg:30ppm以下に規制する。 - 特許庁

To obtain a buried hetero semiconductor laser device which is improved in laser characteristics, having a prolonged service life by a method wherein a re-grown interface containing Al is protected against oxidation in a CM-BH structure.例文帳に追加

CM−BH構造においてAlを含む再成長界面の酸化を防いで良好なレーザ特性および素子寿命を得る。 - 特許庁

It is preferable that its Si/Al is100 or the zeolite does not contain Al.例文帳に追加

前記ゼオライトはSi/Al比が100以上であるゼオライト、またはAlを含まないゼオライトであることが好ましい。 - 特許庁

Then Al is caused to deposit on the substrate 900 by moving the substrate 900 to a position above a third deposition chamber 400 and exposing the substrate 900 to TMA for an arbitrary period of time.例文帳に追加

次いで、成長室400の上部にて、基板900を任意時間TMAに晒してAlを堆積させる。 - 特許庁

A slab having a composition containing ≤0.02% Al and 0.0050 to 0.0250% N, and in which N/Al is controlled to ≥0.3 is subjected to hot rolling so as to satisfy FDT: ≥800°C and is thereafter coiled at CT: ≤750°C.例文帳に追加

Al:0.02%以下、N:0.0050〜0.0250%を含み、かつN/Alを0.3 以上としたスラブをFDT :800 ℃以上とする熱延後、CT:750 ℃以下で巻き取る。 - 特許庁

If Mg or Al is added as a second different element in addition to the first different element, the characteristic is further improved.例文帳に追加

また、第1異種元素に加えて第2異種元素としてのMgあるいはAlを添加すると、さらに特性が向上する。 - 特許庁

When this molten metal is solidified, Al is solid-soluted into a matrix structure of the iron based alloy, so as to suppress the formation of an Si solid solution.例文帳に追加

この溶湯を凝固すると、Alが鉄基合金の基地組織中に固溶し、Siが固溶することを抑制する。 - 特許庁

When the mole ratio is Ca/Si≥1.3, the material containing Al is added so as to make Al_2O_3 mass percentage ≥ ((Ca/Si)×0.357-0.464)×100.例文帳に追加

ただしこのときモル比においてCa/Si≧1.3であればAl_2O_3質量%≧((Ca/Si)×0.357-0.464)×100となるように前記Alを含む物質を添加する。 - 特許庁

In a plating film, the content of Al is controlled, by mass, to 0.20 to 0.70%, Fe to ≤1.0%, Pb to ≤0.005%, and Mg to 0.01 to 0.1%.例文帳に追加

めっき皮膜中のAl:0.20 〜0.70質量%、Fe:1.0質量%以下、Pb:0.005質量%以下、Mg:0.01 〜0.1 質量%とする。 - 特許庁

If e.g. the depth of a recess is 0.10 μm and the opening width is 0.4 μm, Al is never deposited in the bottom of the recess R.例文帳に追加

例えば,リセス部の深さが0.10μm,開口幅が0.4μmであれば,Alがリセス部Rの底面に蒸着されることはない。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device capable of generating a higher optical output for a practically operation time even if Al is not contained in an active layer.例文帳に追加

活性層にAlを含んでいなくても、より高い光出力を実用的な動作時間出すことができる半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

As one method, an ingot of which the content of Fe is 0.02 to 0.06 wt.%, and the purity of Al is ≥99.8 wt.% is prepared.例文帳に追加

一つの方法としては、Fe含有量が0.02〜0.06重量%でAl純度が99.8重量%以上の鋳塊を準備する。 - 特許庁

Thus, A bonding layer 4 constituted of the Zn primary crystal 21 and the eutectic crystal 22 of Zn and Al is formed thereby.例文帳に追加

これにより、Zn初晶21およびZnとAlとの共晶22から構成される接合層4が形成される。 - 特許庁

The contents of C, Mn and Ti satisfy (C+ Mn/10+Ti)=0.30 to 0.60, and the total content of Ni, Cr, Mo and Al is 0.01 to 0.5 mass%.例文帳に追加

また、C、Mn及びTiの含有量が、(C+Mn/10+Ti)=0.30〜0.60を満足し、Ni、Cr、Mo、Alの総量が0.01〜0.5質量%である。 - 特許庁

Further, by vacuum deposition, a negative electrode 50 made of LiF/Al is formed at the prescribed place with a thickness of 1,000 Å.例文帳に追加

更に、真空蒸着により、LiF/Alから成る陰極50を、所定の場所に1000Åの厚みで形成した。 - 特許庁

To provide a copper alloy for a sliding part, in which embrittlement is hard to occur even when the contents of Al is increased and which has excellent wear resistance and seizure resistance.例文帳に追加

Cu-Al系合金においてAl含有量を高くしても脆化を起こさず、耐摩耗性及び耐焼付性がすぐれた摺動材料を提供する。 - 特許庁

Then, LiF/Al is vaporized at a thickness of 1,000 Å by vacuum vapor deposition and the negative electrode 11e is made.例文帳に追加

その後、マスク真空蒸着により、LiF/Alを1000Åの厚みで蒸着し、陰極11eとした。 - 特許庁

FC-AL is unique in that it serves as both a medium for transferring network messages as well as a storage interface. 例文帳に追加

ファイバチャネル調停ループ(FC-AL)は,記憶インタフェースとしてだけでなく,ネットワークメッセージを転送する媒体としても機能する点が独特である. - コンピューター用語辞典

Article 39 (1) When a court-appointed contract defense counsel et al. is appointed as a court-appointed defense counsel, the provision of paragraph (2) of Article 38 of the Code of Criminal Procedure shall not apply. 例文帳に追加

第三十九条 国選弁護人等契約弁護士が国選弁護人に選任されたときは、刑事訴訟法第三十八条第二項の規定は、適用しない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 39-2 (1) When a court-appointed contract attorney at law et al. is appointed as an official attendant who is an attorney for juveniles, the provision of paragraph (4) of Article 22-3 of the Juvenile Law shall not apply. 例文帳に追加

第三十九条の二 国選弁護人等契約弁護士が国選付添人に選任されたときは、少年法第二十二条の三第四項の規定は、適用しない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The ratio d_Zn/d_Al of mean particle size of zinc powder d_Zn to that of aluminum powder d_Al is 3 to 50.例文帳に追加

該ジンクリッチプライマー層におけるアルミ粉末の平均粒径d_Alと亜鉛粉末の平均粒径d_Znの比d_Zn/d_Alが、3〜50である。 - 特許庁

In the color filter coloring composition comprising a colorant, a thermosetting resin, and a solvent, a phthalocyanine pigment containing Al is used as a blue pigment.例文帳に追加

着色剤、熱硬化性樹脂、及び溶媒からなるカラーフィルタ用着色組成物において、青色の色素として、Alを含有するフタロシアニン顔料を用いたこと。 - 特許庁

A liquid state impurity source layer 2 containing Al is formed on a semiconductor substrate 1 and dried and then a glass solution layer 4 of organic silicon is formed thereon.例文帳に追加

半導体基板1の上にAlを含む液状不純物源層2を形成して乾燥させ、この上に有機シリコンから成るガラス溶液層4を形成する。 - 特許庁

A new calcium hydroxide-based compound obtained by substituting Ca in the vicinity of the surface of calcium hydroxide crystal with Al or Mg and Al is used as the thermal stabilizer.例文帳に追加

水酸化カルシウムの結晶表面近傍のCaをAl、またはMgとAlで置換させた、新規な水酸化カルシウム系化合物を熱安定剤として使用する。 - 特許庁

Proposed is the copper powder for an electrically conductive paste which contains aluminum (Al) and phosphorus (P), and is characterized in that the concentration of Al is more than 10.0 atm% and 65.0 atm% or less.例文帳に追加

Al(アルミニウム)及びP(リン)を含有する導電性ペースト用銅粉であって、Al濃度が10.0atm%より多く、且つ65.0atm%以下であることを特徴とする導電性ペースト用銅粉を提案する。 - 特許庁

Preferably, aluminum (Al) is added to the layer 21, and the amount of added aluminum is in a range of25 atm% and <50 atm%.例文帳に追加

第1の反応層21にはアルミニウム(Al)が添加されていることが好ましく、その添加量は25atm%以上、50atm%未満であることがより好ましい。 - 特許庁

The beam shaping lens AL is held by a holder with a laser diode LD, and the holder has a recess at the position corresponding to the position of the projection 25.例文帳に追加

このビーム整形レンズALは、ホルダでレーザダイオードLDと共に保持されるが、そのホルダにはこの凸部25と対応する位置に凹部が設けられている。 - 特許庁

The nitrogen content of each part of the sputtering target consisting mainly of Al is set to be within ±40% to the average value of the nitrogen content of the entire target.例文帳に追加

Alを主成分とするスパッタリングターゲットの各部位の窒素量をターゲット全体の窒素量の平均値に対して±40%以内とする。 - 特許庁

例文

The group III nitride primary layer 23 containing at least Al is directly formed on the substrate 21 consisting of sapphire single crystal or the like without interposing a low temperature buffer layer.例文帳に追加

サファイア単結晶などからなる基板21上に、低温バッファ層を介することなく、少なくともAlを含むIII族窒化物下地層23を直接的に形成する。 - 特許庁

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日本法令外国語訳データベースシステム
※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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