「"Design Pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

DESIGN PATTERN PREPARATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の設計パターン作成方法、プログラム、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To correct a design pattern to a shape suited to mask plotting or inspection by simple processing.例文帳に追加

設計パターンを、簡単な処理でマスク描画や検査に適した形状にパターン補正する。 - 特許庁

In the formation of the design pattern, the design, device, or the like for expressing the machine type information so as to be discriminable from various images of the design pattern and harmonized with a natural state can be reduced to facilitate the designing, and the design pattern is mad able to be efficiently formed.例文帳に追加

そしてデザイン図の作成においては、デザイン図の各種画像に対し機種情報を識別可能、且つ、自然な状態に融合させて表現するための考案や工夫等が軽減され図案化が容易になり、効率良く作成できるようになる。 - 特許庁

DESIGN CORRECTION METHOD, DESIGN PATTERN GENERATING METHOD, AND PROCESS PROXIMITY CORRECTION METHOD例文帳に追加

設計パターン補正方法と設計パターン作成方法及びプロセス近接効果補正方法 - 特許庁

To appropriately form an image and a decorative design pattern thereof without the need of changing a layout of the decorative design pattern for each of the number of images of which the layout is to be performed and of separately preparing a template.例文帳に追加

レイアウトする画像の数毎に装飾図柄のレイアウトを変更したり別途テンプレートを用意したりする必要なしに、画像とその装飾図柄とを適正に形成させる。 - 特許庁

Either or both of the external design pattern 21 and the internal design pattern 22 are obtained by corrugating the surfaces of the transparent external plate part 18 and the internal plate part 17.例文帳に追加

外側デザインパターン２１と内側デザインパターン２２のいずれか一方又は双方は、外側プレート部１８や内側プレート部１７の表面に凹凸を施すことによって得られる。 - 特許庁

To create a simulation pattern that can be compared with a design pattern at higher speeds and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.例文帳に追加

設計パターンとの比較を高速化できるとともに設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できるシミュレーションパターンを作成可能なパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a design pattern for a chip whose size is smaller than before and whose finish shape is guaranteed.例文帳に追加

従来よりも小さいチップサイズのパターンで、仕上がり形状が保証された設計パターンを得る。 - 特許庁

In the circuit substrate 10, a copper layer in accordance with a design pattern is etched in a predetermined pattern shape.例文帳に追加

回路基板１０は、設計パターンに従って銅層が所定のパターン形状にエッチングされる。 - 特許庁

To uniformly form a pattern of a dimension corresponding to a design pattern dimension on an entire substrate surface.例文帳に追加

設計パターン寸法に応じた寸法のパターンを基板面内の全面で一様に形成すること。 - 特許庁

First, design pattern data to design the pattern of a semiconductor device is stored in a memory device.例文帳に追加

まず、半導体装置のパターンを設計するための設計パターンデータを記憶装置に記憶させる。 - 特許庁

Forget about trying to remember how the design pattern is actually structured.例文帳に追加

デザインパターンが実際にどのような構造になっているかを記憶しようとすることは忘れてください。 - NetBeans

To provide a method of effectively manufacturing a wood-cement board having an uneven design pattern.例文帳に追加

生産効率良く凹凸意匠面を有する木質セメント板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Both of the original embroidery fabric 13 and the embroidery-stitched 14 design pattern 16 is transfer-copied to the transfer film 11.例文帳に追加

元刺繍布地１３も刺繍１４した絵柄模様１６を転写フィルム１１にコピーする。 - 特許庁

In performing the correction of proximity effect to a design pattern with which the structural layer of a semiconductor device can be designed, first, a plurality of divided areas DA are formed by dividing the whole area of a design pattern.例文帳に追加

半導体装置の構成層を設計する設計パターンに近接効果の補正をするにあたって、まず、設計パターンの領域全体を等分して複数の分割領域ＤＡを生成する。 - 特許庁

To provide an image formation device for balancing a design pattern effect with a recognition rate of a dot pattern with respect to code information-embedding data with a design pattern function; and an image processing method of an image formation device.例文帳に追加

地紋機能付きのコード情報埋め込みデータに対して地紋効果とドットパターンの認識率の両立を可能とする画像形成装置及び画像形成装置の画像処理方法を提供する。 - 特許庁

The area density of a design pattern in the density calculation area is calculated (an area density calculating part 46).例文帳に追加

密度計算領域における設計パターンの面積密度を計算する（面積密度計算部４６）。 - 特許庁

The original embroidery fabric 13 is,embroidered a design pattern 16 at a rough interval with the embroidering yarn 14A.例文帳に追加

元刺繍布地１３に刺繍糸１４Ａを粗の間隔で絵柄模様１６を刺繍１４する。 - 特許庁

To provide a computer-implemented method for detecting a defect in a reticle design pattern.例文帳に追加

レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装された方法を提供する。 - 特許庁

To design pattern data in a short turnaround time and to improve the production yield of a semiconductor device.例文帳に追加

パターンデータを短いターン・アラウンド・タイムで設計でき、また、半導体装置の製造歩留まりを向上できる。 - 特許庁

COMPUTER-IMPLEMENTED METHOD FOR DETECTING AND (OR) SORTING DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN例文帳に追加

レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出し、かつ（あるいは）ソートするためのコンピュータに実装された方法 - 特許庁

The Composite View design pattern pertains to web application design when you are creating a view from numerous subviews.例文帳に追加

複合ビューデザインパターンは、ビューを多数のサブビューから作成する際の Web アプリケーションのデザインに関係します。 - NetBeans

An original design pattern is altered till difference between an objective pattern and a simulation pattern becomes below a specified value.例文帳に追加

目標パターンとシミュレーションパターンとの差異が規定値以下になるまでオリジナル設計パターンが変更される。 - 特許庁

A design pattern image is created by using the dot patterns, and is superposed on an image of a printing object.例文帳に追加

それらのドットパターンを用いて地紋画像を生成し、それを印刷対象の画像に重畳する。 - 特許庁

Resolution of an area of an end edge at the flat surface part 3 side of the design pattern in the recession part 2 and an area of an end edge at the recession part 2 side of the design pattern in the flat surface part 3 becomes lower than that of the other area.例文帳に追加

凹部２における意匠模様の平面部３側の端縁の領域と、平面部３における意匠模様の凹部２側の端縁の領域では、他の領域よりも解像度が低くなっている。 - 特許庁

The display plate 55 is easily detachably attached to the receiving part 62 so as to facilitate the change in the design pattern.例文帳に追加

表示プレート５５は、受け部６２から容易に着脱自在になっており、意匠パターンの変更が容易である。 - 特許庁

The display plate 55 is easily detachably attached to the frame 62 so as to facilitate the change in the design pattern.例文帳に追加

表示プレート５５は、フレーム６２から容易に着脱自在になっており、意匠パターンの変更が容易である。 - 特許庁

Then OPC correction to the altered original design pattern is performed and an OPC correction pattern is formed.例文帳に追加

次に、変更後のオリジナル設計パターンに対してＯＰＣ補正が行われ、ＯＰＣ補正パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a glazing apparatus capable of forming a design pattern such as shading, patches, or the like on roof tiles using one spray gun.例文帳に追加

一つのスプレーガンで瓦に濃淡、斑、その他のデザイン模様を形成することができる施釉装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING DESIGN PATTERN DATA OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

半導体集積回路の設計パターンデータ処理方法及び半導体集積回路の設計パターンデータ処理装置 - 特許庁

SPUN LACE NONWOVEN FABRIC WITH DESIGN PATTERN, AND MESH BELT FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING THE MESH BELT例文帳に追加

意匠模様入りスパンレース不織布、及び意匠模様入りスパンレース不織布製造用メッシュベルトとその製造方法 - 特許庁

In the first pattern formation step, the first pattern which is smaller than a design pattern corresponding to the design data is formed.例文帳に追加

第１のパターン形成工程では、デザインデータに対応するデザインパターンより小さい第１のパターンを形成する。 - 特許庁

CORRECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT DESIGN PATTERN DATA AND PHOTOMASK MADE BY PATTERN DATA OBTAINED BY THIS CORRECTION METHOD例文帳に追加

半導体回路設計パタンデータの補正方法、該補正方法により得られたパタンデータにより作製されたフォトマスク - 特許庁

Difference between the altered original design pattern and the objective pattern is extracted and a plus/minus correction layer is produced.例文帳に追加

この変更後のオリジナル設計パターンと目標パターンとの差異を抽出し、プラス・マイナス補正レイヤーが作成される。 - 特許庁

To provide a method for processing a design pattern with a large process margin and a program therefor, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

プロセスマージンの大きい設計パターン処理法、プログラム、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A hole position image for showing the hole position of a design pattern is stored beforehand in a hole position image storage part 23.例文帳に追加

穴位置画像記憶部２３には、設計パターンの穴位置を表した穴位置画像が予め記憶されている。 - 特許庁

To provide a correction method for design pattern data of semiconductor circuits which adopts the correction of the design pattern data relating to making of fine patterns onto semiconductor wafers at a practicable level amidst the recent increasing tendency to the higher fineness and hither density of patterns.例文帳に追加

最近の、パタンの微細化、高密度化がますます進む中、半導体ウエハ上への微細パタン作製に係わる設計パタンデータの補正を、実用レベルで採り入れた半導体回路の設計パタンデータの補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a control method thereof that cannot establish image processing of disabling a design pattern effect to images with design patterns and warrants the design patterns by prioritizing the design pattern effect even when the image processing is established.例文帳に追加

地紋が付加された画像に対しては地紋効果がなくなる画像処理を設定できない、設定された場合でも地紋効果を優先させることで、地紋パターンを保障する画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

The design pattern 16 of the embroidery transferred sheet 10 copied to the transfer film 11 is thermally transferred to the embroidery fabric 17.例文帳に追加

転写フィルム１１にコピーした刺繍転写シート１０の絵柄模様１６を被刺繍布地１７に熱転写する。 - 特許庁

The building material is constituted of a substrate 1 and a design pattern layer 2 formed thereon by applying water-based ink onto the surface of the substrate 1 having been subjected to a hydrophilic treatment.例文帳に追加

基材１表面に親水性処理を施した後、水性インクを塗布して模様層２を形成して成る。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for printing a building plate capable of developing a desired clear design pattern.例文帳に追加

所望する鮮明な柄模様を発現することができる建築板の印刷方法及び印刷装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method for efficiently performing lithography rule check on a design pattern after optical proximity correction.例文帳に追加

光近接効果補正後の設計パターンに対して効率的にリソグラフィールールチェックを行うパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

Under this constitution, the tint block and the design pattern of the printed part are visually recognized bad are invisible in the copied coupon.例文帳に追加

この構成により、印刷部ではその部分の地紋や模様パターンが視覚認識できるが、複写品では消失する。 - 特許庁

Then the design pattern is corrected (S14, S16 and S18) by the numerical model using the selected parameter value.例文帳に追加

次いで、選択されたパラメータの値を用いた数式モデルにより、設計パターンを補正する（Ｓ１４、Ｓ１６及びＳ１８）。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PATTERN, PATTERN CORRECTING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTING PROGRAM AND DESIGN PATTERN例文帳に追加

パターン補正方法、パターン補正システム、マスク製造方法、半導体装置製造方法、パターン補正プログラム、及び設計パターン - 特許庁