「"Diffraction pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11.例文帳に追加

そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の分布が支持体中心から等方的である。 - 特許庁

The diffractive element is produced by forming a cover layer 20D and a diffraction pattern layer 20E on an upper face 20Ca and a lower face 20c, respectively, of a base layer 20C comprising an injection molded product.例文帳に追加

本発明は、射出成型品でなるベース層２０Ｃの上面２０Ｃａ及び下面２０Ｃｂにカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅがそれぞれ形成される。 - 特許庁

Phase differences are made even by the fine projecting and recessed structures in the nano order and a diffraction function having diffraction efficiency nearly free from wavelength dependency can be exhibited by the diffraction pattern.例文帳に追加

ナノオーダーの微小凹凸構造により位相差が揃えられて、回折パターンにより回折効率に波長依存性が少ない回折機能を発揮することができる。 - 特許庁

The catalyst component for olefin polymerization comprises a laminar ion-exchangable silicate having a peak at a 2θ of 61.70° to 61.97° in the X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

Ｘ線回折において、２θ＝６１．７０°〜２θ＝６１．９７°にピークを有するイオン交換性層状珪酸塩からなることを特徴とするオレフィン重合用触媒成分。 - 特許庁

The anode material contains a carbonaceous material having a diffraction peak between 2θ diffraction angles of 30 to 32° in an X-ray (CuKα) powder diffraction pattern.例文帳に追加

負極材料は、Ｘ線（ＣｕＫα）粉末回折パターンにおける２θ回折角３０度〜３２度の間に回折ピークを有する炭素質材料を含有する。 - 特許庁

The diffraction pattern layer 20E and the cover layer 20D are successively formed by a UV replica method, in the order of higher glass transition point Tg of the UV-curing resin to be used.例文帳に追加

そして、使用されるＵＶ硬化樹脂のガラス転移点Ｔｇが高い順にＵＶレプリカ法によって回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄを設けるようにした。 - 特許庁

To provide a reflection high-energy electron diffraction apparatus that can generate a reflection electron image diffraction pattern by using an electron beam having an extremely small current value at a nanoampere level.例文帳に追加

ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。 - 特許庁

The electron emission film 1 having an X-ray diffraction pattern of diamond, constituted by a plurality of diamond particles with the size of 5 nm to 10 nm is formed on a substrate 2.例文帳に追加

基板２上に、Ｘ線回折においてダイヤモンドのパターンを有し、粒径が５nmから１０nmである複数のダイヤモンド粒子より構成された電子放出膜１を形成する。 - 特許庁

The formed crystal is collected and dehydrated to afford the objective βd-crystal of the ivabradine hydrochloride, having a specific X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

それにより生成した結晶を回収し、次いで脱水し、下記式（Ｉ）で示され、特定のＸ線回析パターンを有するイバブラジン塩酸塩のβｄ−結晶を得る。 - 特許庁

This crystal is, for example, characterized by an X-ray powder diffraction pattern given by copper radiant rays which are passed through a monochromator and have a λ of 1.5418Å.例文帳に追加

本発明の結晶は、例えば、モノクロメーターを通したλ＝１．５４１８Åの銅放射線で得られるＸ線粉末回折パターンにおいて特徴づけられる。 - 特許庁

In a diffraction experiment, conservation of energy implies that the total intensity in the diffraction pattern is equal to the total intensity at the exit surface of the object. 例文帳に追加

回折実験においてエネルギーの保存は、回折図形の中の全強度が物体の出射面での全強度に等しいことを(論理的に当然のこととして)意味する。 - 科学技術論文動詞集

The first diffractive element is movable so that each of its diffraction pattern portions can be selectively positioned in the incident beam's path and the diffraction pattern portions of the first diffractive element are designed to cause the incident beam to have different spatial illumination profiles at a pupil plane of the incident beam while reducing effects caused by the incident beam's coherence.例文帳に追加

第１回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第１回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。 - 特許庁

Distribution of wave front variation caused by the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face is measured based on the interference fringe between the reference light comprising the light reflected from a reference plane 5a and a measuring light comprising the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face and then the measurements of plane shape are corrected based on the measured distribution of wave front variation.例文帳に追加

参照面（５ａ）での反射光からなる参照光と回折パターン面での反射０次回折光からなる測定光との干渉縞に基づいて、回折パターン面での反射０次回折で生じる波面変化の分布を測定し、測定した波面変化の分布に基づいて被検面の面形状の測定結果を補正する。 - 特許庁

The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support.例文帳に追加

Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折パターンにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）９．３，１３．４，２０．０，２３．９，２７．４°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。 - 特許庁

The shape of the droplet is measured by analyzing the diffraction pattern obtained through these processes, and a change in the shape of the droplet is measured by putting the results of measurement in a time series.例文帳に追加

上記の工程を経て得られた回折パターンを解析することで液滴形状を計測し、計測結果を時系列に並べることで液滴の形状変化を計測する。 - 特許庁

(Step 2) The crystal size of t is determined by a following equation from a half value width w of a peak observed when q of a scattering vector is in a range of 5<q<30 nm^-1 on the X-ray diffraction pattern acquired.例文帳に追加

（ステップ２）得られたＸ線回折図形で、散乱ベクトル：ｑが、５＜ｑ＜３０ｎｍ^-1の範囲に観察されるピークの半値幅：ｗより次式により結晶サイズ：ｔを求める。 - 特許庁

In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.例文帳に追加

そのＸ線回折パターンには、ＢａＣＯ_３の（１１１）面のピークが存在し、このピークの耐久後強度（Ｉ_Ａ）と初期強度（Ｉ_Ｆ）との強度比Ｉ_Ａ／Ｉ_Ｆが、０．２〜１である。 - 特許庁

<Positions (lattice plane distance d/Å) by the lattice plane distance display of the peaks in the X-ray diffraction pattern>: 12.4±0.8, 10.8±0.5, 9.0±0.3, 6.0±0.3, 3.9±0.3, 3.4±0.1.例文帳に追加

＜Ｘ線回折パターンにおけるピークの格子面間隔表示による位置（格子面間隔ｄ／Å）＞１２．４±０．８、１０．８±０．５、９．０±０．３、６．０±０．３、３．９±０．３、３．４±０．１ - 特許庁

When a voltage is applied to the diffraction device 3, a diffraction pattern part 13 consisting of these thin films generates heat and the films being in contact with the pattern part 13 exhibits the light shielding properties to realize a diffraction grating.例文帳に追加

この回折装置３に電圧を印加すると、前記薄膜からなる回折パターン部１３が発熱し、これに接する膜が遮光性を示し、回折格子を実現する。 - 特許庁

The bis-maleic acid salt (a mixture of bis-maleic acid salt form I and bis-maleic acid salt form III) and free base forms of the compound have peaks at specific diffraction angles in a powder X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折図において、特定の回折角にピークを有するビスマレイン酸塩（ビスマレイン酸塩Ｉ型、ビスマレイン酸塩ＩＩＩ型）及び遊離塩基型化合物。 - 特許庁

The flake-like hydrous titanium oxide has such a layer structure that at least one peak of an X-ray diffraction pattern shows 2-4 nm d-spacing of lattice planes.例文帳に追加

Ｘ線回折パターンの少なくともひとつのピークが２ないし４ｎｍのｄ面間隔を示す層状構造を有することを特徴とする薄片状含水酸化チタンを開示する。 - 特許庁

The zirconia sintered compact is characterized in that the half-value width of a peak of (111)plane of the tetragonal system in the X-ray diffraction pattern by CuKα ray is 0.38-10°.例文帳に追加

ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンにおける正方晶の（１１１）面のピークの半値幅が０．３８度以上１０度以下であることを特徴とするジルコニア焼結体。 - 特許庁

To provide a method for processing a molding die for a diffraction optical element wherein high accuracy of relative positioning between a positioning mark and a diffraction pattern can be attained and thus processing work load can be reduced.例文帳に追加

位置合わせ用マークと回折パターンとの相対位置関係の精度が高く、これらの加工手間を低減できる回折光学素子成形金型の加工方法を提供する。 - 特許庁

The convex lens is provided with a convex lens body 11 having a diffraction pattern part 20 and a protrusion part 12 which is disposed on the peripheral part 11a of a convex lens body 11 and protrudes in the lens thickness direction.例文帳に追加

回折パターン部２０を有する凸レンズ本体１１と、前記凸レンズ本体１１の周縁部１１ａに設けられ、レンズ厚さ方向へ突出する突出部１２を設ける。 - 特許庁

The Ni-W-S alloy film 2 preferably has a finely uneven surface, and has an amorphous or microcrystalline X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

このとき、Ｎｉ−Ｗ−Ｓ合金膜２の表面が微細凹凸面になっていることが好ましく、そのＸ線回折パターンがアモルファス状又は微結晶状であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a new form of 1,4-diketo-3,6-di(4'-tert-butylphenyl)-2,5- dihydropyrrolo[3,4-c]pyrrole pigment having a distinguished color property and a distinguished X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

際立った色特性及びＸ線回折図形を有する新規形態の１，４−ジケト−３，６−ジ（４′−tert-ブチルフェニル）−２，５−ジヒドロピロロ〔３，４−ｃ〕ピロール顔料を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method includes synthesizing AlH_3, and ball-milling the synthesized AlH_3 in a condition of applying a force of 2 G to 20 G (where G represents gravity acceleration) to make an X-ray diffraction pattern of AlH_3 into a halo pattern.例文帳に追加

ＡｌＨ_3を合成した後、２Ｇ〜２０Ｇ（Ｇは重力加速度）の力を付与する条件でボールミリングを行い、Ｘ線回折パターンがハローパターンとなるＡｌＨ_3とする。 - 特許庁

Since the object to be transferred is constructed by laminating a curable adhesive agent layer 3, the optical diffraction pattern layer 4 and the acceptance layer 9 capable of accepting the dye image orderly on the base material 2, it is possible to avoid the influence of the decrease of adhesion between the base material 2 and the optical diffraction pattern layer 4 due to the high temperature during forming the dye image 11 by sublimation transfer.例文帳に追加

基材２上に、硬化性接着剤層３、光回折パターン層４、および染料画像を受容可能な受容層９が順に積層された構造とすることにより、昇華転写により染料画像１１を形成しても、その際の高温により、基材２と光回折パターン層４との間の接着性低下による影響を回避することができた。 - 特許庁

Only the zero order light of a Fourier conversion image (light diffraction pattern) obtained from a phase object placed in a wide measurement visual field, configured by a Fourier conversion lens set in a coherence parallel laser luminous flux is used as a phase difference reference light different from high order diffraction light, and a sharp phase difference image is obtained by causing it to interfere with a phase object image obtained by a high order light diffraction pattern.例文帳に追加

可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。 - 特許庁

The disclosure relates to a polymorphic form D of bazedoxifene acetate having a specific powder X-ray diffraction pattern, a pharmaceutical composition and treating method to use the polymorphic form D, and a method for producing the polymorphic form D of bazedoxifene acetate.例文帳に追加

本開示は、特定の粉末Ｘ線回折パターンを有する酢酸バゼドキシフェンの多形フォームＤ、それを用いた医薬組成物及び治療方法、並びにその製造方法に関する。 - 特許庁

In this case, the factor (1) which is a factor for showing coincidence of this electron diffraction pattern becomes the maximum value when basic reflection points agree completely, and becomes the minimum value when all the basic reflection points disagree.例文帳に追加

ここに、因子▲１▼は、電子回折パターンの一致度を示す因子であって、基本反射の点が完全一致であれば最大値をとり、基本反射の点がすべて不一致であれば最小値をとる。 - 特許庁

(Step 1) A X-ray diffraction pattern of a titanium surface is measured in an condition that an X-ray incident angle is maintained at a low angle of two degree or less, which is in an initial state before maintaining it in an atmospheric environment.例文帳に追加

（ステップ１）Ｘ線入射角度を２度以下の低角度に保った条件で大気環境中保持前である初期状態のチタン表面のＸ線回折図形の測定を行う。 - 特許庁

There is provided the crystalline polymorphic form I of (-)-[[4-(1,4,5,6-tetrahydro-4-methyl-6-oxo-3-pyridazinyl)phenyl]hydrazono]propanedinitrile, characterized by the X-ray diffraction pattern having specific peak positions.例文帳に追加

特定のピーク位置を有するＸ線回折図によって特徴づけられる（−）−［［４−（１，４，５，６−テトラヒドロ−４−メチル−６−オキソ−３−ピリダジニル）フェニル］ヒドラゾノ］プロパンジニトリルの結晶状多形体Ｉ。 - 特許庁

The carbon fiber is obtained from wood tar as a raw material and has diffraction lines in the vicinity of 2θ=26° and in the vicinity of 2θ=44° in a powder X-ray diffraction pattern using CuKα as a radiation source.例文帳に追加

本発明の炭素繊維は、木タールを原料とし、線源にＣｕＫαを用いた粉末Ｘ線回折パターンにおいて、２θ＝２６°付近と２θ＝４４°付近に回折線を有することを特徴とする。 - 特許庁

The crystalline polymorphic form I of substantially optically pure (-)-{[4-(1,4,5,6-tetrahydro-4-methyl-6-oxo-3-pyridazinyl)phenyl]hydrazono}propanedinitrile is characterized by the X-ray diffraction pattern having specific peak positions.例文帳に追加

特定のピーク位置を有するＸ線回折図によって特徴づけられる（−）−［［４−（１，４，５，６−テトラヒドロ−４−メチル−６−オキソ−３−ピリダジニル）フェニル］ヒドラゾノ］プロパンジニトリルの結晶状多形体Ｉ。 - 特許庁

The evaluation can be executed based on the change of the position of the center of gravity by utilizing a coefficient on an envelope joining smoothly peaks of a spot row appearing the diffraction pattern or the like, or by selecting the spot row.例文帳に追加

評価は、回析パターンに現れるスポット列のピークを滑らかに結ぶ包絡線についての係数等を利用たり、スポット列を選択して、重心位置の変化に基づいて行うことができる。 - 特許庁

This wave front conversion optical system to be inserted in a beam of measuring light is constituted so as to have a transmission type diffraction face comprising a transmission face and a prescribed diffraction pattern formed on the face.例文帳に追加

測定光の光束中に挿入される波面変換光学系を、透過面とその面上に形成された所定の回折パターンとからなる透過型の回折面を有するよう構成する。 - 特許庁

To provide a card genuineness judging device which is capable of objectively judging the genuineness of a card with a hologram in which an image based on a diffraction pattern is formed, with high degree of certainty and rapidity.例文帳に追加

回折パターンに基づく画像が形成されたホログラムを有するカードの真贋を客観的かつ確度が高くしかも迅速に判定することのできるカードの真贋判定装置を提供する。 - 特許庁

To provide an observation technology by a phase retrieval type electron microscope, making the intensity distribution of a parallel electron beam with a microscopic diameter in measuring a real image and an electron diffraction pattern bright and uniform.例文帳に追加

実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。 - 特許庁

The aluminum oxide carrier has a diffraction pattern obtained by X-ray diffractometry having a specific spacing d between lattice planes and a peak corresponding to a relative intensity I/I_0 in a calcined state.例文帳に追加

この触媒は、該アルミニウム酸化物支持体が、焼成状態において、特定の格子面間隔ｄ、及び相対強度Ｉ／Ｉ_０に対応するピークを含む、Ｘ線回折により得られた回折図を有する。 - 特許庁

A cesium-containing aluminosilicate compound obtained by hydrothermal synthesis is subjected to heating treatment at ≥500°C, so that cesium-containing zeolite having a specified X-ray powder diffraction pattern can be crystallized.例文帳に追加

水熱合成により得られたセシウム含有アルミノシリケート化合物を５００℃以上の温度で加熱処理することによって特定のＸ線粉末回折パターンを有するセシウム含有ゼオライトが結晶化される。 - 特許庁

To the porous filter 21, a plurality of holes 22 are provided which cause a diffraction phenomenon when the light flux from the light source 2 passes through the holes 22 and the object surface is illuminated with the caused diffraction pattern dispersed to multiple points.例文帳に追加

前記多孔フイルタ２１には複数の孔２２を設け、光源２からの光束がこの孔２２を通過するとき回析現象を起こし、発生した回析パターンで前記物体表面を多点に分散して照明する。 - 特許庁

The diffraction pattern is compared with that of an object component to be analyzed which is, for example, the flame retarder or the flame resisting auxiliary and which is prepared beforehand, and a judgement is made whether or not the component is included in the resin material.例文帳に追加

この回折パターンを、予め用意した分析対象の成分、例えば難燃剤や難燃助剤の回折パターンと比較することにより、樹脂素材中に当該成分が含まれるか否かを判定する。 - 特許庁

The X-ray diffraction pattern of a residual part after the hydrate phase of the hydrate product is dipped into a 5-10 vol% sulfuric acid aqueous solution and absolutely dried has a halo form having a peak in 24±1° (expressed by Cukα2θ).例文帳に追加

水和生成物の水和相を5乃至10容量％の硫酸水溶液中にて浸漬した後の絶乾処理した残査部分のX線回折パターンが、24°±１°（Cukα2θ表示）にピークを持つハロー図形を示す。 - 特許庁

To measure a diffraction pattern having a desired S/B ratio by reducing the background due to the scattering of air generated by X-rays transmitted through a sample in the case of the measurement of the diffraction of obliquely emitted X-rays.例文帳に追加

斜出射Ｘ線回折測定を行う場合において、試料を透過したＸ線で発生する空気散乱によるバックグラウンドを低減させることにより、所望のＳ／Ｂ比を有する回折パターンを測定する。 - 特許庁