「"thermal processing"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

THERMAL PROCESSING OF SUBSTRATE WITH PRE- AND POST-SPIKE TEMPERATURE CONTROL例文帳に追加

プレスパイクおよびポストスパイク温度制御をともなう基板の熱処理 - 特許庁

METHOD OF PREDICTING SERVICE LIFE OF RESISTANCE HEATING TYPE HEATER, AND THERMAL PROCESSING DEVICE例文帳に追加

抵抗加熱式ヒータの寿命予測方法及び熱処理装置 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus, a method for regulating a temperature of the thermal processing apparatus, and a program, by which the temperature can be easily regulated.例文帳に追加

温度調整を容易に行うことができる熱処理装置、熱処理装置の温度調整方法、及び、プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus where the thermal processing of a substrate can be performed in a state that changes in oxygen concentrations or the like in a gas atmosphere do not occur.例文帳に追加

酸素濃度等のガス雰囲気変化のない状態で基板の熱的処理を行うことができる熱的処理装置を提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR MONITORING OPTICAL ELEMENT OF WORKING HEAD OF WORKPIECE THERMAL PROCESSING MACHINE例文帳に追加

工作物熱加工機械の加工ヘッドの光学素子を監視する装置 - 特許庁

To obtain a wafer boat for thermal processing which can prevent the wafer from getting a slip line, without increasing manufacture cost or requiring a large thermal processing furnace.例文帳に追加

製造コストの増大や熱処理炉の大型化を来すことなくウエハにスリップラインが入るのを防止できる熱処理用ウエハボートを提供する。 - 特許庁

TEMPERATURE SETTING METHOD OF THERMAL PROCESSING PLATE, PROGRAM OF SAME METHOD, READABLE RECORDING MEDIUM BY COMPUTER HAVING RECORDED PROGRAM, AND TEMPERATURE SETTING APPARATUS OF THERMAL PROCESSING PLATE例文帳に追加

熱処理板の温度設定方法、プログラム、プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体及び熱処理板の温度設定装置 - 特許庁

The semiconductor processing unit processes a substrate to be heated in a thermal processing section.例文帳に追加

被加熱基板を熱処理部で処理する半導体処理ユニットである。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING THERMAL PROCESSING-IMPOSSIBLE FINE POWDER OF HOMOPOLYMER OR MODIFIED PTFE例文帳に追加

ホモポリマー又は改質ＰＴＦＥの熱加工不能な細粉の製造法 - 特許庁

To provide a thermal processing device capable of making the temperature of a wafer plane uniform in activation thermal processing, in which a wafer is heated by light irradiation.例文帳に追加

光の照射によってウェーハを加熱する活性化熱処理において、ウェーハ面内の温度の均一化を図ることのできる熱処理装置を提供すること。 - 特許庁

The anneal recovery process comprises two or more steps including a thermal processing in an inert gas atmosphere and a thermal processing in an oxide atmosphere.例文帳に追加

回復アニール処理工程を、不活性ガス雰囲気中で熱処理するステップと酸素雰囲気中で熱処理するステップを含む、２以上のステップから構成する。 - 特許庁

The polymer may be crosslinked in place by radiation or thermal processing.例文帳に追加

ポリマーを、放射線または熱処理により適所に架橋することができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of accurately estimating the temperature of a substrate during the thermal processing of the substrate and precisely performing the thermal processing to the substrate.例文帳に追加

基板の熱的処理の際に基板の温度を正確に推定でき、基板に対して熱的な処理を精密に行うことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

THERMAL PROCESSING METHOD, TUBE FOR THERMAL PROCESSOR, THERMAL PROCESSOR USING THE SAME例文帳に追加

熱処理方法、熱処理装置用管体、およびこれを用いた熱処理装置 - 特許庁

The step of winding the coated conductor is performed after the thermal processing step 34.例文帳に追加

被覆された導体を巻くステップは、熱処理ステップ３４の後に実行される。 - 特許庁

In this processing system 10 for application/development, a drying/thermal processing section 30 incorporated in the process line A of the forward path includes a first-tier drying/thermal processing section 30 (1) and a second-tier drying/thermal processing section 30 (2) stacked and arranged in the upper and lower two tiers.例文帳に追加

この塗布現像処理システム１０において、往路のプロセスラインＡに組み込まれる乾燥／熱的処理部３０は、上下２段に積層配置された１階の乾燥／熱的処理部３０(1)と２階の乾燥／熱的処理部３０(2)とからなる。 - 特許庁

When a position of the workpiece is changed due to thermal processing, the movable workpiece holder can follow it to prevent occurrence of undulation caused by restraining the workpiece at thermal processing time effectively.例文帳に追加

ワークが熱加工などによって位置変動をする際に可動ワーク保持装置が追随でき、ワーク拘束に起因する熱加工時のうねりを効果的に防止する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus capable of improving in-plane uniformity of thermal processing by stably rotating a workpiece without producing particles.例文帳に追加

パーティクルを発生させることなく、しかも安定的に被処理体を回転させて熱処理の面内均一性を向上させることが可能な熱処理装置を提供する。 - 特許庁

In a thermal processing device 10, a cylindrical rotor 12 is disposed so as to rotate to a furnace core axis C, in a cylindrical thermal processing space 11a of a furnace core pipe 11.例文帳に追加

熱処理装置１０では、炉芯管１１の円筒状の熱処理空間１１ａ内部に、炉芯軸Ｃに対して円筒状の回転体１２が回転可能に配置される。 - 特許庁

To obtain superior surface roughness, by reducing the thermal processing temperature or shortening the time required for the thermal processing and by suppressing the occurrence of a slip, in a method of manufacturing a silicon wafer and a silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハにおいて、熱処理の低温化又は短時間化を図りスリップ発生を抑制し、良好な表面ラフネスを得ること。 - 特許庁

Subsequently, the ion is implanted to the element region 5 so as to perform first thermal processing to restore crystalization deteriorated by ion implantation, and second thermal processing for aiming drive-in.例文帳に追加

続いて、素子領域５にイオン注入し、イオン注入によって悪化した結晶性を回復させるための第１熱処理、ドライブインを目的とした第２熱処理を行う。 - 特許庁

To provide a temperature measuring method of accurately finding a thermal processing temperature on the basis of a sheet resistance, and also to provide a temperature management method for a simple thermal processing device.例文帳に追加

シート抵抗に基づいて熱処理温度を正確に求めることができる温度測定方法および、簡便な熱処理装置の温度管理方法を提供する。 - 特許庁

MINUTE FLOW RATE OF COOLANT MEASURING DEVICE IN THIN-WIRE COOLING PROCESS AFTER THERMAL PROCESSING例文帳に追加

熱処理後の細線冷却工程における冷却液の微流量測定装置 - 特許庁

After the impurity ions are implanted, a processing such as conventional thermal processing is not conducted.例文帳に追加

不純物イオンの注入後は、従来方法のような加熱処理は行わない。 - 特許庁

To obtain a substrate thermal processing device and a substrate thermal processing method capable of enhancing uniformity of a film thickness of a coating film on a substrate or pattern line width uniformity.例文帳に追加

基板上の塗布膜の膜厚の均一性またはパターン線幅均一性を向上させることができる基板熱処理装置および基板熱処理方法を提供することである。 - 特許庁

In a thermal processing device 100, a cylindrical rotor 120 is disposed so as to rotate around a furnace core axis C, in a cylindrical thermal processing space 111 of a furnace core pipe 110.例文帳に追加

熱処理装置１００では、炉芯管１１０の円筒状の熱処理空間１１１内部に、炉芯軸Ｃに対して円筒状の回転体１２０が回転可能に配置される。 - 特許庁

When carried in the drying/thermal processing part 30, a substrate G having been subjected to a resist application process by an application process section 28 is sorted into either the first-tier drying/thermal processing section 30 (1) or the second-tier drying/thermal processing section 30 (2) by a sorting carry-in unit (TW) 46.例文帳に追加

塗布プロセス部２８でレジスト塗布処理の済んだ基板Ｇは、乾燥／熱的処理部３０に搬入されると、振分搬入ユニット（ＴＷ）４６により１階の乾燥／熱的処理部３０(1)または２階の乾燥／熱的処理部３０(2)のいずれか一方に振り分けられる。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus for generating a correction value of a target temperature in a simple way.例文帳に追加

目標温度の補正値を簡易に生成することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Interior of a thermal processing apparatus 101 is set to oxygen atmosphere and raised to predetermined temperature.例文帳に追加

熱処理装置１０１内の雰囲気を酸素雰囲気とし、所定程度まで温度を上昇させる。 - 特許庁

To provide a silicon boat and a method for manufacturing it to reduce particles created during thermal processing.例文帳に追加

シリコンボートの製造方法及びシリコンボートにおいて、熱処理中にパーティクルを生じ難くすること。 - 特許庁

A management control section of the thermal processing apparatus is equipped with a CPU 50 and a storage means 51.例文帳に追加

熱加工装置の管理制御部には、ＣＰＵ５０と、記憶手段５１が設けられている。 - 特許庁

APPARATUS FOR MEASURING REFLECTED LIGHT INTENSITY RATIO, APPARATUS FOR MEASURING LIGHT ENERGY ABSORPTION RATIO AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

反射光強度比測定装置、光エネルギー吸収比率の測定装置および熱処理装置 - 特許庁

The substrate 1 is subjected to thermal processing in an oxide atmosphere to form an additional oxide film 16.例文帳に追加

酸化雰囲気中で半導体基板１を熱処理し、追加酸化膜１６を形成する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus and a thermal processing method, capable of performing both of activation of implanted impurities and restoration of introduced defects while suppressing damages to be given to a substrate.例文帳に追加

基板に与えるダメージを抑制しつつ、注入された不純物の活性化および導入された欠陥の回復の双方を行うことができる熱処理装置および熱処理方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the cut substance to be processed is introduced into a drying oven or a carbonization furnace to be subjected to indirect thermal processing.例文帳に追加

その後、前記の切断された被加工物を乾燥炉や炭化炉に導入して間接加熱加工する。 - 特許庁

Preheating and annealing steps can be performed in the same thermal processing chambers 52, 54, 56, 58.例文帳に追加

予熱するステップと、アニーリングするステップは同じ熱処理チャンバ５２，５４，５６，５８の内部で実施することができる。 - 特許庁

There is provided an apparatus for performing laser thermal processing (LTP) of a workpiece having one or more workpiece fields.例文帳に追加

１つ以上のワークピース領域を有するワークピースのレーザー熱加工（ＬＴＰ）を実施する装置である。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING OPTICAL ENERGY ABSORPTION RATIO, APPARATUS FOR MEASURING OPTICAL ENERGY ABSORPTION RATIO, AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

光エネルギー吸収比率の測定方法、光エネルギー吸収比率の測定装置および熱処理装置 - 特許庁

To provide a working head having brushes which are not deteriorated and exhausted for a long period and a thermal processing device with which the thermal processing is stably possible even when it is a material on the underside of which forming is performed.例文帳に追加

長期間に亘り劣化、消耗のないブラシを有する加工ヘッド、及び下面に成形加工された被加工材でも安定的に熱加工処理が可能な熱加工装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereafter, a reaction tube of the thermal processing apparatus 101 has its internal temperature raised to baking temperature, to perform baking for predetermined time.例文帳に追加

ロード後、熱処理装置１０１の反応管内を焼成温度まで上昇させ、所定時間焼成させる。 - 特許庁

A method for fabricating textured single crystals includes forming pads 12 with a metal layer 11 coated on a surface of a single crystal 10 by thermal processing.例文帳に追加

単結晶１０の上に被着された金属層１１を、熱処理によりパッド１２を形成する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus capable of improving a buckling strength of an outside shell in a vacuum insulating layer formation body.例文帳に追加

真空断熱層形成体の外側シェルの座屈強度を向上させた熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus that freely sets the anneal time and the temperature profile upon annealing.例文帳に追加

アニール時のアニール時間および温度プロファイルを自由に設定することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus that prevents a substrate from cracking when irradiated with flash light from a flash lamp.例文帳に追加

フラッシュランプからのフラッシュ光照射時の基板の割れを防止することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device which is an experimental device for a thermal processing performed by giving a pulsed electric current to an object to be worked, and enables an effective experiment for collecting data and appropriate conditions of the thermal processing of various kinds of materials.例文帳に追加

被加工物に対しパルス電流を与えて熱加工の実験を行う装置であって、多種多様の材料に対して適正な熱加工の条件、データを得るための実験を効果的に行うことができる装置を提供する。 - 特許庁