「パルス照射」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

超短パルスレーザーの照射による衝撃波を利用した板材成形法例文帳に追加

METHOD OF FORMING METAL PLATE BY UTILIZING IMPULSE WAVE BY IRRADIATION OF ULTRA-SHORT PULSE LASER - 特許庁

なお、一度のパルス照射で、基板６００上には、複数の像が投影される。例文帳に追加

A plurality of images are projected on the substrate 600 with a single pulse irradiation. - 特許庁

この状態で、ワークＷの表側の面にレーザ光Ｌをパルス状に断続的に照射する。例文帳に追加

In this state, the front side surface of the work W is intermittently irradiated with a laser beam L in a pulse form. - 特許庁

光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部によって供給されるＳｎワイヤを照射する。例文帳に追加

A pulsed laser beam from the light source portion irradiates a Sn wire supplied by the target portion. - 特許庁

近赤外（レーザ）光ＬＩをパルス駆動して被測定物７０に照射する。例文帳に追加

Near infrared (laser) light LI is applied to an object 70 by pulse driving. - 特許庁

ビーム照射工程において発振パルスの波形変換処理が適宜施される。例文帳に追加

Wave shape conversion treatment of the oscillation pulse is appropriately conducted in the beam irradiation process. - 特許庁

パルスレーザの照射によってシリコン薄膜を結晶化させる際に、均一な結晶化を達成する。例文帳に追加

To achieve uniform crystallization when a silicon thin film is crystallized by the irradiation of a pulse laser. - 特許庁

上記ＵＶパルスフラッシュを照射するステップは、たとえば１分以内が好ましい。例文帳に追加

The step of irradiating with the UV pulse flash is preferably carried out, for example, within 1 minute. - 特許庁

本発明の目的は、照射線量調整をＸ線のパルス幅制御により実現すること。例文帳に追加

To control exposure dose by controlling X-ray pulse width. - 特許庁

１パルス目は金属層６に高エネルギーな炭酸ガスレーザＬ１を照射する。例文帳に追加

In a first pulse, the metal layer 6 is irradiated with a carbon dioxide gas laser L1 of high energy. - 特許庁

パルス光発生手段と，電磁波の照射と該パルス光の照射により該電磁波を検出する検出手段を備え，該パルス光を照射して電磁波を検出する電磁波検出装置において，該パルス光と検出対象の電磁波を検出手段に対して同じ側から照射する構成をもつ。例文帳に追加

The detecting apparatus for of the electromagnetic wave includes a pulse light generating means and a means to detect the electromagnetic wave through radiation of the electromagnetic wave and radiation of the pulse light wherein the pulse light is emitted to detect the electromagnetic wave, and the pulse light and the electromagnetic wave to be detected are radiated from the same side with regard to the detecting means. - 特許庁

画像形成の前の多回転時に、帯電手段の帯電領域にパルス光照射を行う。例文帳に追加

In multiple rotation before forming an image, pulse light is radiated to the electrifying area of an electrifying means. - 特許庁

記録情報に応じてパルス変調されたレーザ光を磁芯３５に照射する。例文帳に追加

The magnetic core 35 is irradiated with the laser beam which is pulse- modulated according to recorded information. - 特許庁

次に、ガス状ターゲット２１０にメインパルスレーザ光１１１が照射される。例文帳に追加

Then, main pulse laser light 111 is irradiated on the gaseous target 210. - 特許庁

この突起部２２の先端部から低出力の連続するパルスレーザの照射を行う。例文帳に追加

The projecting part 22 is irradiated from its end part with a low output continuous pulse laser beam. - 特許庁

シングル設定スイッチ１１は、レーザが１パルスだけ照射されるように制御する（シングルモード）。例文帳に追加

Signal setting switch 11 controls the device to irradiate with laser by one pulse (signal mode). - 特許庁

１０ｋＰａ〜１Ｐａの減圧雰囲気中、パルス幅１０^-12秒以下の超短パルスのレーザーを照射することができる。例文帳に追加

The ultrashort pulse laser with the pulse width of 10^-12 s or less can be applied in the reduced pressure atmosphere of 10 kPa-1 Pa. - 特許庁

レーザービーム２５０の照射方式をパルス方式とし、パルス幅を１５μｓｅｃ以上１５０μｓｅｃ以下に設定する。例文帳に追加

As an irradiation system of the laser beam 250, a pulse system is used, and pulse width is set to ≥15μsec and ≤150μsec. - 特許庁

パルスレーザーからパルス光を被検査体４に照射すると、被検査体４表面がアブレーションをおこし超音波が発生する。例文帳に追加

A body to be inspected 4 is irradiated with pulse light from a pulse laser to cause abrasion in the surfaces of the body to be inspected 4 to generate ultrasonic waves. - 特許庁

また、結晶化工程では、酸化物のアモルファス層２０Ｃに１パルスあたり６０〜４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線パルスレーザ光を照射する。例文帳に追加

Further, in the crystallizing step, the ultraviolet pulse laser beam of 60-400mJ/cm^2 per pulse is applied to the amorphous layer 20C of the oxide. - 特許庁

パルス幅が１０^-12秒以下である超短パルスレーザーの照射により、構造が変化した部位を有するプラスチック構造体を得る。例文帳に追加

To provide a plastic structural body having a part whose structure has been changed by irradiating a very-short-pulse laser having a pulse width of 10^-12 seconds or less. - 特許庁

また、パルスレーザ光Ｌの照射によって部材７に与えるエネルギーの密度を、１パルスあたり０．１Ｊ／ｃｍ^２以下に選定する。例文帳に追加

Further, the density of the energy applied to the member 7 by the irradiation of the pulse laser light L is selected to ≤0.1 J/cm^2 per pulse. - 特許庁

高周波電磁波生成部２は、第１光パルス４と第２光パルス５とが照射されることによって高周波電磁波を生成する。例文帳に追加

The high frequency electromagnetic wave generating part 2 generates the high frequency electromagnetic wave, by the irradiation with the first light pulse 4 and the second light pulse 5. - 特許庁

パルス幅が100ps以下の短パルスレーザ光を掃引照射することにより、ガラス表面に切断用の溝を形成する。例文帳に追加

A groove for cutting is formed on a glass surface by the sweeping bombardment of a short pulsed laser light with a pulse width of 100 ps or lower. - 特許庁

超短パルスレーザ光Ｌが透過する被加工物２に対して超短パルスレーザ光Ｌを被加工物２の一方側（前面２ａ）から照射する。例文帳に追加

An ultrashort pulse laser beam L is irradiated to the workpiece 2 from one side (front surface 2a) of it , through which the ultrashort pulse laser beam is transmitted. - 特許庁

パルスレーザビームのパワーを高速で、例えばパルス毎に変化させることが可能なレーザ照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam irradiation device with which the power of a pulse laser beam is varied at high speed at, for instance, every pulse. - 特許庁

さらに、第１光パルス４と第２光パルス５とは、高周波電磁波生成部２への照射タイミングが異なっている。例文帳に追加

The the first light pulse 4 and the second light pulse 5 are different in irradiation timings toward the high frequency electromagnetic wave generating part 2. - 特許庁

記録の深さを維持しつつ、記録パルスの照射パワーおよび記録パルス波形を補正する光ディスク装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical disk device with which irradiation power and a waveform of a recording pulse are corrected while maintaining depth of a record. - 特許庁

リダイレクト装置２３の制御により、レーザビームインパルス２４が複数の隣接する衝突位置に照射されて、パルスゾーンを形成する。例文帳に追加

By controlling the redirecting arrangement 23, the laser beam impulses 24 is irradiated at several adjacent collision positions to form a pulse zone. - 特許庁

測定対象物にレーザパルス光を照射し、反射してくるパルス光を受光してその受光信号を入力信号Ｓ１０５とする。例文帳に追加

After laser pulse light is radiated to a measurement object, reflected pulse light is received and its light receipt signal is used as an input signal S105. - 特許庁

一次的にチャーピングされかつパルス光Ｌ５５と同期したプローブパルス光が、結晶６１の２次元領域に一括照射される。例文帳に追加

The two-dimensional region of the crystal 61 is collectively irradiated with probe pulse light that is primarily chirped and synchronized with pulse light L55. - 特許庁

チャーピングされかつパルス光Ｌ７５と同期したプローブパルス光が、結晶８１の２次元領域に一括照射される。例文帳に追加

A probe pulse light chirped and synchronized to a pulse light L75 is collectively radiated to the two-dimensional area of the crystal 81. - 特許庁

この装置には、複数の光パルスによって撮影面６を照射することにより、反射光パルスを生成する光源２が含まれている。例文帳に追加

This device includes the light source 2 generating reflected light pulses by irradiating an imaging surface 6 with a plurality of light pulses. - 特許庁

チャーピングされかつパルス光Ｌ７５と同期したプローブパルス光が、結晶８６の１次元領域に一括照射される。例文帳に追加

A probe pulse light chirped and synchronized to the pulse light L75 is collectively radiated to the one-dimensional area of the crystal 86. - 特許庁

パルスレーザビームのパワーを高速で、例えばパルス毎に変化させることが可能なレーザ照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser irradiation device with which the power of a pulse laser beam can be varied at high speed at, for example, every pulse. - 特許庁

相変化型記録層を設けた相変化型光記録媒体に電磁波を照射してマークを記録する記録方法において、前記電磁波の照射波形が、ピークパワー、消去パワー、及びバイアスパワーによって照射パワーを規定し、前記ピークパワーの照射時間、及びバイアスパワーの照射時間によって照射時間を規定することで定められるパルス状波形であって、前記マークを記録するときの最後尾の前記ピークパワーによるパルスである後部加熱パルスでの電磁波の照射に続いて、前記消去パワーの電磁波を照射することを特徴とする光記録方法。例文帳に追加

After irradiation of an electromagnetic wave at a rear part heating pulse which is a pulse by the peak power of the last tail when the mark is recorded, an electromagnetic wave of the erasing power is applied. - 特許庁

記録パルス列に基づいてパルス状のレーザ光を感光性膜上に照射する光ディスク原盤製造装置に、記録パルス列のパルス長が短くなるにつれてレーザ照射手段によって照射されるレーザ光の強度を強くすると共に、レーザ光のパルス長を補正する変調器制御部１０２を備える。例文帳に追加

The optical master disk manufacturing apparatus which irradiates the surface of a photosensitive film with an pulse-like laser beam in accordance with recording pulse trains is equipped with a modulator control section 102 which increases the intensity of the laser beam emitted by a laser irradiation means with a decrease in the pulse length of the recording pulse trains and corrects the pulse length of the laser beam. - 特許庁

加工対象物上の１つの被照射点から次の被照射点に、加工用レーザパルスの入射位置を移動させる移動期間に、加工用レーザパルスのパルス幅よりも短いパルス幅をもつ非加工用レーザパルスを、移動期間の長さに応じたパルス幅と繰り返し周波数で、レーザ発振器から出射させるとともに、非加工用レーザパルスは加工対象物に入射させない。例文帳に追加

During a moving period of the incident position of the machining laser pulse from one irradiation point to the next on the workpiece, a non-machining laser pulse having a shorter pulse width than that of the machining laser pulse is emitted from the laser oscillator with a pulse width and a repeating frequency corresponding to the length of the moving period and, simultaneously, no non-machining laser pulse is made incident on the workpiece. - 特許庁

レーザ加工方法として、バーストパルスモードによる各加工位置に対するレーザビームのパルス照射時に、最後の２回のパルス間の時間間隔を、それ以前に前後して照射される２回のパルス間の時間間隔よりも長くするものである。例文帳に追加

In the method for laser beam machining, the time interval of the last two pulses is made longer than that of the preceding two pulses which are consecutively irradiated when every position to be machined is irradiated with the pulsed laser beam in the burst pulse mode. - 特許庁

パルス化レーザ光は、回転工具の１回転又は整数回転当たり１パルスの発振パルス周期を有し、該発振パルスオン期間の間に回転工具の同一角度範囲に照射する。例文帳に追加

The pulsed laser light has oscillation pulse cycles of one pulse per one rotation or integral rotations of the rotary tool, and irradiates the same angle range of the rotary tool during an oscillation-pulse ON period. - 特許庁

指示具は、パルス信号を設定パルス周期により発生し、パルス信号に同期してレーザ光をパルス波レーザ光としてスクリーンに照射する。例文帳に追加

The pointing tool generates pulse signal in a set pulse period and emits laser light to a screen as pulse wave laser right synchronously to the pulse signal. - 特許庁

６Ｔ以上の長さであって偶数倍の記録マークを形成する場合には、ｎ/２回のパルス光のうちの先頭パルス光及び最後尾パルス光を除く各中間パルス光を、チャネルクロックに位相を同期させて照射する。例文帳に追加

When forming an even-number times recording mark of 6T or longer, each intermediate pulse light except the head pulse and the last pulse among the n/2 time pulse light is emitted with the phase synchronized with the channel clock. - 特許庁

前記ワークへのパルスレーザ光の照射領域は、該照射領域の面積をＳ（ｍｍ^２）、照射領域の周囲長をＬ（ｍｍ）としたとき、Ｓ／Ｌ≦０．１２５の関係を満たすように設定される。例文帳に追加

The irradiation region of the pulse laser light to the work is set so that when the area of the irradiation region is made to be S (mm^2), the circumference length of the irradiation region to be L (mm), the relation S/L≤0.125 is satisfied. - 特許庁

計測開始状態になると、送波手段２からパルス状のレーザ光を放射し、放射されたレーザ光は分岐手段３で照射波と参照波とに分岐され、照射波は測定対象物６に照射される。例文帳に追加

In measurement initiation state, a pulsing laser beam is emitted from a transmission means 2 and the emitted laser beam is split into an irradiation wave and a reference wave in a branching means 3, and irradiated to a measuring object 6. - 特許庁

可溶化剤レーザパルス光照射部１２から、試料台１に配置された試料に、可溶化剤励起用レーザパルス光を照射することにより、試料中の可溶化剤が励起状態になる。例文帳に追加

By irradiating a solubilizer agent excitation laser pulse beam from the solubilizer laser pulse beam irradiation part 12 to a sample arranged on the sample board 1, the solubilizer in the sample becomes an excitation state. - 特許庁