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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > パルス照射の意味・解説 > パルス照射に関連した英語例文

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パルス照射の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1213



例文

この多孔質体を得る方法は、無機質材料を含むターゲット及び多孔質基材を用意する工程と、1〜200Paの雰囲気圧下にターゲット及び多孔質基材を配置し、周波数が5〜500Hzの範囲内にあるパルスレーザを該ターゲットに照射して該無機質材料の蒸気を発生させ、多孔質基材の表面上に該蒸気を堆積させて多孔質膜を形成する工程と、を含む。例文帳に追加

The method of obtaining the porous body includes a process for preparing a target containing an inorganic material and the porous base material and a process for forming the porous film by arranging the target and the porous base material under 1-200 Pa atmospheric pressure, irradiating the target with pulse laser having 5-500 Hz frequency to produce the vapor of the inorganic material, and depositing the vapor on the surface of the porous base material. - 特許庁

活性層であるInを含む窒化物半導体1を反応容器10内に収容し、窒化物半導体をその結晶品質が低下しない温度に保持しながら、成長させるp型窒化物半導体2の前駆体とp型ドーパントを反応容器内に供給し、同時に窒化物半導体1の表面にパルスレーザ3を照射する。例文帳に追加

A nitride semiconductor 1 containing In that is an active layer is stored in a reaction vessel 10, the nitride semiconductor is held at temperature for preventing the crystal quality from deteriorating, the precursor and p-type dopant of the grown p-type nitride semiconductor 2 are supplied into the reaction vessel, and pulse laser beams 3 are applied to the surface of the nitride semiconductor 1. - 特許庁

プラスチック光学素子は、感光性色素を含有するプラスチック材料に、パルス幅が10^−6秒以下のレーザーを1光束又は多光束干渉で照射して、屈折率が変調した互いに平行な複数の屈折率変調部を形成することにより、複数種の光伝播機能を有することを特徴とする。例文帳に追加

This plastic optical element has two or more kinds of light propagation functions by forming, on a plastic material containing a photosensitive dyestuff, plural refractive index modulation parts parallel to each other with modulated refractive index, irradiated with laser having a pulse width of 10^-6 second or lower in one luminous flux or in multi-luminous flux interference. - 特許庁

単結晶シリコンからなる基板10に対して、焦点位置を移動させてレーザ光Lをパルス照射し、前記単結晶シリコンを部分的に多結晶化して、前記単結晶シリコン中に連続した改質層11を形成する改質層形成工程と、前記改質層11をエッチングして除去するエッチング工程と、を備える半導体装置の製造方法とする。例文帳に追加

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a modified layer forming step for pulse-irradiating a substrate 10 consisting of single crystal silicon with a laser light L by moving a focal position, and partially polycrystallizing the single crystal silicon to form a continuous modified layer 11 in the single crystal silicon; and an etching step for etching the modified layer 11 to remove it. - 特許庁

例文

芯金の外周に円筒状のゴム発泡体を型成形する発泡ローラ成形工程と、成形された該発泡ローラのゴム発泡体外周面にTEA−CO_2レーザ光をパルス照射し、少なくとも該ゴム発泡体のセル表面を開口するセル開口工程と、を含むことを特徴とする発泡ローラの製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method for a foam roller includes a foam roller molding process to shape a cylindrical rubber foam body using a die on the periphery of a core metal, and a cell opening process to cast a TEA-CO_2 laser beam onto the rubber foam body peripheral surface of the molded roller so as to at least open the cell surface of the rubber foam body. - 特許庁


例文

プラズマ5から発する軟X線の強度分布は照射したパルスレーザー光3の光軸に対してほぼ対称となり、この光軸は多層膜回転放物面鏡6の対称軸と一致しているので、多層膜回転放物面鏡6で反射した後に形成される平行光束7も、ほぼ軸対称の強度分布を持つ。例文帳に追加

The intensity distribution of the soft X-ray generated from the plasma 5 becomes nearly symmetric with respect to the optical axis of the pulse laser light 3 and the light axis agrees with the symmetry axis of the multilayer film paraboloid-of-revolution mirror 6 so that the parallel flux 7 formed after reflecting the multilayers film paraboloid-of-revolution mirror 6 has nearly axisymmetric intensity distribution. - 特許庁

人体の頭部または顔面の皮膚にパルス状静電場を印加するための複数の電極3,4,5,6,7と、かつ人体の頭部または顔面の皮膚に中心波長が630nmから700nmの波長範囲の光を照射するための複数のLED9とを備えてなることを特徴としている。例文帳に追加

The device comprises a plurality of electrodes 3, 4, 5, 6 and 7 for applying a pulsed electrostatic field to a skin of a head or a face in a human body, and a plurality of LEDs 9 for emitting a light with a center wavelength of 630 to 700 nm to the skin of the head or the face in the human body. - 特許庁

顕微鏡を使用して溶液の下からパルスレーザー光線を対物レンズ5で集光して照射ことより、溶液表面上部でプラズマ発光が発生する、その発光スペクトルを溶液上部の対物レンズ9で集光して分光装置12で測定して、溶液に含まれる金属元素を分析することを特徴とする。例文帳に追加

The method comprises: condensing and irradiating pulse laser beams from beneath of a solution with an objective lens 5 of a microscope, thereby generating plasma emission at the upper portion of the solution surface; and condensing the emission spectrum with an objective lens 9 at the upper portion of the solution and measuring it with a spectrometer 12, thereby analyzing a metallic element contained in the solution. - 特許庁

少なくとも内壁が導電性である管形状物内にマイクロ波あるいは高周波プラズマを生成し、管形状物に繰り返し負電位のパルスバイアスを印加することによって管内壁にイオンを照射あるいは注入することによって表面処理を施し、様々な特性を改善することにある。例文帳に追加

To execute surface treatment by generating microwaves or high-frequency plasma in a tube-shaped material in which at least the inner wall has electric conductivity, repeatedly applying a pulse bias of the negative potential to the tube-shaped material and thereby irradiating or impregnating the inner wall of the tube with ions and to improve various characteristics thereof. - 特許庁

例文

2個の集光点の一方の変質が他方におけるパルスレーザ光線の照射を阻害することを回避して、被加工物の厚さ方向に変位せしめられている少なくとも2個の集光点において夫々所要とおりの変質を生成せしめ、被加工物に所要厚さの変質領域を高能率で生成することが可能である、レーザ加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser machining apparatus capable of generating a modified area of a required thickness in a work at a high efficiency by generating modification as required at least at two condensing points displaced in the thickness direction of the work while avoiding that modification at one of two condensing points impairs irradiation of pulse laser beams at the other. - 特許庁

例文

本発明は、ArFエキシマレーザーを実際の露光機で使用されているエネルギー密度、具体的には1パルスあたりのエネルギー密度が0.3mJ/cm^2p以下で照射したときに、露光機の光学材料として好適に使用できる対レーザー性の高い光学用合成石英ガラス部材及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a synthetic quartz glass member for optics which can be suitably used as an optical material for an exposing machine when ArF excimer laser is emitted with an energy density used in the practical exposing machine, concretely ≤0.3 mJ/cm^2p energy density per one pulsing and has high laser resistance and a method of manufacturing the same. - 特許庁

また、複数のスポットをディスク上に照射する手段と、それらスポットを同一周波数且つ異なる位相でパルス変調する手段と、これらのスポットのディスクからの反射光を単一の受光器で受け、それらを時間領域において相互に独立した系統の信号に分離する手段とを有する。例文帳に追加

The optical disk drive includes a means for irradiating the disk with a plurality of spots, a means for pulse modulating the spots by using the same frequency and different phases, and a means for receiving light from the spots reflected by the disk by using a single photodetector, and separating the reflected light into mutually independent lines of signals in terms of a time domain. - 特許庁

レーザ発振器と、回折光学素子と、スリットとを有するレーザ照射装置において、スリットはスリット開口部の長手方向の長さを可変可能であり、基板方向への入射は斜めからであり、更に、レーザは、連続発振の固体レーザまたは気体レーザまたは金属レーザ、もしくは10MHz以上のパルス発振のレーザであることを特徴とする。例文帳に追加

In the laser irradiation apparatus comprising a laser oscillator, a diffractive optical element, and a slit, the opening of the slit can be varied in length in the lengthwise direction, the incidence in the direction toward a substrate is oblique, and further, the laser is a continuously oscillated solid-state, gas or metal laser, or a pulsed oscillation one having a frequency of 10 MHz or higher. - 特許庁

一方、ホストPC110から画像データが供給された場合、その画像データがバッファメモリ36、制御部16、FIFOメモリ34および駆動パルス生成部35を介してレーザドライバ19に供給され、画像データに対応したレーザ光照射が行われ、光ディスク200の変色層205に可視画像が形成される例文帳に追加

When picture data is supplied from the host PC 110, the picture data is supplied to the laser driver 19 through the buffer memory 36, a control section 16, a FIFO memory 34, and a drive pulse generating section 35, laser beam irradiation corresponding to the picture data is performed, and a visible picture is formed on a color change layer 205 of the optical disk 200. - 特許庁

薄膜の製造方法は、基材上に原料粉末を供給する工程(S10)と、原料粉末に対してパルスレーザを照射して原料粉末を昇華させる工程(S30)と、昇華した原料粉末を構成する材料を、基材に対向して配置された基板上に堆積させる工程(S40)とを備えている。例文帳に追加

The method for depositing the thin film includes: a step (S10) of supplying raw material powder onto a base material; a step (S30) of irradiating the raw material powder with pulsed laser to sublime the raw material powder; and a step (S40) of depositing a material constituting the sublimed raw material powder on a substrate arranged to be opposed to the base material. - 特許庁

電気光学装置の製造方法は、2枚の基板110,120を貼り合わせる工程において、2枚の基板110,120をそれぞれのシール領域が重なるように対向配置させて重ね合わせ基板とし、重ね合わせ基板のシール領域に超短パルスレーザーを照射することにより、ガラス基板の表面を溶融させて両基板を接着する。例文帳に追加

In the step, the two sheets of substrates 110, 120 are arranged to face each other so that each of sealing regions of the substrates is overlapped with each other, thereby forming a stacked substrate, and the both substrates are bonded by irradiating the sealing region of the stacked substrate with an ultrashort pulse laser beam to melt a glass substrate surface. - 特許庁

そして、駆動信号生成回路102は、同期信号生成回路98からの位相差を変化させた同期信号に同期し変調器101からの記録信号により変調された磁界を生成するための駆動信号と、その駆動信号の対し位相を一定量遅延させたパルス光を照射するための駆動信号を生成する。例文帳に追加

And, a driving signal generating circuit 102 generates a driving signal for producing a magnetic field synchronized with the synchronous signal varied in the phase difference from the synchronous signal generating circuit 98 and modulated by the recording signal from a modulator 101, and the driving signal for emitting pulse light delayed in the phase with respect to the driving signal by a certain amount. - 特許庁

そして、撮像手段16により測定対象部分の発光強度の減衰過程を、光の照射パルス周期よりも短い間隔で撮影することで、測定対象部分全体の酸素分圧分布等を、当該部分に塗布された酸素消光性塗料の発光強度の減衰率に基づき把握することが可能となる。例文帳に追加

By photographing an attenuation process of emission intensity of the measurement object part at intervals shorter than the emission pulse cycles of the light by using a photographing means 16, the oxygen partial pressure distribution or the like of the whole measurement object part is obtained on the basis the attenuation rate of the emission intensity of the oxygen quenching coating applied to the part. - 特許庁

フィルム状部材12の上に形成されたガラス膜10中にガラス膜10より屈折率の高い光伝搬層としてのコア11を形成することにより、フレキシブルなフィルム状ガラス導波路を得ることができ、フェムト秒オーダの超短パルスレーザビームの集光、照射によりコア11が形成されるので、低損失化を図ることができる。例文帳に追加

The flexible filmy glass waveguide can be obtained by forming a core 11 as a light propagation layer, having a larger refractive index than a glass film 10 formed on the filmy member 12, in the glass film 10, and the core 11 is formed through light convergence and irradiation with an ultrashort pulse laser beam of femtosecond order, so low loss is realized. - 特許庁

所定のバンドギャップエネルギーを有するアモルファスカーボン膜を製造するための方法であって、アモルファスカーボン膜を成長させるための原料ガスGに、パルス状のマイクロ波Wを所定のバンドギャップエネルギーに対応するデューティ比で断続的に照射して該原料ガスGのプラズマPを生成し、基材B上にアモルファスカーボン膜を形成する。例文帳に追加

The method for producing the amorphous carbon film having the desired band-gap energy includes intermittently irradiating a source gas (G) which grows to the amorphous carbon film with a pulsed microwave (W) having a duty ratio corresponding to predetermined band-gap energy to form the plasma (P) of the source gas (G) and form the amorphous carbon film on a substrate (B). - 特許庁

サンプルガスが供給されるセル31に対して光をパルス的に照射するためのガス分析計用光源において、交流電源Pに接続された一次巻線6と、発熱体1に接続された二次巻線5とを有した変圧器hを設け、発光手段1で生じた熱を放散させる放熱手段Bを設ける。例文帳に追加

The light source for gas analyzers for pulsively applying light to a cell 31 where a sample gas is supplied comprises a transformer (h) having primary coil winding 6 connected to an AC power supply P, and secondary coil winding 5 connected to an electrical heating element 1, and a heat radiation means B for dissipating heat being generated by an emission means 1. - 特許庁

パターン形成装置は、基板を保持するステージ、光硬化性の微小液滴を基板に向けて吐出する吐出口を有するノズル部、ノズル部からの微小液滴の吐出に同期して微小液滴にパルス光を照射する光ファイバ、ノズル部を基板に対して相対的に移動する移動機構を有する。例文帳に追加

The apparatus has a stage holding a substrate, a nozzle portion having an outlet from which photo-curable fine liquid drops are discharged toward the substrate, an optical fiber emitting a pulse light on the drops synchronously with the discharging of the drops from the nozzle portion and a moving mechanism moving the nozzle portion relative to the substrate. - 特許庁

本発明の超短パルスレーザーによる材料加工方法においては、金属層2a、2bと有機材料層1とが積層されかつ複数層に亘って電子回路が形成された回路基板3に対してフェムト秒レーザー11を照射して、各層の電子回路を互いに接続する導体を配線するための孔5を形成する。例文帳に追加

In the method for machining a material by super-short pulse laser beams, a circuit substrate 3 with metal layers 2a and 2b and an organic material layer 1 laminated thereon and an electronic circuit formed in a plurality of layers is irradiated with femto-second laser beams 11 to form an aperture 5 to arrange a conductor to connect the electronic circuits on each layer to each other. - 特許庁

(1)記録層に隣接した結晶化促進層を有する相変化型光記録媒体に対し、レーザー光をパルス状に照射して、結晶相とアモルファス相を形成することにより記録を行うに際し、レーザー光進行方向と垂直な方向(横方向)のアモルファスマークの拡がりに関する記録サイズ間差が微少になるようにする記録方法。例文帳に追加

(1) The recording method is adapted to reduce a difference between recording sizes regarding the expansion of an amorphous mark in a direction (lateral direction) vertical to a laser beam advancing direction when recording is carried out by irradiating a phase-change optical recording medium having a crystallization promoting layer adjacent to a recording layer with a laser beam to form a crystal phase and an amorphous phase. - 特許庁

微細な窪み又は孔2が穿たれた硬質体1の表面に土壌10を付着させ、その微細な窪み又は孔2に跨るビーム径の炭酸ガスパルスレーザー光4を土壌10に照射してプラズマ発光6を誘起させ、そのプラズマ発光6の分光分析により土壌10中の汚染物質11を測定する。例文帳に追加

Soil 10 is allowed to adhere onto the surface of a hard body 1 where fine hollows or holes 2 are bored, and the soil 10 is irradiated with carbon dioxide pulse laser light 4 having a beam diameter over the fine hollows or holes 2, to thereby induce plasma emission 6, and a pollutant 11 in the soil 10 is measured by the spectroscopic analysis of the plasma emission 6. - 特許庁

露光対象のウエハWのスキャン露光中に露光ビームのエネルギー調整を行うことによって、露光ビームの照射領域内のウエハW上に積算パルス数の異なる複数の領域27A,27B,…が存在しても、複数の領域27A,27B,…の最終的な積算露光量は各々適正化される。例文帳に追加

Final integrated exposure amount for each of regions 27A, 27B, etc., is rationalized, even if the areas 27A, 27B, etc., having different integrated pulse numbers exist on a wafer W to be exposed in the irradiating region of an exposure beam by adjusting the energy of the exposure beam, while the wafer W is scanning in exposed. - 特許庁

3以上のレーザビーム32A〜32Cを光記録媒体に照射して記録及び/又は再生を行う光記録再生方法において、レーザビームのうち、光記録媒体における記録及び/又は再生に影響する物理的条件が異なるレーザビーム相互のレーザパルス駆動方法を異ならせて光記録及び/又は再生を行う。例文帳に追加

In the optical recording and reproducing method wherein recording and/or reproduction is performed by irradiating the optical recording medium with the three or more laser beams 32A to 32C, laser pulse driving methods of mutual laser beams whose physical conditions having influence on recording and/or reproduction of the optical recording medium are different from each other are made different to perform optical recording and/or reproduction. - 特許庁

光導波路11と直交するように平面基板12の面方向に外部から直流高電圧18からの電場を印加すると同時に、電場及び光導波路11と直交するように平面基板12の厚さ方向に短パルスレーザ光を照射することにより、コア領域13内に局所的に大きな非線形光学係数を有する光学的異方性領域を形成することができる。例文帳に追加

An optical anisotropic area having a locally large nonlinear optical efficient can be formed in a core area 13 by impressing an electric field from DC high voltage 18 in the surface direction of a plane substrate 12 from the outside so as to be orthogonally crossed with an optical waveguide path 11 and simultaneously irradiating short-pulse laser light in the thickness direction of the plane substrate 12. - 特許庁

この透明ガラス板1とフェムト秒レーザパルス2の焦点とを相対移動させることにより、高屈折率の光伝搬層5が透明ガラス板1中に連続的に形成されるので、透明ガラス板1中にレーザ照射による熱的歪みが残っていたとしても導波路が略対称構造を有しているため、偏波依存性が生じにくい。例文帳に追加

Since the light propagating parts 5 of the high refraction factor are continuously formed inside the transparent glass pane 1 by relatively moving this transparent glass pane 1 and the focal point of the femto-see laser pulse 2, even when thermal distortion caused by laser radiation is remained in the transparent glass pane 1, since the waveguide has an almost symmetric structure, polarization dependency hardly occurs. - 特許庁

検査対象である金属表面6にパルス状のレーザー光11を照射して付着物質をアブレーションし、その後アブレーションによりプラズマ化された物質からの発光13を計測し、分光することにより、金属表面に付着する微量成分の特定と濃度を求めるようにしている。例文帳に追加

A measurement method comprises the steps of: irradiating a metallic surface 6 to be inspected with a pulse-shaped laser beam 11 to perform the ablation of adhesion substance; measuring and dispersing emission 13 from the substance integrated into plasma by the ablation for specifying micro-components adhered to the metallic surface, and for calculating the concentration of the micro-components. - 特許庁

導電性支持体上に、少なくとも樹脂を含有する表面層を有する電子写真感光体の製造方法において、400nm以下の波長を有し、かつ、パルス幅が100ns以下である出力特性を有するレーザー光を照射して該表面層に複数の凹部を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。例文帳に追加

The method for producing an electrophotographic photoreceptor having at least a surface layer containing a resin on a conductive support includes a step of forming a plurality of recessed portions in the surface layer by irradiating the surface layer with laser light having output characteristics as a wavelength of 400 nm or shorter and a pulse width of 100 ns or less. - 特許庁

回転子鉄心18の磁石挿入孔17に永久磁石20を挿入して構成される永久磁石形回転子13において、永久磁石20と回転子鉄心18との境界部22に、パルス出力で発振されたレーザを照射することにより溶融固着部25を設け、この溶融固着部25により永久磁石20を磁石挿入孔17内に固定する構成とした。例文帳に追加

In a permanent magnet type rotor 13 constituted by inserting a permanent magnet 20 in a magnet inserting hole 17 of a rotor iron core 18, a boundary part 22 between the permanent magnet 20 and the rotor iron core 18 is irradiated with a laser which is oscillated by pulse output, a fused fixing part 25 is formed, and the permanent magnet 20 is fixed in the magnet inserting hole 17 with the fused fixing part 25. - 特許庁

また、波長が0を超え355nm以下、パルス幅が5〜200nsec、エネルギーが0.16〜0.6mJ/mm^2の範囲であるレーザー光を1回のみ照射するようにすると、画素電極5の下に存在するゲート配線1、ソース配線3、TFT6および共通容量配線2に影響を与えることなく、画素電極5のみを選択的に切断しやすい。例文帳に追加

When a TFT array substrate is irradiated only once with laser light having a wavelength of 0-355 nm, a pulse width of 5-200 nsec and an energy in the range of 0.16-0.6 mJ/mm^2, only the pixel electrode 5 can be cut off selectively without having any effect on the underlying gate line 1, source line 3, TFT 6 and common capacitive line 2. - 特許庁

均一な結晶化及び大粒径化を図るため、アニール工程では、エキシマレーザ光源を含むレーザ発振器51を用いてパルス幅が50ns以上のレーザ光50を各辺が10mm以上の矩形断面となるように光学系53で整形して、半導体薄膜4に逐次照射する。例文帳に追加

To make uniform crystallization and to obtain large particle diameter in annealing, a laser oscillator 51 including an excimer laser beam source is used, and a laser beam 50 with a pulse width of 50 ns or larger is shaped by an optical system 53, so that each side of a rectangular section is set to 10 mm or more for successively subjecting the semiconductor thin film 2 to the laser beam irradiation. - 特許庁

支持体の外周上に形成された光硬化性塗膜にパルス光を照射することにより、塗膜中の化合物を分解や変質をさせず、支持体の変形や耐久性低下をさせることなく全周にわたり均一な硬度を有する硬化膜を形成することができる光硬化膜の製造方法及び電子写真感光体の製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a photocured film by which, by irradiating a photocurable coating film formed on the outer periphery of a support with pulsed light, a cured film having uniform hardness over the whole circumference can be formed without causing decomposition or degeneration of compounds in the coating film nor causing deformation or durability deterioration of the support, and a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor. - 特許庁

本発明は、飛行体からパルスペア・ドップラーレーダーを使って、雨や雪や雲などの気象物の上昇・降下速度を測定するときにあって、飛行方向のずれやビーム照射角度のずれの影響を受けることなく、気象物の上昇・降下速度を正確に測定できるようにすることを目的とする。例文帳に追加

To accurately measure an ascending speed and a descending speed of a meteorological subject, without being affected by a shift in a flying direction and a shift in a beam emitting angle, when the ascending speed and the descending speed of the meteorological subject such as rain, snow and cloud is measured using a pulse-pair type Doppler radar from a flying body. - 特許庁

Auイオンを含有するガラス内部に、所定の波長のパルスレーザ光を集光点を移動させながら、二以上の所定のピークパワー密度でガラス内部に集光照射した後、該ガラスを加熱することにより、集光点の軌跡が二以上の色に着色した、内部に任意の形状のカラーパターンを有するガラスを作製する。例文帳に追加

In this method, a glass having a color pattern of an arbitrary shape therein and the trace of the condensed point being colored at least in two colors is manufactured by irradiating and condensing a pulse laser light of a specified wave length inside the glass containing an Au ion with not less than two specified peak power densities while moving the condensed point, then heating the glass. - 特許庁

パルス光により励起された半導体に照射した電磁波の反射波若しくは透過波である測定波に基づいて半導体のキャリア寿命測定を行う場合に,励起キャリアのライフタイムが短い半導体を測定する際にも,測定時間の増大や高コスト化をもたらすことなく高精度で測定できること。例文帳に追加

To measure the carrier lifetime even of a semiconductor having a short lifetime of excited carrier with high precision without increasing the measuring time or the cost when the carrier lifetime of a semiconductor is measured based on a measuring wave, i.e. the reflected wave or transmitted wave of an electromagnetic wave by which a semiconductor excited with pulse light is irradiated. - 特許庁

パルスレーダ装置10は、車載ライトアセンブリ60におけるハウジング61の内部空間であって、且つ反射鏡63,65の外部空間に、電球62,64及び反射鏡63,65によって形成される照射光軸方向と、パッチアンテナ12の指向性の主軸方向とが一致するように搭載される。例文帳に追加

The pulse radar device 10 is loaded in an internal space of the housing 61 of the on-vehicle light assembly 60 which is simultaneously an external space of the reflecting mirrors 63, 65 so that the irradiation optical axis direction formed by the electric lamps 62, 64 and the reflecting mirrors 63, 65 agrees with the main axis direction of directivity of the patch antennas 12. - 特許庁

(1)螺旋又は同心円状の案内溝を有する基板上に、少なくとも記録層を有する相変化型光情報記録媒体に対し、集光したレーザービームをパルス状に照射して記録再生を行うに当り、記録媒体上でのレーザービームスポット形状を記録時と再生時とで変える記録再生方法。例文帳に追加

In the recording and reproducing method, (1) when recording or reproduction is made by radiating the phase-change optical information recording medium, which has at least a recording layer on a substrate having a spiral or concentric guiding groove, with a condensed laser beam in a pulse form, a laser beam spot form on the recording medium is changed at recording and at reproduction. - 特許庁

本発明は、第1の溶接ワイヤ及び第2の溶接ワイヤの送給方向と被溶接物の表面とが交差する第1の点及び第2の点にレーザ光を照射することによって第1のアーク及び第2のアークを送給方向と被溶接物の表面とが交差する第1の点及び第2の点に収束させる多電極パルスアーク溶接制御方法である。例文帳に追加

In this multi-electrode pulsed arc welding control method, a laser beam is emitted to the first and second points where the feeding direction of the first and second welding wires intersects the surface of an object to be welded, thereby making the first and second arcs converge on the first and second points where the feeding direction and the surface of the object intersect. - 特許庁

半導体膜によく吸収される波長を持つパルス発振のレーザ101と溶融した半導体膜によく吸収される大出力のレーザ110とを組み合わせ用い、まずレーザ101により広範囲に溶融させた半導体膜にレーザ110を照射し、その溶融状態を維持したままレーザ110と半導体膜とを相対的に走査させ、長結晶粒領域を形成する。例文帳に追加

The laser 110 is continuously irradiated to the semiconductor film until the laser 101 is irradiated and attenuates its output when the laser 101 is irradiated again to give no excessive energy to the semiconductor film, which enables an extremely uniform laser annealing. - 特許庁

真空チャンバー1外において、イオンシャワー源3で窒素イオン17を生成し、カソーディックアークソース2で炭素イオン38を生成し、これらのイオンビーム17A、38Aを真空チャンバー1内に導入してチャンバー内に配した基板4に照射すると共に、この基板4に負のパルス状電圧を印加する。例文帳に追加

Outside a vacuum chamber 1, nitrogen ions 17 are generated by an ion shower source 3, carbon ions 38 are generated in a cathodic arc source 2, ion beams 17A, 38A are introduced in the vacuum chamber 1 to irradiate a substrate 4 disposed in the chamber, and the negative pulse-like voltage is applied to the substrate 4. - 特許庁

ポリマー材料被膜を有する基材からなる複合体は、一方の表面にポリマー材料が積層され且つ光透過性を有する基材に、パルス幅が10^-12秒以下のレーザーを基材側から照射することにより、基材表面にポリマー材料被膜を形成して作製されたことを特徴とする。例文帳に追加

The composite material containing the base having the polymer material film is manufactured by forming the polymer material film on the surface of the base by irradiating the base laminated with a polymer material on one surface thereof and having a light transmittance with a laser having a pulse width of 10^-12 s or less from the base side. - 特許庁

光ディスク1から反射されるレーザー光が照射される光検出器7から得られる信号を増幅する検出信号増幅回路11の利得をレーザー出力の設定動作に伴い記録用パルス信号を構成する基準レベルである消去レベル値の変更動作に対応させて変更するように構成されている。例文帳に追加

Gain of a detection signal amplifying circuit 11 amplifying a signal obtained from a photodetector 7 to which is irradiated with a laser beam reflected from the optical disk 1 is changed corresponding to change operation of an erasing level value being a reference level constituting a pulse signal for recording accompanied by setting operation of the laser output. - 特許庁

マンガン酸化物にパルス光を照射することにより、光誘起効果による材料中のスピン秩序の変化を生起させ、応答性が速く、かつ高精度に光の透過率・電気的伝導率を制御することができるマンガン酸化物の光の透過率・電気的伝導率の制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of controlling light transmissiveness and electrical conductivity of a manganese oxide which generates change in spin order in a material owing to light inductive effect by irradiation of pulse light to the manganese oxide and which is fast in responsibility and is capable of highly accurately controlling light transmissiveness and electrical conductivity. - 特許庁

半導体基板44内に導入された不純物を活性化させる方法であり、半導体基板44の表面から不純物を導入して半導体領域を形成する工程と、半導体基板44の表面の局所領域に複数のレーザ発振器12、16を用いて複数のパルスレーザ22、24を照射する工程を備えている。例文帳に追加

The method for activating impurities introduced into a semiconductor substrate 44 comprises; a step for forming a semiconductor region by introducing impurities from the surface of the semiconductor substrate 44; and a step for irradiating a local region on the surface of the semiconductor substrate 44 with a plurality of pulse lasers 22 and 24 using a plurality of laser oscillators 12 and 16. - 特許庁

本発明のチップブレーカの形成方法は、フェムト秒パルスレーザ30を用いて、そのビームスポットPをビームの照射軸周りに高速で公転させながら移動させることでダイヤモンド及び/又は立方晶窒化硼素からなる硬質焼結体表面26に三次元形状のチップブレーカパターン24を形成することを特徴とする。例文帳に追加

This forming method of a chip breaker includes a process of forming a three-dimensional shaped chip breaker pattern 24 on the surface 26 of the hard sintered body made of diamond and/or cubic boron nitride by revolving and moving a beam spot P around an illumination axis at high speed, using a Femtosecond pulsed laser 30. - 特許庁

複数の信号線が形成されている第1基板を含む表示装置の修理装置は、前記信号線に焦点を合せて所定の波長及びフェムト秒乃至ピコ秒のパルス幅を有するレーザー光750を照射するレーザー装備700を含み、前記所定の波長の範囲は、750nm乃至850nmまたは1000nm乃至1100nmである。例文帳に追加

The apparatus for repairing display devices of a type including a first substrate having a plurality of signal lines formed thereon includes a laser 700 that radiates laser light 750 having a wavelength in a range of from 750 to 850 nm, or from 1,000 to 1,100 nm, and a pulse width of femtoseconds to picoseconds and arranged such that the laser light can be focused on selected one of the signal lines. - 特許庁

例文

次に、標準試料面上で一次粒子線を照射し二次元走査したときに発生した二次粒子を検出したときの画像データから求めたS/Nから検出器に入射した二次粒子流を求めるか、発生した二次粒子を検出したときの検出器のパルス計数率から検出器に入射した二次粒子流を求め、二次粒子流と、二次粒子を放出する割合とプローブ電流の積との比から収集効率を決定する。例文帳に追加

The output pulse counting rate is corrected for counting loss, and a back ground counting rate measured with blocking the primary particle beam is subtracted from the corrected number of the output pulse to obtain a counting rate to be used. - 特許庁

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