「パルス照射」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

集光光学系で集光されたパルスレーザビームｐｌ_５が照射される位置に、保持手段１２が、被加工物２０を保持する。例文帳に追加

A holding means 12 holds a work 20 to be machined at a position which is irradiated with a pulse laser beam pl5 converged with the converging optical system. - 特許庁

パルス光を発光する光源を用いても、ヘッドから照射される積算光量にムラが生じないような描画装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a drawing device never causing irregularity of a cumulative light quantity emitted from a head even when a light source emitting pulse light is used. - 特許庁

ＭＲＩ装置は、高周波パルスを算出し、照射手段に適用する波形制御手段を備え、波形制御手段は、複数の高周波パルス波形ベクトルを格納する第１の記憶手段から高周波パルス波形ベクトルを読み出し、仮想照射パターンを算出し、理想照射パターンと仮想照射パターンについて、絶対値の差分の二乗と位相の差分の二乗との重み付け和の最小値を与える高周波パルス波形を算出する。例文帳に追加

The waveform control means reads an RF pulse waveform vector from a first storage means storing a plurality of high-frequency waveform vectors, calculates a virtual irradiation pattern, and regarding the ideal and virtual irradiation patterns, calculates an high-frequency pulse waveform giving the minimum of the weighted total of the square of a difference in the absolute value and the square of a difference in the phase. - 特許庁

その状態にて、突起部２１の先端部から低出力の連続するパルスレーザの照射を行う。例文帳に追加

In such a state, a low-powered pulse laser beam is contanuously radiated from a tip part of the protruding part 21. - 特許庁

制御光パルス照射によって、相変化材料部１０９は結晶状態に相変化し、光スイッチはバー状態に遷移する。例文帳に追加

A phase change material portion 109 is subjected to a phase change to a crystalline state with control light pulse irradiation, and the optical switch is subjected to transition to a bar state. - 特許庁

収束光学系により収束されたパルスレーザビームが照射される位置に、光記憶媒体が保持されている。例文帳に追加

An optical recording medium is held in a position irradiated with the pulse laser beam converged by the convergent optical system. - 特許庁

ボケ量推定手段１１０は、Ｘ線照射パルス時間幅から被写体中の計測関心点における解像度ボケ量を推定する。例文帳に追加

A degree of blur estimation means 110 estimates the degree of blur in the resolving power at an interest point of measurement in the object from the time ranges of the X-ray irradiation pulses. - 特許庁

パルスレーザ光を供給する光源（１）を有し、この光源からの光で被照射面（Ｍ）を照明する照明光学装置。例文帳に追加

The illumination optical device has a light source (1) for supplying pulse laser beams, and illuminates a surface to be irradiated (M) with light from the light source. - 特許庁

複数のパルス光の照射位置を、分析対象物表面の凹凸に応じて一致させる顕微鏡装置を提供する。例文帳に追加

To provide a microscopic apparatus for matching a plurality of irradiation locations of a plurality of pulse lights in response to an irregularity in the surface of an analyzed object. - 特許庁

なお、レーザアブレーションの場合、例えば、ＹＡＧレーザ１０からのパルスレーザ光Ｌをターゲット材１２に照射する。例文帳に追加

Further, in the case of laser ablation, a target material 12 is irradiated, for example, with a pulse laser light L from a YAG laser 10. - 特許庁

薄板状被加工物に照射されるパルスレーザ光線の繰り返し周波数Ｙ（Ｈｚ）を２００ｋＨｚ以上に設定する。例文帳に追加

The repetitive frequency Y(Hz) of the pulsed laser beam that is emitted to the sheet-like workpiece is set at 200 kHz or above. - 特許庁

パルス光源２からの一方の励起光と波長変換器３からの他方の励起光とを被測定物質１０中で交叉させて照射する。例文帳に追加

The one exciting light from the light source 2 and the other exciting light from the converter 3 are crossed in a substance 10 to be measured and illuminated. - 特許庁

めっき層を樹脂と上層絶縁層とで挟んだ構造の基板に対し，上方からパルス状のレーザ光を照射する。例文帳に追加

A pulsed laser light is cast on a board from above which has a structure sandwiching a plating layer between resin and an upper insulating layer. - 特許庁

第１光源３０からのパルスレーザ光ＰＬＢ１は、第１光学系７０により導かれ、ターゲット５０に照射される。例文帳に追加

Pulse laser light PLB 1 from a 1st light source 30 is guided by a 1st optical system 70 to irradiate the target 50. - 特許庁

光伝播手段により伝播されたパルスレーザ光を被加工物の加工部位に照射してレーザ加工を行う。例文帳に追加

A part to be machined of a work is irradiated with the pulse laser beam propagated from the light propagation means, and thus laser machining is conducted. - 特許庁

パルスレーザを用いたアニール方法を発展させ、欠陥の発生を抑制することが可能なアニールに用いられるレーザ照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide laser irradiation equipment used for annealing that can control the generation of a defect by developing an annealing method using a pulsed laser. - 特許庁

十分なエネルギーのパルスレーザ光を伝送可能で安価な光ファイバ伝送式のレーザ照射装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an inexpensive optical fiber transmission type laser light irradiating device which can transmit pulse laser light with sufficient energy. - 特許庁

これを含有する液晶配向剤並びに液晶配向膜に偏光パルスレーザを照射して得られた液晶配向膜。例文帳に追加

The liquid crystal orientating agent comprises the polyamic acid or the polyimide, and a liquid crystal orientated film is manufactured by irradiating the polarization pulsed laser to the surface of a coating obtained from the orientating agent. - 特許庁

ＸｅＣｌエキシマレーザを用いて非晶質膜１４に対して一様に１５０回のパルス（エネルギービームＥ１）照射を行う。例文帳に追加

A noncrystalline film 14 is irradiated with pulses (energy beam E1) uniformly 150 times by using an XeCl excimer laser. - 特許庁

10Hz程度の繰り返し周波数のパルスイオンビーム３で試料を照射して、１万度以上に直接加熱する。例文帳に追加

Pulsed ion beam 3 with repeated frequency of about 10 Hz is radiated to the sample to directly heat the sample at 10,000°C or higher. - 特許庁

ＳｉＣウェハ１００への識別子１０１のマーキングは、ＹＡＧレーザの４倍高調波を用いたパルスレーザの照射によって行われる。例文帳に追加

Marking of an SiC wafer 100 with an identifier 101 is realized by irradiation with a pulsed laser using a harmonic of a wavelength four times that of a YAG laser. - 特許庁

レーザ光源１０１により発生するパルスレーザを、光学系を介して、ステージ１１３上の加工対象物に照射する。例文帳に追加

A machining object placed on a stage 113 is irradiated with a pulse laser beam from a laser light source 101 through an optical system. - 特許庁

抵抗体素子２４へ照射するレーザ光はマイクロ秒以内のパルス幅で数Ｊ／ｃｍ^２以上の加工点フルエンスにする。例文帳に追加

A laser beam irradiating a resistor element 24 is formed of laser pulses which are each one micro-second or below in width and has a processing point fluence of a few J/cm2 or above. - 特許庁

レーザ光源１０１により発生するパルスレーザを、光学系を介して、ステージ１１３上の加工対象物に照射する。例文帳に追加

The machining target on a stage 113 is irradiated with a pulse laser beam generated by a laser beam source 101 via an optical system. - 特許庁

レーザー制御装置は、駆動パルスによってレーザー発振器を駆動して、Ｘレイフィルム１２にレーザービームを照射してドットを形成するときに、設定されている照射回数だけレーザービームをＸレイフィルム１２の同一位置に照射するようになっている。例文帳に追加

This laser controlling apparatus irradiates the laser beam on the same point of the X-ray film 12 only with the number of irradiating times that is set when a laser generator is driven by the driving pulse and the laser beam is irradiated on the X-ray film 12 to form a dot. - 特許庁

レーザ光を被加工物に照射して、前記被加工物を加工するレーザ加工方法であって、前記被加工物に前記レーザ光を照射しつつ、前記レーザ光が照射されている前記被加工物に、アシストガスをパルス状に噴射してレーザ加工をすること特徴とするレーザ加工方法が提供される。例文帳に追加

In a laser beam machining method for machining a workpiece by irradiating the workpiece with the laser beam, the laser beam machining is performed by jetting pulsed assist gas to the workpiece irradiated with the laser beam while irradiating the workpiece with the laser beam. - 特許庁

連続照射とパルス照射による放射線撮影装置において、透視撮影のフレームレートが遅いほど放射線発生装置から電子カセッテに対して放射線を連続的に照射して透視撮影が行われるように制御を行う。例文帳に追加

In a radiographic image capturing device by continuous irradiation and pulse irradiation, fluoroscopic imaging is controlled to be carried out so that radiation is continuously radiated from a radiation generating device to an electronic cassette the slower the frame rate of fluoroscopic imaging. - 特許庁

単一のパルス光が照射された場合、軟Ｘ線強度の角度分布は照射された側にやや偏っているが、このように４方向から照射することによって、標的ガス供給ノズル１の軸に対してほぼ対称な軟Ｘ線強度分布が得られる。例文帳に追加

In the case of irradiation with a single beam of the pulse light, the angular distribution of the soft X-ray intensity is slightly biased to an irradiated side, a substantially symmetrical soft X-ray intensity distribution is obtained for the axis of the target gas supply nozzle 1. - 特許庁

閃光放電ランプを高電圧低容量のパルス電源により点灯して、放射エネルギーの照射の際に被照射物に与える物理的ダメージを最小限にして表面処理などを行える閃光放電ランプ点灯装置およびこれを用いた放射エネルギー照射装置を提供する。例文帳に追加

To provide a flash discharge lamp lighting device and an radiation energy irradiation device using this in which a surface treatment or the like can be carried out with the minimum physical damage given to an irradiated material in irradiating the discharge energy by lighting the flash discharge lamp with a pulse power supply of a high voltage and a low capacity. - 特許庁

光ディスクへ照射するレーザ光を、パルス波形の先頭部におけるレーザ照射パワーが、それ以降よりも大きくなるように設定するとともに、光ディスクに形成するピットの長さが短いほど、前記先頭部におけるレーザ照射パワーを大きくしてデータを記録する。例文帳に追加

The laser beam to be emitted to the optical disk is made stronger in laser radiation power at the head part of a pulse waveform than thereafter, and also the shorter a pit length formed on the optical disk is, the larger the laser radiation power is emitted at the head part to record data. - 特許庁

フォトマスクの欠陥修正中の薄膜の透過率を判断でき、その結果によってＣＶＤ原料ガス供給量、レーザ照射強度、レーザ照射時間及び照射パルス数を制御することが可能なフォトマスクの欠陥修正方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for correcting a defect of a photomask by which the transmittance of a thin film during correcting a defect of a photomask can be judged and, from the results, the supply amount of CVD source gas, laser irradiation intensity, laser irradiation time and the number of irradiation pulses can be controlled. - 特許庁

なお、請求項には、「傾斜磁場を発生させながら90°パルスを照射し」、「傾斜磁場を発生させながら180°パルスを照射し」という、機器による人体に対する作用工程が含まれているから、請求項に記載された方法は医療機器の作動方法には該当しない。例文帳に追加

Since the matters reading “irradiating 90° pulse to the imaging objective region while generating a gradient magnetic field in the slice direction” and “irradiating 180° pulse to the region while generating the gradient magnetic field in the slice direction” include the step with an influence on the human body by the device, the claimed method is not considered to be a method for controlling the operation of the medical device.  - 特許庁

ストリークカメラ７は、パルス光源１から照射される紫外光のパルスの幅よりも遅れた時間に、プリント配線板５における紫外光の照射部のソルダーレジスト５３の残渣から生じる蛍光を検出するためのものである。例文帳に追加

The streak camera 7 detects fluorescent light generated from a residual of a solder resist 53 at a UV radiated portion of the printed circuit board 5, at a time point delayed more than the pulse width of the UV light radiated by the pulse light source 1. - 特許庁

パルス幅が１ピコ秒乃至１００ナノ秒の超短パルスレーザをレーザ発振器１１より石英１の切断面２に照射し、複数のレーザ照射痕を前記切断面の全面に亘って作ることにより石英を分断する。例文帳に追加

The quartz is cut by irradiating a cut area 2 of the quartz 1 with the ultrashort pulse laser having a pulse width of 1 picosecond to 100 nanosecond from a laser oscillator 11 and making a plurality of laser irradiation marks over the entire surface of the cut area. - 特許庁

半導体レーザ２は、予め設定された主照射期間にはパルス光を種光として出射し、予備照射期間には、パルス光のピークパワーよりも小さいパワーを有し、かつ実質的な連続光を種光として出射する。例文帳に追加

The semiconductor laser 2 emits the pulse beam as the seed beam during the preset main irradiation period, and emits the substantially continuous beam as the seed beam having the power smaller than the peak power of the pulse beam during the preliminary irradiation period. - 特許庁

エミッション顕微鏡には、真空容器１５の内部に収容された試料８に紫外線光を照射する紫外線照射装置１２と、試料８にパルス電圧を印加するための電極（不図示）、電流導入端子９およびパルス発生器１０とが備えられている。例文帳に追加

This emission microscope is provided with an ultraviolet ray irradiating device 12 for irradiating with an ultraviolet ray a sample 8 stored inside a vacuum container 15, an electrode current introducing terminal 9 for impressing pulse voltage to the sample 8, and a pulse generator 10. - 特許庁

次いで、反応ガス雰囲気中で、エネルギービームＥＢとして、波長３０８ｎｍ、パルス幅１４ｎｓｅｃ、エネルギー密度６００ｍＪ／ｃｍ^2 のＸｅＣｌパルスレーザビームを、触媒層１５の所定の位置に照射することにより、照射された位置を加熱する。例文帳に追加

The prescribed position of the catalyst layer 15 is irradiated with an XeCl pulse laser beam of a wavelength 308 nm, pulse width 14 nsec, and energy density 600 mJ/cm^2 as an energy beam EB in a reactive gaseous atmosphere and thereby the irradiated positions are heated. - 特許庁

本発明は、赤外線や光線によるガス分析計（ＮＤＩＲ）用の光源に係り、詳しくは、サンプルガスが供給されるセルに対して光をパルス的に照射するためのガス分析計用光源であって、可動部分を必要とすることなくパルス光を照射できるようにする技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique for applying pulse beams without requiring any movable sections in a light source for gas analyzers (NDIR) due to infrared rays and rays, and specifically in a light source for gas analyzers for pulsively applying light to a cell where a sample gas is supplied. - 特許庁

更に好ましくは、第１のパルス電磁放射を前記製造用材料３ａの層の第１の領域に照射し、第２のパルス電磁放射または連続電磁放射を前記製造用材料の前記層の第２の領域に照射する。例文帳に追加

The electromagnetic radiation 7a uses first pulse electromagnetic radiation and second pulse electromagnetic radiation having higher frequency than that of the first electromagnetic radiation or continuous electromagnetic radiation and it is further preferable that the first region of a layer of the manufacturing material 3a is irradiated with the first pulse electromagnetic radiation and the second region of the layer of the manufacturing material is irradiated with the second pulse electromagnetic radiation or the continuous electromagnetic radiation. - 特許庁

さらに、マトリックスレーザパルス光照射部１１から、マトリックス励起用レーザパルス光を照射することで、励起状態のマトリックス化合物と励起状態の可溶化剤とが共存された状態を実現でき、効率的に分析物をイオン化することができる。例文帳に追加

Furthermore, by irradiating a matrix excitation laser pulse beam from the matrix laser pulse beam irradiation part 11, a state can be realized in which a matrix compound at excitation state and a solubilizer of excitation state are made to co-exist, and the subject matter to be analyzed can be ionized efficiently. - 特許庁

テラヘルツパルス光を試料Ｓ(位置Ａ)に照射し試料から反射した反射光を検出する反射測定光学系と、テラヘルツパルス光を試料Ｓ(位置Ｂ)に照射し試料を透過した透過光を検出する透過測定光学系とを切り換え可能とする。例文帳に追加

A reflection measurement optical system for irradiating a sample S (a location A) with terahertz pulse light and detecting a reflection light reflected from the sample and a transmission measurement optical system for irradiating the sample S (a location B) with the terahertz pulse light and detecting a transmission light transmitted through the sample can be switched. - 特許庁

コントローラ４は、それら複数ショットのパルスレーザ光のうち、最初の１ショットの照射面におけるエネルギ密度が、最後の１ショットの照射面におけるエネルギ密度よりも大きくなるように、第１のレーザ光源３１へトリガパルス信号Ｓを送出する。例文帳に追加

A controller 4 transmits a trigger pulse signal S to the first laser beam source 31 so that the energy density on the irradiation face of the first one shot among the pulse laser beams with a plurality of the shots becomes larger than that of on the irradiation face of the last one shot. - 特許庁

パルス状の第１のレーザビームである分岐ビーム５と、第１のレーザビーム５の照射位置を基準にして照射位置を位置決めされるパルス状の第２のレーザビームである分岐ビーム６と、により１つの穴を加工する。例文帳に追加

One hole is machined with a split beam 5, which is a first pulsed laser beam, and a split beam 6, which is a second pulsed laser beam of which the irradiation position is set on the basis of the irradiation position of the first laser beam 5. - 特許庁

監視装置６０は、コンクリートキャスク１０の排気口２８近傍領域にパルスレーザ光を照射するパルスレーザ光源６４、検出レーザ光を照射する検出レーザ光源６６、および受光部６８を有している。例文帳に追加

The monitoring device 60 has a pulsed laser beam source 64 that irradiates a region near an exhaust vent 28 of a concrete cask 10 with a pulsed laser beam, a detection laser beam source 66 that irradiates it with a detection laser beam and a light-receptive part 68. - 特許庁

このようにパルス１０ａ，１０ｂを連続して不純物層に照射することにより、半値幅の長い単パルスを不純物層に照射したのと同様の効果が得られ、不純物層の浅い領域から深い領域まで高活性化率を実現できる。例文帳に追加

Thus, the impurity layer is continuously irradiated with the pulses 10a and 10b so that effects similar to those to be obtained when the impurity layer is irradiated with a simple pulse whose half width is long can be obtained, and that high activation rate can be realized from the shallow region to deep region of the impurity layer. - 特許庁