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「パルス照射」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > パルス照射の意味・解説 > パルス照射に関連した英語例文

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パルス照射の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1213



例文

レーザーは、ナノ秒パルスレーザーが望ましく、レーザーの照射条件は、2.0×10^3〜4.0×10^3mJ/m^2/pulse、2〜20Hz、かつ、パルス数200〜20000pulsesが望ましい。例文帳に追加

Preferably, the laser beam is a nano-second pulsed laser beam, and the radiation conditions of the laser beam are preferably 2.0×10^3 to 4.0×10^3 mJ/m^2/pulse, 2 to 20 Hz, and the number of pulses of 200 to 20,000. - 特許庁

生体内において試料とパルスレーザ光との非線形相互作用を誘起するCARS過程を含む四光波混合過程、その他の非線形相互作用を観測するために、十分な強度のパルスレーザ光を照射する。例文帳に追加

To irradiate a sample with a pulse laser beam having sufficient intensity for observation of a four-wave mixing process including a CARS (coherent anti-stokes Raman scattering) process that induces an in-vivo nonlinear interaction between a sample and a pulse laser beam and observation of other nonlinear interactions. - 特許庁

FPDの読み出しスキャンの終了前にパルス状X線が照射されてしまう不都合を回避するとともに、つぎに開始されるFPDの読み出しスキャンまでの間、可能な限り長いX線パルス幅を確保する。例文帳に追加

To evade the inconvenience that irradiation with pulse-like X-rays is performed before the end of the read scanning of FPD and to secure an X-ray pulse width as long as possible until the read scanning of the FPD to be started next. - 特許庁

また、シフト信号の間隔に、各色の光について設定したパルス時間幅でそれぞれK個、L個、及びM個の各色のパルス光を読取原稿へ照射する。例文帳に追加

Furthermore, at intervals of shift signals, a read document is irradiated with K, L and M pieces of pulsed light in the respective colors for the pulse time width set for the light in each color. - 特許庁

例文

液体中の固体表面に、パルス幅が30ns以上のパルスレーザを照射してレーザアブレーションさせ、該レーザアブレーションにより生成するプルームからの発光を分光分析する。例文帳に追加

A laser beam is thrown with a pulse width of 30 ns or above is thrown the surface of the solid in liquid to perform the laser ablation of the surface of the solid and the emission from the bloom formed by the laser ablation is spectrally analyzed. - 特許庁


例文

パルスレーザの切断限界長さよりも長い箇所を有する金属材料の厚物材であっても、切断限界長さはそのままにパルスレーザ照射により切断する厚物材用レーザ切断方法を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam cutting method for a thick material, for cutting even a thick metallic material having a part longer than the marginal cutting length of pulsed laser by pulsed laser irradiation, keeping the marginal cutting length as it is. - 特許庁

情報記録装置において、記録信号に応じたパルス信号で光源を駆動することにより、記録信号に応じたレーザパルスが記録媒体上に照射される。例文帳に追加

In the information recording device, a light source is driven by a pulse signal corresponding to a recording signal to irradiate a recording medium by laser pulses corresponding to the recording signal. - 特許庁

アンテナ56は、テラヘルツパルス光を試料100の2次元領域に一括照射し、その透過パルス光を電気光学結晶61の2次元領域が一括受光する。例文帳に追加

An antenna 56 collectively irradiates the two-dimensional region of a sample 100 with the terahertz pulse light, and the two-dimensional region of an electrooptical crystal 61 collectively receives the transmission pulse light. - 特許庁

生体組織にパルス光を照射するパルス光源としてレーザ光源102が用いられてなる光音響画像化装置において、レーザ光源102として、光音響画像化装置の稼働時に常時駆動可能なものを用いる。例文帳に追加

In the photoacoustic imaging apparatus using a laser light source 102 as a pulse light source for irradiating a biological tissue with pulse light, the laser light source 102 allowed to be always driven during the operation of the photoacoustic imaging apparatus is used. - 特許庁

例文

また、本発明のMRI装置は、マルチコイルに含まれる一部のコイルを用いて磁気共鳴信号を抑制する領域に飽和パルス照射し、マルチコイル全体で磁気共鳴信号を発生させるためのRFパルスを送信する。例文帳に追加

In the MRI apparatus, a part of coils included in a multicoil is used to irradiate an area for suppressing magnetic resonance signals with saturation pulses, wherein a whole of multicoil transmits RF pulses for generating magnetic resonance signals. - 特許庁

例文

スキャナが、レーザ光源から出射されたパルスレーザビームが被照射物の表面上を移動するように、パルスレーザビームの進行方向を変化させる。例文帳に追加

A scanner varies a travelling direction of a pulsed laser beam emitted from a laser light source so that the beam moves on the surface of a workpiece. - 特許庁

放射源13は、時間軸上に順に配列された第1〜第5のフレームにおいて対象物に照射される第1〜第5のパルスP_T1〜P_T5の列を放射パルスとして提供する。例文帳に追加

A radiation source 13 provides a row of first-fifth pulses P_T1-P_T5 irradiated on an object on first-fifth frames arranged on a time axis in order as radiation pulses. - 特許庁

このため、連続する走査周期Tの間で各走査周期Tにおけるパルス光の出射タイミングに、パルス光の照射周期tよりも短い時間Δt(本実施の形態ではΔt=t・1/2)分のずれが生じる。例文帳に追加

Therefore, at the emit timing of a pulse beam in each scanning cycle T during the consecutive scanning cycles T, shift for a time ▵t (▵t=t×1/2) shorter than the irradiation period t of the pulse beam is caused. - 特許庁

また、レーザパルス光エネルギーは、二つのレーザパルス光L1,L2が単位面積(1cm^2)に照射したエネルギーの合計が100〜300Jであることが望ましい。例文帳に追加

Also, for laser pulse light energy, it is desirable that the total of the energy with which a unit area (1 cm^2) is irradiated by the two laser pulse lights L1 and L2 is 100 to 300J. - 特許庁

パルス幅が10^-12秒以下である超短パルスレーザー照射により、構造が変化した部位を有するプラスチック構造体を作製する加工に適したプラスチック材料を提供する。例文帳に追加

To provide a plastic material suitable for such processing that the plastic material is irradiated by the ultrashort pulse laser having a pulse width of10^-12 sec so as to prepare a plastic structure (structural part) having an area of which the structure (induced structure) is changed. - 特許庁

エネルギービームをマルチパルス化して記録媒体に照射する事により記録マークを形成する情報記録装置において、中間パルスの平均パワーを測定し、これを所定の値に設定する。例文帳に追加

In an information-recording apparatus which forms a recording mark, by irradiating a recording medium with a multi-pulse energy beam, the mean power of the intermediate pulse is measured and set at a prescribed value. - 特許庁

テラヘルツ光発生器5から発生したテラヘルツパルス光L6を試料Sに照射し、試料Sを透過したテラヘルツパルス光L8の電場強度の時間的変化をテラヘルツ光検出器8により検出する。例文帳に追加

A sample is irradiated with terahertz pulse light L6 generated in a terahertz light generator 5, so as to detect a time-serial change with time of intensity in an electric field of a terahertz pulse light L8 transmitted through the sample S by a terahertz light detector 8. - 特許庁

次に、1つの加工点当たり1ショットのみが入射する条件で、第1の照射工程でパルスレーザビームが入射した複数の加工点に、順次パルスレーザビームを入射させて穴あけ加工を行う。例文帳に追加

Thereafter, the drilling is performed by sequentially making the pulse laser beam incident, under a condition that only one shot is made incident on every machining spot, on a plurality of machining spots on which the pulse laser beam is made incident in the first irradiation process. - 特許庁

この所定温度加熱期間にパルスYAGレーザ6からパルス光を試料5の裏面に照射し、表面の温度変化から試料5の熱拡散率を測定する。例文帳に追加

The back of the sample 5 is irradiated with pulsed light from a pulse YAG laser 6 in a heating period at the prescribed temperature, and the thermal diffusibilty of the sample 5 is measured from the change of the surface temperature. - 特許庁

アンテナ76は、テラヘルツパルス光を試料100の2次元領域に一括照射し、その透過パルス光を電気光学結晶81の2次元領域が一括受光する。例文帳に追加

An antenna 76 collectively radiates the terahertz pulse light to the two-dimensional area of a specimen 100, and the two-dimensional area of an electrochemical crystal 81 collectively receives the transmitted pulse light. - 特許庁

電気接続用溝6は間欠的に発光するパルス光を照射することによって形成されたものであり、前記パルス光は単位面積あたりのエネルギーが20000J/m^2以下である。例文帳に追加

The groove 6 for electric connection is formed by irradiating an intermittently luminescent pulse light, and the pulse light has energy of not more than 20,000 J/m^2 per unit area. - 特許庁

上記貫通孔26は、パルスエネルギEが8mJのレーザビーム50を3μsという短いパルス幅Bでサイクリックに照射することにより形成される。例文帳に追加

The through holes 26 are made by irradiating the ceramic green sheets cyclicly with a laser beam 50 having energy E of 8 mJ at a short pulse width B of 3 μs. - 特許庁

照明ユニット10は照射方向が異なる第1光源L1と第2光源L2とからなり、PWM制御部M1は第1光源L1に与える第1パルス信号S1をパルス幅変調方式で生成する。例文帳に追加

A lighting unit 10 comprises a first light source L1 and a second light source L2 having different irradiation directions and a PWM control part M1 produces a first pulse signal S1 given to the first light source L1 in a pulse width modulation system. - 特許庁

パルスレーザ光のショット数や照射面におけるパルスエネルギ密度等が過大になった場合でも、ビアホールの形状が悪化してしまうことを防止する。例文帳に追加

To provide a laser machining method capable of preventing the shape of a via hole from being degraded even when the number of shots of pulse laser beams, the pulse energy density on a surface of irradiation or the like becomes excessive. - 特許庁

(2)マークを記録する際に、全てのマークのパルス後端部以降のクーリングパルス照射光量を一定時間0.1mW以下にする(1)記載の記録再生方法及び装置。例文帳に追加

(2) In the recording/reproducing method and apparatus mentioned in (1), when the marks are recorded, an irradiation light quantity of a cooling pulse of the trailing edge and the rear part thereof of all marks is made to be ≤0.1 mW for a predetermined time. - 特許庁

反射測定部は、反射測定位置にセットされた試料にテラヘルツパルス光を照射し、当該試料を反射したテラヘルツパルス光を検出して反射光検出信号を出力する。例文帳に追加

A reflection measuring section irradiates a sample, which is set at a reflection measurement position, with terahertz pulse light, detects a portion of the terahertz pulse light reflected by the sample and outputs a reflected light detection signal. - 特許庁

ターゲット層に覆われる基板構造体の交換を不要とし、かつ高尖頭パワーの高繰り返しパルスレーザ光による集光照射でも連続して安定高平均出力のパルスX線を発生することができる。例文帳に追加

To generate pulse-form X-rays having a stably high mean output continuously even with condensed light irradiation using a high repetitive pulse laser beam having a high peak power wherein the replacement of a board structure covered with a target layer is made unnecessary. - 特許庁

ID設定スイッチ4cによって選択されたパルス系列(第1〜第nパルス系列のいずれか)で変調された光ビーム15を任意のロボットに向けて照射する。例文帳に追加

A modulated beam 15 is a pulse series (any of 1-th to n-th pulse series) that is selected by an ID setting switch 4c, is radiated to an arbitrary robot. - 特許庁

第2の光学系が、検出用電磁波のパルス面に対して、プローブ波のパルス面を傾斜させて、プローブ波を電気光学結晶に照射する。例文帳に追加

A second optical system irradiates the electro-optical crystal with a probe wave by inclining a pulse surface of the probe wave to the pulse surface of the electromagnetic wave for detection. - 特許庁

この時前記半導体膜に照射したパルスレーザ光の状態および前記半導体膜を透過したパルスレーザ光の状態を検出し、これから所定の半導体膜の結晶化状態が得られたか確認する。例文帳に追加

At this time, the state of the pulse laser light irradiating the semiconductor film and the state of pulse laser light transmitted through the semiconductor film are detected, and it is confirmed with them whether or not a specific crystallization state of the semiconductor film has been obtained. - 特許庁

透過測定部は、透過測定位置にセットされた試料にテラヘルツパルス光を照射し、当該試料を透過したテラヘルツパルス光を検出して透過光検出信号を出力する。例文帳に追加

A transmittance measuring section irradiates a sample which is set at a transmittance measurement position, with terahertz pulse light, detects a portion of the terahertz pulse light transmitted through the sample and outputs a transmitted light detection signal. - 特許庁

パルス発振するレーザを用いて複数回照射して複数の照射条件にてシリコン基板に穴あけ加工する際に、第一の照射条件におけるレーザ出力よりも第二の照射条件におけるレーザ出力を大きくすることで、効率よくかつ小さい穴径を確保する装置および方法を提供する。例文帳に追加

In drilling a silicon substrate by irradiating it with a pulsed laser beam more than one time under a plurality of irradiation conditions, the laser output of the second irradiation condition is made larger than that of the first, thereby enabling a small bore to be efficiently secured by the device and method. - 特許庁

本発明は、上記高アーク長期間HTcの全期間又は一部期間中には予め定めた高出力値HPw[W]のレーザを溶融池に照射し、それ以外の期間中は予め定めた低出力値のレーザを溶融池に照射するか又はレーザの照射を停止することを特徴とするレーザ照射アーク長揺動パルスアーク溶接方法である。例文帳に追加

This invention relates to the method of arc length oscillation pulse arc welding in which the laser of a predetermined high power value HPW [W] is irradiated to a molten pool during all or a part of the above high arc length period HTc, the laser of a predetermined low power value is irradiated to the molten pool or the laser irradiation is stopped during other periods. - 特許庁

非晶質半導体層を結晶化するための方法であって、半導体層の線状第1領域が放射パルス照射によって融解され、半導体層の線状第1領域の照射が少なくとも2つの連続する放射パルスを含み、2つの連続する放射パルスの強度極大の間の時間間隔が1000ns以下である。例文帳に追加

In the method for crystallizing an amorphous semiconductor layer melt by irradiation of at least two successive radiation pulses, the time interval between the strength maximums of the two successive radiation pulses is equal to or lower than 1000 ns. - 特許庁

光フィルターは、入射する光に共鳴する2準位を有する半導体11と、制御光である第1光パルス3および第2光パルス4を半導体11に照射して、半導体11の2準位を選択的に共鳴励起する制御光発生装置1と、信号光である第3光パルス5を半導体11に照射する信号光発生装置2を備える。例文帳に追加

The optical filter includes: a semiconductor 11 having two levels resonant to incident light; a control light generator 1 which irradiates the semiconductor 11 with a first light pulse 3 and a second light pulse 4 as control light to selectively resonantly excite two levels of the semiconductor 11; and a signal light generator 2 which irradiates the semiconductor 11 with a third light pulse 5 as signal light. - 特許庁

パルスレーザ光を出射する光源装置と、光源装置から発せられたパルスレーザ光を標本に照射し、標本において発せられた蛍光を観察する観察装置本体と、標本における観察面の深さに応じて、標本に照射するパルスレーザ光の光量を制御する制御装置とを備える多光子励起型観察装置を提供する。例文帳に追加

The multiple photon exciting type observation device includes a light source device for emitting a pulse laser beam, an observation device for irradiating a specimen with the pulse laser beam emitted from the light source device to observe the fluorescence emitted from the specimen and a control device for controlling the quantity of the pulse laser beam allowed to irradiate the specimen corresponding to the depth of the observation surface in the specimen. - 特許庁

レーザ加工装置10は、超短光のパルスレーザ光Lを出射するレーザ光源11と、レーザ光源から出射されたパルスレーザ光を加工対象物Wに収束させて照射する収束レンズ14と、外部信号に基づき加工対象物に照射にされるパルスレーザ光のレーザパワーを変更可能に設定するコントローラ12とを備える。例文帳に追加

A laser beam machining apparatus 10 is provided with: a laser beam source 11 emitting an ultra-short pulse laser beam L; a convergent lens 14 for convergently irradiating a workpiece W with the pulse laser beam emitted from the laser beam source; and a controller 12 for alterably setting the laser power of the pulse laser beam, with which the workpiece is irradiated, based on an external signal. - 特許庁

この切取り線の形成は、レーザービームを使用し、相対移動する熱収縮性フィルムに対し所定周期の基本発振パルスにおける所定のパルス発振を周期的に休止させた間欠パルス発振によるビーム照射を行なうことにより効率良く遂行される。例文帳に追加

The perforated line (1) is formed by irradiating a laser beam to a relatively moving heat shrinkable film by means of intermittent pulse oscillation made by periodically stopping the predetermined pulse oscillation in the predetermined fundamental oscillation pulse. - 特許庁

非単結晶半導体膜上にパルスレーザ光を照射してアニール処理を行うレーザアニール処理方法において、前記レーザ光のパルス波形の最大ピーク高さが所定の高さとなるように、前記パルスレーザ光のエネルギー制御を行う。例文帳に追加

A laser anneal processing method radiates pulse laser beams on a non-single crystal semiconductor film to perform anneal processing, wherein the pulse laser beams are energy-controlled such that the maximum peak height of pulse waveform of the laser beams reach a given height. - 特許庁

非線形ラマン分光装置の光照射部に、同一波長又は相互に異なる波長の短パルスレーザ光を発生する2つの光源を設けると共に、この光源の一方から出射される短パルスレーザ光を時間遅延させるパルス制御部を設ける。例文帳に追加

A light irradiation section of a nonlinear Raman spectroscopic apparatus is provided with two light sources to emit short-pulse laser light having the same wavelength or different wavelengths, and a pulse control section to time-delay the short-pulse laser light emitted from one of the light sources. - 特許庁

非線形結晶基板の被加工面に分割予定ラインに沿ってパルスレーザー光線を照射し、レーザー加工溝を形成する非線形結晶基板のレーザー加工方法であって、パルスレーザー光線は、パルス幅が200ps以下に設定され、繰り返し周波数が50kHz以下に設定されている。例文帳に追加

In the laser processing method of a nonlinear crystal substrate for forming laser processing grooves by irradiating the processed surface of a nonlinear crystal substrate with a pulse laser beam along the dividing lines, the pulse laser beam has a pulse width set to 200 ps or less, and a repetition frequency set to 50 kHz or lower. - 特許庁

真空容器内の高電圧が印加される電極間の一方の電極に時間幅の短いパルスレーザー光を照射して光電効果による光電子を陰極上に短時間に発生させ、これを陽極に衝突させて短パルスのX線を発生させることを可能とするパルスX線発生装置。例文帳に追加

An photoelectrons are generated on a negative pole by the photoelectronic for short time as a short time width of pulse laser beam is in irradiated to one electrode between electrodes applied with high voltage within a vacuum container, and they are collided against a positive pole to generate short pulse x-ray. - 特許庁

YAG−FHG(波長266nm)、パルス幅15n秒、ビーム径φ20μm、ビームプロファイルはガウシアン型のものを用い、フルエンス1.8μJ/パルス、1箇所当たりに1パルス照射を行い、ポリイミドフィルム表面に傾斜面を作成する。例文帳に追加

A laser beam transmitter uses YAG-FHG (wavelength 266nm), pulse width 15n second, beam diameter ϕ20μm, a Gaussian type beam profile, fluence 1.8μJ/pulse, and a single irradiation is performed to each place and the inclined face is created on the polyimide film surface. - 特許庁

第1の高周波磁場パルスを印加後に、所望の^1HとJ_HHカップリングした^1Hに対して第1の周波数選択照射パルスを印加して^1H間の多量子コヒーレンスを生成し、続いて第2の高周波磁場パルスを印加する。例文帳に追加

After a first high frequency magnetic pulse is applied, a first frequency selective irradiation pulse is applied to ^1H J_HH-coupled with desired ^1H to generate a multiple quantum coherence between ^1Hs, and a second high frequency magnetic pulse is successively applied. - 特許庁

パルスYAGレーザと連続波YAGレーザの合成出力比、パルス発振YAGレーザのパルス発振条件、それぞれの照射位置の間隔を最適化することによって薄手鋼板の突き合わせ溶接を無欠陥で安定に行う溶接方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for welding by which a butt welding of thin steel plates is stably performed without generating a defect by optimizing the resultant output ratio of a pulse YAG laser beam and a continuous wave YAG laser beam, the oscillation condition of the pulse YAG laser beam, and the distance between the irradiated positions with respective lasers. - 特許庁

第1の高周波磁場パルスを印加した後に、所望の^1Hと同核種スピン−スピン結合(J_HHカップリング)をした^1Hに対して第1の周波数選択照射パルスを印加して^1H間の多量子コヒーレンスを生成し、これに続いて第2の高周波磁場パルスを印加する。例文帳に追加

A primary high-frequency magnetic field pulse is applied, and then a primary frequency selecting projection pulse is applied to the hydrogen nucleus 1H being in the identical nucleus kind spin-spin coupling state (JHH coupling state) with a desired hydrogen nucleus 1H so as to generate the multi-quanta coherence. - 特許庁

X線の照射中のギャップ電圧は、従来のグリッド周波数をはるかに上回る周波数及びいわゆる一時的接触パルス周波数でパルス化されて、パルス化されたX線放射がもたらされるようになっている。例文帳に追加

Thus, the gap voltage 226 is pulsed during x-ray exposure resulting in a pulsed x-ray radiation 220, wherein the gap voltage is pulsed at a frequency well above traditional gridding and so-called primary contact pulsing frequencies during x-ray exposure resulting in a pulsed x-ray radiation. - 特許庁

31ns〜54nsのパルス幅で且つ7.5μm〜10μmのパルスピッチで、パルスレーザ光であるレーザ光Lを照射することにより、切断の起点となる改質領域7を切断予定ライン5に沿ってGaAs基板12に形成する。例文帳に追加

The modified region 7 to be a cut start point is formed on a GaAs substrate 12 along a planned cut line 5 by irradiating the processing object with a laser beam L, i.e., a pulsed laser beam with a pulse width of 31-54 ns and a pulse pitch of 7.5-10 μm. - 特許庁

当該レーザマーキング方法は、直接変調されたパルス光を出力する半導体レーザを種光源として使用したMOPA構造のパルス光源1から発振されるパルス光をマーキング対象物6に照射することで、マーキング対象物6にマーキングパターンを形成していく。例文帳に追加

In the laser marking method, a marking pattern is formed on a marking object 6 by irradiating the marking object 6 with pulsed light oscillated from a pulsed light source 1 of an MOPA structure in which a semiconductor laser outputting directly-modulated pulsed light is used as a seed light source. - 特許庁

例文

レーザ光のパルス照射により光記録媒体にテスト記録を行い、その結果に基づいて記録条件を決定する光情報記録媒体の記録方法において、記録パルス10のパワーとパルス幅を段階的に変化させてテスト記録を行う。例文帳に追加

In a recording method of an optical information recording medium in which recording condition is decided based on the result of test recording carried out to an optical recording medium by irradiation of pulse of a laser beam, test recording is performed by varying gradually power and pulse width of write pulse 10. - 特許庁

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