「供給プロセス」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

ウェハ処理装置１００は、ウェハ２００を載置する載置台である下部電極１１２と、周辺部をエッチングするプロセスガスを供給するプロセスガス導入管１２０と、ウェハ２００の中心部にプロセスガスが供給されるのを阻止するエッチング阻止ガスを供給する複数のエッチング阻止ガス導入管１１８ａ、１１８ｂ、１１８ｃ、および１１８ｃと、を含む。例文帳に追加

The wafer processing device 100 comprises a lower electrode 112 serving as a table for mounting a wafer 200, a process gas introduction tube 120 supplying process gas for etching the periphery, and a plurality of etching block gas introduction tubes 118a, 118b, 118c and 118d supplying etching block gas for blocking process gas supply to the central portion of the wafer 200. - 特許庁

ウェハ処理装置１００は、ウェハ２００を載置する載置台である下部電極１１２と、周辺部をエッチングするプロセスガスを供給するプロセスガス導入管１２０と、ウェハの中心部にプロセスガスが供給されるのを阻止するエッチング阻止ガスを供給するエッチング阻止ガス導入管１１８と、下部電極１１２上で、ウェハの位置合わせを行う可動式の位置合わせ機構１０２と、を含む。例文帳に追加

The wafer processing device 100 comprises a lower electrode 112 serving as a table for mounting a wafer 200, a process gas introduction tube 120 supplying process gas for etching the periphery, and an etching block gas introduction tubes 118 supplying etching block gas for blocking process gas supply to the central portion of the wafer, and a movable alignment mechanism 102 performing alignment of the wafer on the lower electrode 112. - 特許庁

流体で物体を搬送・供給する装置の搬送量・供給量の制御方法、ならびに、流体で物体を搬送・供給する装置、流体で物体を搬送・供給する装置を用いたプロセス制御装置例文帳に追加

CONTROL METHOD OF CONVEYING/SUPPORTING AMOUNT OF DEVICE FOR CONVEYING/SUPPORTING OBJECT WITH FLUID, DEVICE FOR CONVEYING/SUPPORTING OBJECT WITH FLUID, AND PROCESS CONTROL DEVICE USING THE DEVICE - 特許庁

生きている細胞の中に必ず存在する物質で、多くの代謝プロセスへのエネルギー供給に関わっており、さらにrnaの合成にも関与している。例文帳に追加

a substance present in all living cells that provides energy for many metabolic processes and is involved in making rna.  - PDQ®がん用語辞書 英語版

生きている細胞の中に必ず存在する物質で、多くの代謝プロセスへのエネルギー供給に関わっており、さらにrnaの産生にも関与している。例文帳に追加

a substance present in all living cells that provides energy for many metabolic processes and is involved in making rna.  - PDQ®がん用語辞書 英語版

共重合体、荷電制御剤、トナー、トナーの製造方法、トナー供給カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法例文帳に追加

COPOLYMER, CHARGE CONTROLLING AGENT, TONER, METHOD FOR PRODUCING TONER, TONER FEED CARTRIDGE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING METHOD - 特許庁

粗メチレンジアニリンを含むメチレンジアニリン供給原料の環水素化のための触媒プロセスにおける改良。例文帳に追加

To improve a catalytic process for the ring-hydrogenation of a methylenedianiline feed stock containing crude methylenedianiline. - 特許庁

リサイクルトナー分級装置及びそれを備えたプロセスカートリッジ、トナー自動供給装置及び画像形成装置例文帳に追加

RECYCLED TONER CLASSIFYING DEVICE, AND PROCESS CARTRIDGE, AUTOMATIC TONER SUPPLY DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE EQUIPPED THEREWITH - 特許庁

回収トナー分級装置及びそれを備えたプロセスカートリッジ、トナー供給装置及び画像形成装置例文帳に追加

RECOVERED TONER CLASSIFYING DEVICE, AND PROCESS CARTRIDGE, TONER SUPPLY DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE EQUIPPED WITH RECOVERED TONER CLASSIFYING DEVICE - 特許庁

新トナーボックス２５は、プロセスユニット３１に対して着脱可能に装着され、かつ現像装置２３に供給する未使用のトナーを収容する。例文帳に追加

The new toner box 25 is removably mounted to the process unit 31, and stores non-use toner supplied to the development apparatus 23. - 特許庁

さらにタングステン膜のＣＶＤプロセスによりビアホールを充填する際に、タングステンの気相原料と同時に水素ガスを供給する。例文帳に追加

Furthermore, when a via-hole is filled up with a tungsten film through a CVD process, hydrogen gas is supplied together with the vapor phase material of tungsten. - 特許庁

超高純度化学薬品を半導体製造プロセスへ供給することに適したイオン精製装置および方法を提供する。例文帳に追加

To provide an ion purifying apparatus and method suitable for supplying an ultrapure chemical reagent to semiconductor fabrication process. - 特許庁

供給ガスとして金属カルボニル先駆体（５２）及びＣＯを利用する堆積プロセスの初期化方法及びシステムについて説明する。例文帳に追加

A method and a system for initiating a deposition process utilizing a metal carbonyl precursor (52) and CO as a delivery gas is described. - 特許庁

潤滑剤均しブレード、並びに、これを用いる潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置例文帳に追加

LUBRICANT UNIFORMIZING BLADE, LUBRICANT SUPPLY DEVICE USING THE BLADE, PROCESS CARTRIDGE AND IMAGE FORMING APPARATUS - 特許庁

データベースシステム内において情報内容を更新し、次に、情報内容をフォーマット化してユーザに供給するプロセスは自動化される。例文帳に追加

A process for updating the information contents in the database system, and formatting and supplying the information contents to users is automated. - 特許庁

モジュールは、冷却水、圧縮空気、プロセス・ガス、信号、制御およびカソード電力を供給する働きをする。例文帳に追加

A module has the operation of feeding cooling water, compressed air, process gas, signals, control and cathode power. - 特許庁

供給蒸気圧力を安定させると共に長寿命な、蒸気タービンを利用したプロセス蒸気の制御装置を得ること。例文帳に追加

To provide a control device of process steam utilizing a steam turbine with long life stabilizing a feeding steam pressure. - 特許庁

保護剤供給部材、並びに、保護層形成装置、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ例文帳に追加

PROTECTANT SUPPLY MEMBER, PROTECTIVE LAYER FORMING DEVICE, IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING APPARATUS, AND PROCESS CARTRIDGE - 特許庁

超高純度化学薬品の半導体製造プロセスへの供給に適したイオン精製装置および方法が提供される。例文帳に追加

The invention provides an ion purifying apparatus and method suitable for supplying an ultrapure chemical reagent to a semiconductor manufacturing process. - 特許庁

第２のプロセスでは、ソフトシンボルが４〜２０４８ＰＮチップの範囲のシンボル期間で選択的に供給される。例文帳に追加

In the second process, a soft symbol is supplied selectively in a symbol period in a range of 4 to 2048 PN chips. - 特許庁

純水製造プロセスにおいて、イオン交換体の再生処理操作なしで、理論純水に匹敵する高純度の脱イオン水を供給する。例文帳に追加

To supply high purity deionized water equal to theoretically pure water without the regenerating operation of an ion exchange body in a pure water production process. - 特許庁

蒸気供給管１に蒸気流量計８と蒸気制御弁２を取り付けてプロセス蒸気管３と接続する。例文帳に追加

A steam supply pipe 1 is equipped with a steam flowmeter 8 and a steam control valve 2 and is connected to a process steam pipe 3. - 特許庁

複雑なプロセスを増やしていない回路設計方法を用いて高いデータ保持力と耐久性を供給する。例文帳に追加

To provide high data holding force and durability by using a circuit design method with no complicated process increased. - 特許庁

対流部を用いることなく、反応管に供給されるプロセス流体の温度を高めることができる水蒸気改質炉を提供する。例文帳に追加

To provide a steam reforming furnace capable of raising the temperature of a process fluid which is supplied to a reactor tube without using a convection part. - 特許庁

潤滑剤の飛散が確実に抑止される、潤滑剤供給装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device, a cleaning device, a process cartridge, and an image forming apparatus that surely suppress scattering of lubricant. - 特許庁

プロセスユニットから分離する任意の装置の位置決機構と電力供給構造を簡単にすることができることを課題とする。例文帳に追加

To facilitate a positioning mechanism and power supply structure of an optional device to be separated from a process unit. - 特許庁

半導体プロセスに供給する液体蒸気にミストが混在する問題を単一の気化装置で解決する。例文帳に追加

To solve the problem of mixing of mist in a liquid vapor fed to a semiconductor process by the use of a single vaporization apparatus. - 特許庁

制御部が像担持体１２のプロセススピードに基づいて放電ワイヤー３２へ供給する電流量を変更する。例文帳に追加

A control part changes an amount of current to be supplied to a discharge wire 32 based on the processing speed of the image carrier 12. - 特許庁

事前に製造された真空絶縁パネル１２２の供給から始まるプロセスにおいて、真空絶縁パネルの形状を変更する。例文帳に追加

The method changes the shape of the vacuum insulation panel in the process that starts from the feeding of the preliminarily manufactured vacuum insulation panel 122. - 特許庁

有機植物原料の膨張および乾燥プロセスの効率、特にジェットドライヤーにおける効率を改善するための方法および供給装置例文帳に追加

METHOD AND FEEDER FOR IMPROVING EFFICIENCY OF EXPANDING AND DRYING PROCESS OF ORGANIC PLANT MATERIAL, PARTICULARLY IN JET DRIER - 特許庁

プリプロセス後、画像信号は走行方向検出回路１４に供給され、関心領域毎の走行方向とその強さが検出される。例文帳に追加

After pre-processing, the image signal is fed to a running direction detection circuit 14 and detects the running direction and its strength by each concerned area. - 特許庁

本プロセスにおいて、液化すべき天然ガスストリームを部分的に冷却し、中間圧力に膨張させて、蒸留カラムに供給する。例文帳に追加

In this process, as shown in Fig.3, a natural gas stream to be liquefied is partially cooled, expanded into intermediate pressure, and supplied to a distillation column 19. - 特許庁

プロセスガス２１は、ガス供給口１６から導入され、ガス排気口１７から吸引により排気される。例文帳に追加

Process gas 21 is introduced from the gas feed opening 16, and is exhausted by suction from the gas exhaust opening 17. - 特許庁

処理部への薬液供給、および処理部からの排気、排液の際にプロセスに悪影響を及ぼさない塗布膜形成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a coating film formation apparatus which does not affect a processing, when a processing part is supplied with a chemical liquid, or gas and liquid are discharged from the processing part. - 特許庁

プロセス結果に悪影響を及ぼす処理ガス供給周期パターンを予め変更しておき、基板に対する適切な処理を行う。例文帳に追加

To perform proper processing of the substrate by previously changing a process gas supply periodic pattern which may adversely affect the processing result. - 特許庁

本発明は、化学薬品をプロセス液体流に供給するための方法及び装置に関するものである。例文帳に追加

The present invention relates to a method and an apparatus for feeding chemicals into a process liquid flow. - 特許庁

供給されるプロセスガスの流量に関わらず運転を行うことができるガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a gas treatment device enabling operation regardless of a flow rate of supplied process gas. - 特許庁

供給側バッファ領域１０１で待機するワーク２を長さ方向移動機構３４でプロセス領域１０２へ移動可能に構成する。例文帳に追加

The length-directional moving mechanism 34 is configured to move the workpiece 2 standing by in the supply-side buffer region 101, to the process region 102. - 特許庁

以下の工程を含む、乳汁または乳清の供給流に由来する商業用ミネラル乳清製品の製造のためのプロセスを提供する。例文帳に追加

To provide a process for the production of a commercial mineral whey product derived from a feed stream of milk or whey, the process including the following steps. - 特許庁

このプロセスでは、高純度二酸化炭素の供給原料が容器に充填され、少なくとも部分的に凝固される。例文帳に追加

In the process, a high purity carbon dioxide feed is charged to a vessel and at least partially solidified. - 特許庁

バイアス電流発生器は、供給電源や工程プロセス、動作温度の変化と関係なく、安定的で一定であるバイアス電流を生成する。例文帳に追加

A bias current generator generates a reliable and consistent bias current, irrespective of variation in supplied power, process and operation temperature. - 特許庁

供給用現像剤ボックス４２は、プロセスカートリッジ４０に対して着脱自在に装着されている。例文帳に追加

A supply developer box 42 is freely attachably/detachably attached to a process cartridge 40. - 特許庁

画像形成装置１００は、媒体供給部７００と、第１および第２プロセス部３００、４００と、転写部５００とを備える。例文帳に追加

The image forming apparatus 100 is equipped with a medium supply part 700, the first and the second processing parts 300 and 400, and the transfer part 500. - 特許庁

次いで、基板１５の周囲を一定の圧力に保持した状態でチャンバ内にプロセスガスを供給する。例文帳に追加

Next, a process gas is fed inside the chamber in a state where the pressure around the substrate 15 is held to the fixed one. - 特許庁

マニホールドブロックを小スペース化し、ユニット全体を小型化したプロセス供給ユニットを提供すること。例文帳に追加

To provide a process gas supply unit reducing a space of a manifold block and miniaturizing the whole of unit. - 特許庁