「供給プロセス」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ガス供給管６１によってプロセスチューブ２２内に供給されるプロセスガスを、ヒータ６２によって加熱して、半導体ウェハＷを迅速に加熱する。例文帳に追加

A heater 62 heats a process gas supplied into a process tube 22 by a gas supply pipe 61 to heat the semiconductor wafer W quickly. - 特許庁

第１流体出口は、プロセス流体の流れの第１の所定の部分を供給し、少なくとも１つの第２流体出口は、プロセス流体の流れの残りの部分を供給する。例文帳に追加

The first fluid outlet provides a first predetermined portion of the flow of the process fluid, and at least one second fluid outlet provides the remaining portion of the flow of the process fluid. - 特許庁

コンパクトで軽量なプロセスガス供給ユニットであって、各バリエーションに対応したモジュールの載せ替えが可能な、プロセスガス供給ユニットの載せ替えシステムを提供すること。例文帳に追加

To provide a remounting system of a process gas supply unit capable of remounting a module corresponding to each variation, in the process gas supply unit compact and in light weight. - 特許庁

製造装置１０は、棚段状のウエハポート１８に複数のシリコン基板２０が配置され、プロセスガス供給管２４から反応管１２の上方に向けてプロセスガスが供給される。例文帳に追加

In the manufacturing system 10, a plurality of silicon substrates 20 are arranged on a shelf-like wafer port 18, and a process gas is fed upward above a reactive tube 12 from a process gas feeding tube 24. - 特許庁

生産プロセス構築方法及びそのシステム、生産システムモデル作成方法、生産プロセス情報提供方法及びそのシステム、生産装置供給方法、並びに生産システム供給方法例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR BUILDING PRODUCTION PROCESS, PRODUCTION SYSTEM MODEL PRODUCTION METHOD, METHOD AND SYSTEM FOR SUPPLY OF PRODUCTION PROCESS INFORMATION AND SUPPLY METHOD OF PRODUCTION DEVICE AND SYSTEM - 特許庁

また、処理室に当該処理室を減圧する減圧機構、およびプロセスガスを供給するプロセスガス供給機構が設けられていることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, an evacuation mechanism for evacuating the treatment chamber and a process gas supply mechanism for supplying process gas are installed in the treatment chamber. - 特許庁

さらに、誘電体４ａと接して、搬送路９の上流側には電極間に第２プロセスガスを供給するガス供給部１０ｂ、下流側には第２プロセスガス１２ｂを排気するガス排気部１１ｂが設置される。例文帳に追加

Furthermore, in contact with the dielectric 4a, the gas supplying part 10b to supply a second process gas between the electrodes is installed at the upstream side of the conveyance passage 9 and the gas exhaust part 11b to exhaust a second process gas 12b is installed at the downstream side. - 特許庁

そして、プロセス管理装置１００は、受け付けられた供給資源情報が表す供給資源が、受け付けられた要求資源情報が表す要求資源に対して不足しているプロセスを特定する。例文帳に追加

Then the process management device 100 specifies the process in which supply resources expressed by the received supply resource information run short to the requesting resources expressed by received requesting resource information. - 特許庁

製造装置１０は、棚段状のウエハポート１８に複数のシリコン基板２０が配置され、プロセスガス供給管２４から反応管１２の上方に向けてプロセスガスが供給される。例文帳に追加

In the manufacturing apparatus 10, a plurality of silicon substrates 20 are mounted on a stepped wafer port 18, and the process gas is fed from a gas feeder tube 24 toward the upper part of a reactive tube 12. - 特許庁

再熱器を有するボイラの主蒸気系統から工場設備へプロセス用蒸気を供給するにあたり、当該ボイラの圧力変動を抑制することで、プロセス用蒸気の供給制限を従来よりも緩和する。例文帳に追加

To relax a limit on supply of steam for processing in comparison with a conventional case, by suppressing pressure fluctuation of a boiler in supplying the steam for processing from a main steam system of the boiler having a reheater to factory equipment. - 特許庁

従来に較べてプロセスガス供給の応答性を向上させることができ、原料の有効利用を図ることのできる成膜装置及び成膜方法及びプロセスガスの供給方法を提供する。例文帳に追加

To provide a film deposition apparatus, a film deposition method and a method for feeding process gas, wherein the responsibility in the feed of process gas can be improved compared with the conventional case, and the effective utilization of a raw material can be attained. - 特許庁

第１流体出口は、プロセス流体の流れの第１の所定の部分を供給し、少なくとも１つの第２流体出口は、プロセス流体の流れの残りの部分を供給する。例文帳に追加

The first fluid outlet supplies a first predetermined part of a flow of a process fluid, and at least one second fluid outlet supplies a residual part of the flow of the process fluid. - 特許庁

像担持体に対する供給量を確保し安定するようにするための像担持体保護剤、これをかかる像担持体に供給する保護剤供給装置、これを備えたプロセスカートリッジ、かかる保護剤供給装置またはプロセスカートリッジを備えた画像形成装置、これら保護剤供給装置またはプロセスカートリッジまたは画像形成装置を用いた画像形成方法の提供。例文帳に追加

To provide an image bearing member-protecting agent which can be consistently supplied to an image bearing member in a sufficient amount, a protecting agent supplying device which supplies an agent to an image bearing member, a process cartridge including the supply device, an image forming apparatus including the protecting agent supplying device or the process cartridge, and an image forming method using the protecting agent supplying device, the process cartridge or the image forming apparatus. - 特許庁

第２の供給手段４６は、誘電体部材４０の空洞４０ａ内にプラズマ処理用の第２のプロセスガスを供給する。例文帳に追加

The second supply means 46 supplies a second process gas for plasma processing into the cavity 40a of the dielectric member 40. - 特許庁

供給系の配管閉塞が生じることなく、プロセスガスの安定供給が可能な薄膜製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thin-film manufacturing device capable of stably supplying a process gas without causing piping choking of a supply system. - 特許庁

この清浄ガス供給システムＦＵは、可動に取付けてあるので、プロセスのどの段階でも清浄ガスＧを供給しないことはない。例文帳に追加

Since the clean gas feed unit FU is movably attached, the clean gas G can be supplied in every steps in processes. - 特許庁

脂肪酸の亜鉛塩と窒化ホウ素を含む像担持体保護剤を、所期の目的を達する適切な量で像担持体に供給する保護剤供給装置、これを備えたプロセスカートリッジ、かかる保護剤供給装置またはプロセスカートリッジを備えた画像形成装置、これら保護剤供給装置またはプロセスカートリッジまたは画像形成装置を用いた画像形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a protective agent supply device that supplies an image carrier protective agent containing zinc salt of fatty acids and boron nitride to an image carrier by an amount suitable for attaining an expected object, and to provide a process cartridge with the same, an image forming apparatus with the protective agent supply device or process cartridge, and to provide an image forming method which employs these protective agent supply device, process cartridge or image forming apparatus. - 特許庁

現像剤担持体が感光体に対して遊動しても、現像バイアスを安定して供給することのできる、プロセスユニット、そのプロセスユニットを装備する画像形成装置、さらには、そのプロセスユニットに装備される現像カートリッジを提供すること。例文帳に追加

To provide a process unit which can stably supply a developing bias even if a developer carrier is freely moved relative to a photoreceptor; to provide an image forming apparatus equipped with the process unit; and to provide a developing cartridge loaded to the process unit. - 特許庁

再生プロセスでは、アルカリ金属塩の水溶液を供給して陽イオン交換樹脂床を再生する一方で、再生プロセス後の改質プロセスでは、原水Ｗ１を除鉄処理及び酸添加処理することなく、陽イオン交換樹脂床に対する線速度を５〜６０ｍ／ｈに設定して通水する。例文帳に追加

In the regeneration process, the resin bed is regenerated by supplying the aqueous solution of an alkali metal salt, and in the modification process after regeneration, the linear velocity to the resin bed is set to be 5-60 m/h to make water to flow without the deironing and acid addition treatments. - 特許庁

画像形成装置は、例えば、画像形成装置に対して着脱自在に装着されるプロセスカートリッジと、プロセスカートリッジに備えられる高圧回路と、プロセスカートリッジに備えられ、少なくとも高圧回路に電力を供給する電源装置とを含む。例文帳に追加

The image forming apparatus includes, for example: the process cartridge freely loaded in and unloaded from the image forming apparatus; a high-voltage circuit provided to the process cartridge; and a power unit which is provided to the process cartridge and supplies electric power to at least the high-voltage circuit. - 特許庁

本発明の処理方法は、チャンバー３０内にプロセスガスを所定流量で供給し、チャンバー３０内でウエハＷを処理する際、プロセスガスでウエハＷを処理する度毎にプロセスガスの流量を診断する。例文帳に追加

In this processing device, when process gas is supplied into a chamber 30 at a prescribed flow rate and a wafer W is processes in the chamber 30, the flow rate of the process gas is diagnosed at every processing time of the wafer W by the process gas. - 特許庁

そのため、気流緩和部材１５によってプロセスチューブ１１内におけるガスの急激な流れが緩和され、ガス導入管１２からプロセスチューブ１１内に供給されたガスはプロセスチューブ１１内を緩やかに流れて排気ポート１４から排出される。例文帳に追加

A rapid flow of gas is relaxed inside the process tube 11 due to the existence of the air flow relaxing member 15, and a gas supplied into the process tube 11 through a gas introduction pipe 12 is allowed to flow gently inside the process tube 11 and is exhausted through an exhaust port 14. - 特許庁

ＣＶＤプロセス中のプロセスガスの供給が、製造、組立て、補修を簡単な、経費がかからない組立体によって行うことができ、さらにプロセス空間内の全ての表面の適切な温度制御を維持しながら行うことができる。例文帳に追加

To deliver process gas in a CVD process with an assembly which is simple and inexpensive to fabricate, assemble and maintain, and to deliver CVD process gas while maintaining adequate temperature control of all the surfaces within a process space. - 特許庁

再生プロセスでは、アルカリ金属塩の水溶液を供給して陽イオン交換樹脂床を再生する一方で、再生プロセス後の改質プロセスでは、原水を除鉄処理及び酸添加処理することなく、陽イオン交換樹脂床に対する線速度を５〜６０ｍ／ｈに設定して通水する。例文帳に追加

In the regeneration process, an aqueous solution of an alkali metal salt is supplied to regenerate the cation exchange resin bed, while in the reforming process after the regeneration process the raw water is passed by setting the linear velocity for the cation exchange resin bed to 5-60 m/h without iron removal treating and acid addition treating. - 特許庁

水処理プロセスハイブリッド水質計測装置は、水処理プロセスモデルを構築する水処理プロセスモデル供給手段４と、所定の計測可能水質要素の特性を計測する水質計測手段１１、１２、１３とを備えている。例文帳に追加

This hybrid water quality measuring device for water treatment process is provided with a water treatment process model supplying means 4 constituting a water treatment process model and water quality measuring means 11, 12, 13 measuring the characteristics of the prescribed measurable water quality element. - 特許庁

前記原流体及び前記プロセス流体に含まれる最低沸点流体成分の蒸気圧以上の圧力下で、前記マイクロプロセス系内に前記原流体を供給しつつ前記プロセス流体を微小流路２１外に移送する。例文帳に追加

The raw fluid is supplied into the micro process system under pressure of a steam pressure or more of the lowest boiling point fluid component contained in the raw fluid and the process fluid, and at the same time, the process fluid is transported to the outside of the microchannel 21. - 特許庁

ガス供給配管（プロセスチューブと液化ガスボンベ間）に真空ポンプを設け、液化ガスボンベから強制的にガスを送引することで、ガス供給配管内やプロセスチューブ内における液化ガスの流量を一定に安定して供給する。例文帳に追加

The gas supplying pipeline (between a process tube and a liquified gas cylinder) is provided with a vacuum pump to forcibly send out and draw in gas from and into the liquified gas cylinder, resulting in supplying liquified gas in the gas-supplying pipeline and in the process tube stably at a constant flow rate. - 特許庁

本体は、収容されたトナーを消費してトナー画像を形成するプロセスカートリッジ、及び、プロセスカートリッジにトナーを供給するためのトナーカートリッジを装着可能である。例文帳に追加

The body can be mounted with a process cartridge for forming a toner image by consuming the stored toner and a toner cartridge for supplying the toner to the process cartridge. - 特許庁

したがって、本発明は、炭化水素質製品７０を製造する統合されたプロセス及びこのプロセスから供給される主として窒素を含有するブランケット剤のこれらの製品の輸送における使用に関する。例文帳に追加

Accordingly, there are also provided integrated processes for producing hydrocarbonaceous products 70 and the use of a primarily nitrogen containing blanketing agent supplied from the process in shipping the products. - 特許庁

そして、レシピ補正部は補正値演算部が出力する補正値に基づいてプロセス装置に供給するレシピを補正してプロセス装置へ送信する。例文帳に追加

Then, a recipe correction part corrects a recipe to be supplied to the process apparatus based on the correction value output from the correction value calculation part and transmits the corrected recipe to the process apparatus. - 特許庁

酸素（Ｏ_２；２２）は、プロセスガスの全流量の少なくとも１％、好ましくは少なくとも２％になる流量で、スプレー中にプロセスチャンバー（１２）に供給される。例文帳に追加

During the spraying, oxygen (O2; 22) is supplied to the process chamber (12) in an amount of at least 1%, preferably at least 2%, of the whole amount of the process gas flow. - 特許庁

プロセス定義ファイルで記述された定義に従った画像データの送信時にエラーが発生した場合に、該プロセス定義ファイルの供給元に対してエラーの発生を通知する仕組みを提供する。例文帳に追加

To provide a system for notifying occurrence of an error to a supply source of a process definition file when the error occurs upon transmission of image data following a definition described in the process definition file. - 特許庁

プロセス・ガスの供給、排出、パージが可能であり、単一のガス取扱装置で複数のプロセス・ガスを取扱い可能なガス取扱装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a gas handling apparatus by which a process gas can be supplied, discharged and purged and in which a plurality of process gases can be handled by a single gas handling apparatus. - 特許庁

余剰汚泥の可溶化プロセスと、汚泥中のエネルギーを回収するプロセスを組合せ、外部からエネルギーを供給することなく汚泥を可溶化することができる余剰汚泥の処理方法を提供すること。例文帳に追加

To part a method of treating excess sludge which is capable of solubilizing sludge without supplying energy from outside by combining a solubilizing process for the excess sludge and a process for recovering the energy in the sludge. - 特許庁

水素の製造プロセスを、原料の供給、水素の製造、炭酸ガス吸収物質の再生と循環、エネルギーの発生と消費等の種々の角度から検討し、製造効率の良い水素の製造プロセスを提供する。例文帳に追加

To provide a production process of hydrogen of good production efficiency, investigating the process from various aspects, such as supply of feed, production of hydrogen, regeneration and recycling of a carbon dioxide absorbent, generation and consumption of energy, etc. - 特許庁

２５回のプロセスレシピ制御中に、タイマにより、ウエハへの薬液の供給の停止から次回のプロセスレシピ制御の開始までの時間が計測される。例文帳に追加

During the 25 times of the process recipe control, the period of time from the stop of the supply of a chemical solution to the wafer to the start of the next process recipe control is measured by a timer. - 特許庁

電源ユニット２からの電力の供給をプロセスカートリッジ１０にのみ遮断する電源スイッチ５を、電源ユニット２とプロセスカートリッジ１０との間に設ける。例文帳に追加

A power source switch 5 for stopping supply of power from a power source unit 2 only to the process cartridge 10 is disposed between the power source unit 2 and the process cartridge 10. - 特許庁

従来型Ｔａｙｌｏｒ渦リアクタの不均一撹拌の問題、目詰まりの問題の解決、および、被プロセス材供給、プロセス後材排出の効率化を実現する。例文帳に追加

To solve the uneven agitation problem and the clogging problem of the conventional Taylor vortex reactor and to increase efficiency in supplying a material to be processed or in discharging a processed material. - 特許庁

また、回転対称体の径が回転対称軸方向に漸次単調減少または漸次単調増加している構成で被プロセス材供給、プロセス後材排出を効率化した。例文帳に追加

The diameter of a rotationally symmetric body is decreased or increased gradually and monotonously in the axial direction of rotational symmetry to increase the efficiency in supplying the material to be processed or in discharging the processed material. - 特許庁

プロセスカートリッジの交換作業性を損なうことなく、像担持体間の平行度を保つ行とが出来るプロセスカートリッジを供給すると共に、それにより色ずれの少ない画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To supply a process cartridge capable of maintaining parallelism between image carriers without spoiling replacement work efficiency of the process cartridge and to provide an image forming apparatus which has small color slurring. - 特許庁

ドーピング化合物がプロセスガスとしてポリシリコンの化学気相蒸着の際に添加され、そのプロセスガスへの供給が気相蒸着の終了近くで停止され、その結果非ドープのシリコンからなる境界層が析出される。例文帳に追加

As a result, a boundary layer made of a nondoped silicon is deposited. - 特許庁

電源用デバイス１は、バイポーラプロセスにより製造された制御用ＩＣ３とＭＯＳプロセスにより製造された電力供給用素子４のチップ端同士を密着させてリードフレーム２上にダイボンディングしている。例文帳に追加

In a power source device 1, a control IC 3 manufactured by a bipolar process and a power supply element 4 manufactured by an MOS process are die-bonded on a lead frame 2 so that their chip ends are close to each other. - 特許庁

全プロセスに必要な水量を獲得し、全プロセスに利するように水を改質に供給できる高温燃料電池を有するプラントを提供する。例文帳に追加

To provide a plant having high-temperature fuel cells, capable of acquiring the amount of water necessary for a plant and supplying water for reforming so as to benefit all the processes. - 特許庁

プロセス１−２３からのプロセス信号はインタフェース１−２２、取込み部１−１９、演算部１−２０に供給し、演算結果をデータ保持部１−１８で記憶する。例文帳に追加

A process signal from a process 1-23 is supplied to an interface 1-22, a taking in part 1-19, and a calculating part 1-20, and a calculation result is stored in the data storing part 1-18. - 特許庁

チャンバ３と、原料ガス８をガス供給部１１に導入するプロセス配管５と、プロセス配管５の少なくとも一部を加熱するテープヒータ２１とを備える。例文帳に追加

The CVD system includes a chamber 3, process piping 5 for introducing a raw material gas 8 into a gas supply part 11, and a tape heater 21 for heating at least a portion of the process piping 5. - 特許庁