「供給プロセス」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

超純水を使用する目的の異なる複数のウェットプロセスを含む電子部品部材類製造装置における水処理システムにおいて、前記目的の異なる複数のウェットプロセスに対し、各々独立して超純水をそれぞれ最適なグレードの超純水として供給する複数の超純水供給系を有することを特徴とする電子部品部材類製造装置用水処理システム。例文帳に追加

The subject water treating system for a manufacturing device of the electronic parts and members possesses a plurality of ultrapure water supplying systems each supplying independent ultrapure water as ultrapure water of an optimum grade to a plurality of wet processes different in purpose in the water treating system for the manufacturing device of the electronic parts and members including a plurality of wet processes different in purpose of using ultrapure water. - 特許庁

成膜プロセスは、供給する有機金属材料を化学反応させるのに必要な量未満の酸素を供給して成膜する低酸素処理と、その後に化学反応させるのに必要な量以上の酸素を供給して成膜する高酸素処理と、を含む。例文帳に追加

The film deposition process includes a process of low oxygen treatment for depositing a film by supplying oxygen smaller than an amount required for causing the chemical reaction of the supplied organic metal material, and high oxygen treatment for depositing a film by supplying oxygen more than an amount required for causing the chemical reaction subsequently. - 特許庁

経時においても像担持体に供給する潤滑剤が不足することなく、常に安定して均一に像担持体上に潤滑剤を供給することができる、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device that constantly supplies lubricant on an image carrier in a stable and uniform manner without experiencing shortage of lubricant for supplying on an image carrier over periods of time, a process cartridge, and an image forming apparatus. - 特許庁

経時においても像担持体に供給する潤滑剤が不足することなく、常に安定して均一に像担持体上に潤滑剤を供給することができる、加圧機構、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a pressuring mechanism, a lubricant supply device, a process cartridge, and an image forming apparatus that constantly supply lubricant on an image carrier in a stable and uniform manner without experiencing shortage of lubricant to be supplied on an image carrier over periods of time. - 特許庁

酸素と水分を嫌う製造プロセスを行うクリーンルームにおいて、クリーンドライエア（ＣＤＡ）を供給する供給設備の効率のよい運用を図り、不活性ガスでパージしている状態から、ＣＤＡの供給への切り替えを迅速に行なう。例文帳に追加

To effectively use a supply facility supplying clean dry air (CDA) and promptly perform switching from a purged state by inert gas to supply of the CDA, in a clean room performing a manufacturing process avoiding oxygen and moisture. - 特許庁

本プロセスを実行する装置１０は、処理物質を供給するための前処理ステーション、パルプ用に設計されたパルプ供給装置６０、パルプ及び泡状懸濁液用に設計されたパルプ供給装置、及び／又は減圧コンベヤーを有する繊維分離ステーション１００を備えることができる。例文帳に追加

The apparatus 10 for carrying out the process may include a pretreatment station for supplying the treatment substance, a pulp feed device 60 designed for pulp, a pulp feed device designed for pulp and foam suspensions, and/or a fiber separation station 100 having a vacuum conveyor. - 特許庁

本プロセスを実行する装置は、処理物質を供給するための前処理ステーション、パルプ用に設計されたパルプ供給装置６０、パルプ及び泡状懸濁液用に設計されたパルプ供給装置、及び／又は減圧コンベヤーを有する繊維分離ステーション１００を備えることができる。例文帳に追加

The apparatus for carrying out the process may include a pretreatment station for supplying the treatment substance, a pulp feed device 60 designed for pulp, a pulp feed device designed for pulp and foam suspensions, and/or a fiber separation station 100 having a vacuum conveyor. - 特許庁

硫黄及び炭化水素を含有するプロセス流れを、コバルトモリブデン触媒を有する複数の段を組み込んでいる多段水素処理反応器に供給する、水素添加方法。例文帳に追加

This hydrogenating method comprises supplying the sulfur- and hydrocarbon-containing hydrocarbon stream to a multi-stage hydrogenation reactor incorporating separate stages of cobalt molybdenum catalysts. - 特許庁

式（Ｉ）の化合物は、金属硫化物又は二硫化物のようなスルフィド供給源のアルキルグリシジルエーテルとの反応を含むプロセスによって製造され得る。例文帳に追加

The compound of formula (I) can be produced by a process including the reaction of a sulfide source such as a metal sulfide or disulfide with an alkyl glycidyl ether. - 特許庁

該電極は、プロセスガスを受け入れるガス供給マニホールドと、該電極３２１０に対して軸方向に延びる複数の圧力低下円筒形オリフィスとを含む。例文帳に追加

The electrode includes a gas supply manifold for receiving process gas and a plurality of pressure-dropping cylindrical orifices extending axially relative to the electrode 3210. - 特許庁

プロセスの再現性に優れるとともに、フッ化水素ガスを長期間安定して処理容器内に供給することが可能なガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a gas processing apparatus that is superior in reproducibility of process and capable of supplying hydrogen fluoride gas stably into a processing container over a long term. - 特許庁

自由ラジカルの生成よりもイオンの生成に多くの電力を供給することが有利となるソフトエッチングプロセスに好適なプラズマ反応装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma reactor suitable to soft etching treatment advantageous in supplying more electric power to ion generation than free radical generation. - 特許庁

熱的に統合されたＳＯＣ／ＳＨＣ反応の水素を含まないアルケン生成物は、次いで、アルケンを対応する不飽和カルボン酸またはニトリルに変換するための触媒気相部分酸化プロセスに供給される。例文帳に追加

The hydrogen-free alkene product of the thermally integrated SOC/SHC reaction is then supplied to a catalytic vapor phase partial oxidation process for converting the alkene to a corresponding unsaturated carboxylic acid or a nitrile. - 特許庁

冷却プロセスの間に水素の供給源を除去することにより、冷却の間の水素原子によるアクセプタ不純物（例えば、Ｍｇ）のあらゆる付加的な不動態化が回避される。例文帳に追加

The hydrogen supply sources are eliminated in a cooling process, by which acceptor impurities (e.g. Mg) are all prevented from being additionally passivated by hydrogen atoms in a cooling process. - 特許庁

簡単且つ安価な構成で、安定してトナーを供給することができ、大容量のトナー収納容器に対しても対応することができる現像装置及びプロセスカートレッジを提供すること。例文帳に追加

To provide a developing device and a process cartridge capable of stably supplying toner and compatible with a toner storage container with a large capacity as well, with a simple and inexpensive configuration. - 特許庁

上記プロセスは、反応器に入る前に供給アセトンおよびリサイクルされたアセトン（混合アセトン）を加熱することによって、反応器排出液に付随する付加的な熱を回収するように設計される。例文帳に追加

The process is designed to recover additional heat associated with a reactor effluent by heating acetone feed and recycled acetone (mixed acetone) before entering a reactor. - 特許庁

プロセスカートリッジ４０には、供給用トナーボックス４２が収納される第１のトナーボックス収納部４８ａと、補充用トナーボックス５０が収納される第２のトナーボックス収納部４８ｂとが設けられている。例文帳に追加

A 1st toner box storage part 48a for storing a supply toner box 42 and a 2nd toner box storage part 48b for storing a reserve toner box 50 are arranged in the process cartridge 40. - 特許庁

原料の冷却と回収のための冷却に熱交換器１１５、１２１で必要とされる寒冷を、再循環冷媒として好ましくは窒素を使用する、閉ループガスエキスパンダー冷却プロセスサイクルにより供給する。例文帳に追加

Cold needed by heat exchangers 115, 121 for cooling a raw material and for recovery cooling is supplied through a closed loop gas expander cooling processing cycle which preferably employs nitrogen as recirculating refrigerant. - 特許庁

これにより、ドラム表面クリーニング用トナーＬｔとして研磨効果の高い黒色トナーを供給し、これを各色のトナー像形成プロセスにおける感光体ドラム２１表面の研磨に利用することができる。例文帳に追加

Thus the black color toner with high polishing effect is supplied as the toner Lt for cleaning the drum surface and this can be used for polishing the photoreceptor drum 21 surface in a toner image forming process for each color. - 特許庁

パラジウムの供給の不安定性や高価格問題を解決するため、無電解めっきの触媒としてパラジウムを全く使用しない新しいめっきプロセスを構築する高性能無電解めっき法を提供する。例文帳に追加

To provide a high performance electroless plating method comprising a new plating process which does not use palladium as a catalyst for electroless plating at all for solving the problems relating to the unstability in the feed and the high cost of palladium. - 特許庁

反応ガス導入孔からシャワープレートに形成されたそれぞれのガス供給孔までのコンダクタンスを容易に変更することが可能なプラズマプロセス装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma process system capable of easily changing the conductance from reaction gas introducing ports to respective gas feeding ports formed on a shower plate. - 特許庁

ディーゼル燃料の改善された水素処理のための組み合わせプロセスにおいて、水素処理段階に先立って、水素処理する供給物を選択的吸着剤で前処理して、極性材料、特に含窒素化合物を除去する。例文帳に追加

In a combined process for improved hydrogen treatment of a diesel fuel, a feed to be subjected to the hydrogen treatment is treated with a selective adsorbent before a hydrogen treatment step, thus removing polar materials, especially nitrogen compounds. - 特許庁

モジュールは、機能の小さな構成要素であり、イントラネット上のユーザにデータとアプリケーションと情報とプロセスへのアクセスを供給もしくは提供する。例文帳に追加

The modules are small components of functions to supply or provide access to data, applications, information and processes to the user on the Intranet. - 特許庁

この処理チャンバは、ウェハを支持する改良型のサセプタ、および付着プロセスおよび洗浄で使用するさまざまなガスを供給するように適合された特別なガス分配システムを含む。例文帳に追加

The process chamber comprises an improved susceptor for supporting the wafer and a special gas distribution system adapted to feed various gases for use in the deposition process and cleaning. - 特許庁

そのプロセスは、ＤＢＲレーザに同調電流が供給されているが、レーザが放射されていない間に、分布ブラッグ反射器（ＤＢＲ）レーザのブラッグ回折格子を光で照明するステップを含む。例文帳に追加

The process comprises a step in which a Bragg diffraction lattice of the distribution Bragg reflector(DBR) laser is irradiated with light while the DBR laser is supplied with a synchronization current with no laser radiation. - 特許庁

酸化物電極層を形成する工程は、導電性酸化物の金属成分を含有した有機金属材料と酸素とを供給しかつ化学反応させるとともに、その生成物を成膜する成膜プロセスを含む。例文帳に追加

The step of forming an oxide electrode layer includes a process for causing the chemical reaction of an organic metal material containing a metal component of a conductive oxide and oxygen while supplying them and depositing a film of a reaction product. - 特許庁

炉本体１内の燃焼ガスの一部を対流部９に導入して燃焼ガスの排熱を利用して原料及び／または炉本体内の反応管に供給されるプロセス流体を予熱する。例文帳に追加

Combustion gas in the furnace body 1 is partially introduced to a convection section 9, and a raw material and/or process fluid supplied to a reaction tube in the furnace body are preheated by utilizing the exhaust heat of the combustion gas. - 特許庁

アッシングレートを一定にするために、プロセスチャンバ１０１内のアッシングガス中の酸素原子の数の減少を間接的にモニタして、減少した酸素原子の数に相当するアッシングガスを供給する。例文帳に追加

In order to make the ashing rate constant, the reduction is indirectly monitored on the number of oxygen atoms in the ashing gas inside a process chamber 101, and the ashing gas is fed in volume equivalent to the reduced number of the oxygen atom. - 特許庁

閾値処理を行うプロセスは、フレームによって表されるべきショット或いはセグメントの予め決められた数、或いは、実行中に生成される適切な数を供給するために、重要度スコアに適用される。例文帳に追加

The segments or the shots are supplied to a significance calculator 330 calculating the quantity of significance at every segment or shot. - 特許庁

プロセス、温度、電力供給、およびサンプリング・レートの変化等の特性条件の変化に応じて、連続時間積分器における積分期間を調整する。例文帳に追加

To adjust the integration period of a continuous time integrator, depending on variations in characteristic conditions, such as process, temperature, power supply, and sampling rate variations, and the like. - 特許庁

常に流動性の良い状態にある現像剤を現像装置へ供給することのできる現像装置及びプロセスカートリッジ並びに画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus capable of supplying developer constantly at a state of sufficient fluidity to the developing device. - 特許庁

放電管の内壁２１ａとプラズマ発生領域Ｐとの間に、局所的に圧力が高いガス流からなる層Ｇが形成されるように、プラズマ発生領域Ｐにプロセスガスを供給する。例文帳に追加

The process gas is supplied to a plasma generation region P to form a layer G formed of a gas flow locally high in pressure between the inside surface 21a of the discharge tube and the plasma generation region P. - 特許庁

高い信頼性と長寿命と高出力供給に対応出来る、低コストなコンポジットフライホイールリムを製造するための、揚硬化フィラメントワインディングプロセスを提供する。例文帳に追加

To provide an in-situ curing filament winding process for manufacturing a low cost composite flywheel rim capable of corresponding to high reliability, long life and high output supply. - 特許庁

プロセスカートリッジ３の現像フレーム２１には、現像室２２およびこの現像室２２に供給されるトナーを貯留するための貯留室２３が設けられている。例文帳に追加

A developing frame 21 of a process cartridge 3 includes a developing chamber 22, and a storage chamber 23 for storing toner supplied to the developing chamber 22. - 特許庁

内燃機関の運転パラメータから検出されたプロセスデータに基づいて制御弁の開弁時間を変更することによって、規制された量の二次燃焼空気が燃料混合気に供給される。例文帳に追加

By changing an open valve time of the control valve based on the process data detected from an operation parameter of the internal combustion engine, a restrained amount of secondary combustion air is supplied to an air-fuel mixture. - 特許庁

低い電源電圧に対応する生産プロセスで生産された製品に対して高い電源電圧を供給した場合にも、ホットキャリアに起因するオペアンプ特性の劣化を回避することができるオペアンプを提供する。例文帳に追加

To provide an operational amplifier that can avoid an operational amplifier characteristic degradation owing to a hot carrier even when a high supply voltage is supplied to a product produced by a production process corresponding to a low supply voltage. - 特許庁

燃焼エンジンの噴射装置の作動パラメータ、特にエンジン速度および燃料噴射器供給圧力が変化する場合の作動パラメータを好適に決定するためのプロセスを提供する。例文帳に追加

To provide a process for suitably determining operating parameters of an injection device of a combustion engine engine, especially operating parameters when engine speed and fuel injector supply pressure change. - 特許庁

ベタ濃度の安定性を改善し、高品位な画像を供給することが可能な現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus, wherein the stability of solid density is improved and an image of high quality can be supplied. - 特許庁

製造プロセスでのばらつきの影響が抑えられ、なおかつ、電源電圧、温度の変動に依存しない定電圧を供給できるバンドギャップリファレンス回路を提供する。例文帳に追加

To provide a bandgap reference circuit that reduces variations in a manufacturing process and supplies a constant voltage independent of supply voltage and temperature change. - 特許庁

プラズマプロセス装置は処理室とマイクロ波導入手段１ａ、１ｂとシャワープレート３ａ、３ｂと反応ガス供給路７ａ〜７ｃとを備える。例文帳に追加

This plasma process device is provided with a treating chamber, microwave introducing means 1a and 1b, shower plates 3a and 3b and reaction gas feeding pathes 7a to 7c. - 特許庁

工業、医療分野などに供給される酸素富化空気または窒素富化空気の製造プロセスに使用することのできる酸素透過高分子膜を提供すること。例文帳に追加

To provide an oxygen permeable polymer membrane which can be used for the process of producing oxygen rich air or nitrogen rich air to be supplied for industrial or medical fields. - 特許庁

リサイクル作業において保持部材に保持された状態の固形潤滑剤を保持部材から容易に分離することができる、潤滑剤ユニット、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant unit that easily separates solid lubricant held in a holding member from the holding member in recycling operations, a lubricant supply device, a process cartridge, and an image forming apparatus. - 特許庁

トナー帯電時にかかるトナーの機械的ストレスを抑制して、画像品質を長期に渡って安定させることができる現像ローラ、現像剤供給装置、現像装置、画像形成装置、およびプロセスカートリッジを提供する。例文帳に追加

To provide a developing roller which relieves the mechanical stresses applied to toner in toner charging and can stabilize image quality over a prolonged period of time, a developer feed unit, a development device, an image forming apparatus and a process cartridge. - 特許庁

バッチ重合反応における、熱供給および熱除去を行う温度制御システムであって、熱媒体を冷却系外に排出する装置を備えた温度制御システムおよびこれを利用するバッチ重合反応プロセス。例文帳に追加

This temperature-controlling system performing heat supply and heat removal in the batch polymerization reaction is equipped with a device for discharging a heating medium to the outside of a cooling system, and a batch polymerization reaction system by utilizing the device is also provided. - 特許庁

半導体ウエハ１にウエハ・プロセスを施した後に再配線を施してから、半田印刷用のマスク３２を用いて半導体ウエハ１の端子２３上に半田ペースト３１を印刷法で供給する。例文帳に追加

After a wafer process is conducted on the semiconductor wafer 1, rerouting is conducted, and then a solder paste 31 is supplied by a printing method onto a terminal 23 of the semiconductor wafer 1 using a mask 32 for solder printing. - 特許庁