「供給プロセス」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

被処理基板Ｓに対するプロセスガスの供給量をエッチング面全体にわたって均一化するために、回転制御手段１４により被処理基板Ｓの回転の角速度を１回転中において変化させる。例文帳に追加

Since the supply quantity of process gas to the substrate to be processed S is uniformized for the whole etching face, a rotation control means 14 changes the angular velocity of the rotation of the substrate to be processed S during one turn. - 特許庁

画像形成装置やプロセスカートリッジの稼働状況等を含み、部品供給、リサイクル回収処理等により生じる費用の決済を含めた機器の管理を行う。例文帳に追加

To perform device management including the operation situations, etc., of an image forming device and a process cartridge and also including the settlement of expenses caused by part supply, recycle collection processing, etc. - 特許庁

インジェクタ１８は、プロセスガスの供給量が不足する半導体基板１４側の一端がそれに近づくようにその垂直に伸びた部分が垂直方向に対して傾けられた姿勢で配される。例文帳に追加

The injector 18 is arranged, in an attitude such that its vertically extended part is inclined with respect to the vertical direction, so that one end is close to the injector on the semiconductor substrate 14 side, where the process-gas supply amount is insufficient. - 特許庁

枠体前駆体の供給の終了期間において、ＣＶＤプロセスの生成物の密度と否定的に相関している少なくとも一つの堆積パラメータの値は、減少する。例文帳に追加

In the supply stop period of the frame precursor, the value of at least one deposition parameter which is negatively correlated with the density of a product of the CVD process decreases. - 特許庁

基板を一時停止させて現像液供給を行う平流し方式の現像処理において搬送路上で基板の追突事故を起こさずに時間的なプロセス条件を所望の値に設定すること。例文帳に追加

To set time-process conditions at desired values without causing rear-ender of substrates on a transport path in a flat flowing-system development processing, i.e., the movement of a substrate is temporarily suspended and a developer is supplied. - 特許庁

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing technology capable of suppressing the occurrence of scratching, peeling, dishing, and erosion and suppressing the costs of expendables such as abrasive and polishing cloth without requiring a complicated cleaning process or an abrasive supplying/processing device. - 特許庁

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing technique which inhibits scratching, peeling off, dishing and erosion, and requires no complex cleaning process nor abrasive agent supplying/ treating device so that it curbs the cost of consumable supplies such as a polishing agent and a polishing cloth, etc. - 特許庁

帯電不良によるスジ状の画像欠陥が殆どなく、良好な画像を安定に供給できる電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor, a process cartridge and an electrophotographic apparatus capable of stably supplying a good image hardly causing a defective seam-like image due to defective electrification. - 特許庁

プロセスガス供給ユニット７０は、小型・集積化された多数ブロックＡ〜Ｄ上に各種コンポーネント部品Ｅを取り付け、各ブロックＡ〜Ｃ内部の流路を相互に接続して構成される。例文帳に追加

A process gas supplying unit 70 is constitute by installing various component parts E onto a large number of compact and integrated blocks A to D and connecting channels in the blocks A to C to one another. - 特許庁

プロセス装置は、この方法がサイクル的に運転されることを可能にし、供給ガス、反応性ガスおよび生成ガスの連続的な流れを提供する。例文帳に追加

The process units allow the method to be operated cyclically, providing a continuous flow of the feed gas, the reactive gas and the product gas. - 特許庁

反応器排出液が冷却されてフラッシュドラムに供給される前にこの排出液の圧力をわずかに上げるために、圧縮器が気相プロセスに導入される。例文帳に追加

A condenser is introduced into the gas-phase process to slightly increase the pressure of the effluent before the reactor effluent is cooled and sent to a flash drum. - 特許庁

第１乗算器は、圧力変換器から受け取る圧力信号に、第１セットポイントをかけて、プロセス流体の流れの第１の所定の部分を供給する第１フローコントローラを制御する。例文帳に追加

The first multiplier controls the first flow controller for supplying the first predetermined part of the flow of the process fluid, by multiplying a pressure signal received from the pressure converter by a first set point. - 特許庁

半導体生産プロセスにおけるウエハの温度計測の方法に関して、生産工程の影響や固定具等からの影響を低減し、より精度の高い非接触かつリアルタイムの計測方法を供給する。例文帳に追加

To provide a high-precision, non-contact, real-time temperature measuring method by reducing the effects of the manufacturing process, fixtures, or the like in the measurement of wafer temperature in the semiconductor manufacturing process. - 特許庁

本発明による機構はまた、ロール紙の形態で保管されているウェブ材料を枚葉紙の形態にした上で様々な加工プロセスを施す準備ができた状態で供給することができる。例文帳に追加

A mechanism can supply a web material stored in form of paper roll while the preparation for applying various processing processes after putting the web material in form of sheet is completed. - 特許庁

膜質と膜の均一性は、信号の周波数と振幅、信号のプラス部の持続時間、支持部材１１２とコイルとへそれぞれ供給される電力、および他のプロセスパラメータを調節することによって制御できる。例文帳に追加

The quality and uniformity of the film can be controlled by adjusting the frequency and amplitude of the signal, the duration time of the positive signal, the power supplied to a supporting member 112 and a coil, and other process parameters. - 特許庁

第２変換回路１５を高耐圧用プロセスを用いて製造したＭＯＳＦＥＴで構成し、高電圧電源系の電源電圧Ｅ２を供給する。例文帳に追加

The 2nd conversion circuit 15 consists of MOSFETs manufactured by a high dielectric strength process and a power supply voltage E2 of a high voltage power supply system is applied to the circuit 15. - 特許庁

ＣＯ_2 プロセスで発電所設備を運転するための方法の場合、先ず最初に等エントロピー圧縮が行われ、続いて等圧熱供給、そして等エントロピー膨張、最後に等圧熱排出が行われる。例文帳に追加

In case of a method for operating an electric power plant equipment by a CO2 process, first in the beginning, isoentropic compression is performed, successively isobaric heat supply and isoentropic expansion at last isobaric heat discharge is performed. - 特許庁

プロフィール・パラメータのエラーを補正するために上述した手法をトラック／ステッパおよびエッチャに供給してリソグラフィおよびエッチングのプロセスを制御することができる。例文帳に追加

In order to correct an error in a profile parameter, the above-mentioned procedure is supplied to a track/stepper and an etcher to control lithography and etching processes. - 特許庁

プリディスペンス動作により、ノズルなどに溜まった薬液が廃棄されるので、プロセスレシピ制御の再開後に、劣化した薬液がウエハに供給されることを防止できる。例文帳に追加

The chemical solution staying in the nozzle, etc. is discarded by the pre-dispensing operation, and therefore, the degraded chemical solution is prevented from being supplied to the wafer after the process recipe control is started again. - 特許庁

機械的外力に対して耐久性を有する表面層を有し、耐久黒ポチが発生しない高品位の画質を保つ電子写真感光体を供給し、それを有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor which has a surface layer having durability against mechanical external force and which maintains high picture quality without producing black spots for long-term use, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the above photoreceptor. - 特許庁

従来のトナーシールの代替品でありプロセスカートリッジを本体へ装着し、初めて駆動が伝達されると、現像剤が現像スリーブへ供給される。例文帳に追加

To allow the developer to be fed to a developing sleeve when a drive is firstly transmitted by providing a shutter member as a substitute of toner sealing, and mounting a processing cartridge on the main body. - 特許庁

製造機械１，３０に供給されるプロセス空気の大部分が音響減衰作用を行う導管部分２７を経て案内されるように構成されている例文帳に追加

The device is so constituted that the greater part of the process air supplied to the manufacturing machines 1 and 30 is guided through a conduit portion 27 where a sound attenuation action is effected. - 特許庁

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing technique by which the cost of consumables, such as the abrasive, polishing cloth, etc., can be suppressed by suppressing the occurrence of scratchings, peeling, dishing, and erosion without requiring any complicated cleaning process nor abrasive supplying/treating device. - 特許庁

特殊な製造プロセスを採用せずとも製造でき、電源供給回路に大電流を流したときにも発熱を抑えることが可能なプリント配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a printed wiring board which can be manufactured without employing a special manufacturing process and suppress heat generation even if a large current flows to a power supply circuit. - 特許庁

コントローラボードＣＢでこの電気信号を監視し、プロセスカートリッジＰＣ内の湿度が所定の湿度となるようにファンＦや湿度制御装置ＨＣＵへの供給電力を制御する。例文帳に追加

The electric signal is monitored by the controller board CB and the supply electric power to a fan F and a humidity controlling unit HCU is so controlled that the humidity inside the process cartridge PC attains the prescribed humidity. - 特許庁

治療的および栄養的応用の両方のための、CLAの規定された商業的供給源の開発において、大量の規定された材料を調製するためのプロセスを提供すること。例文帳に追加

To provide a process for providing large amounts of defined material in the development of a defined commercial source of CLA for both therapeutic and nutritional application. - 特許庁

本発明の実施の形態は、商品／サービスの終端間のビューを提供することにより、各種の供給、調達、およびビジネスプロセスをユーザが効率的に追跡、管理する。例文帳に追加

By providing an end-to-end view of goods and services, embodiments of the invention allow users to efficiently track and manage various supply, procurement, and business processes. - 特許庁

被処理基板上に多元系化合物膜を、分子層の積層により形成する際に、プロセス空間のみならず、処理ガス供給ノズル内部の効率的なパージが可能な基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for processing a substrate which can efficiently purge in not only a process space but also a treated gas supply nozzle when a multinary compound film is formed by laminating a molecular layer on a substrate to be processed. - 特許庁

従来廃棄処分されていた残ガスを有効利用するとともに、合理的な消費量を算定できる半導体プロセスガスの供給方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for feeding a semiconductor process gas wherein a residual gas which is so far disposed of as an exhaust gas is effectively utilized and a reasonable consumption of the gas can be calculated. - 特許庁

本発明では、拠点内の各作業工程を担う場所を意味するショップを用いて、「品目とショップ」、「品目と供給プロセス」の２つの関係をＭＲＰ計算に適用する。例文帳に追加

For the purpose, shops meaning locations placed in respective operation processes on a base are used and two relations between 'item and shop' and 'item and supply process' are adapted to the MRP calculation. - 特許庁

シャワーヘッド１０は複数のガス導入孔１１を有しており、プロセスガスがそれらのガス導入孔１１を介して、ペデスタル５上に置かれたウェハＷに向けて供給される。例文帳に追加

The showerhead 10 has a plurality of gas introducing holes 11, and the process gas is fed toward a wafer W placed on a pedestal 5 via the gas introducing holes 11. - 特許庁

これまで公知のシランよりも粘着剤または強化添加剤としてゴム混合物中で高いカップリング収率、改善されたゴム特性および高いプロセス安定性を供給する有機ケイ素化合物の提供例文帳に追加

To obtain an organic silicon compound capable of providing a higher coupling yield, more improved rubber characteristics and higher process stability than those of known silanes as a sticking agent or reinforcing additive. - 特許庁

スクラッチや剥がれ、ディシング、エロージョンを抑制し、また、複雑な洗浄プロセスや研磨剤供給／処理装置を必要とせず、研磨剤や研磨布等の消耗品のコストを抑さえた研磨技術を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing technology which prevents scratch, peeling, dishing, and erosion, and does not need complex cleaning process and complex abrasive powder supply/disposal apparatus, to reduce cost of expendable supplies such as abrasive powder, polishing cloth. - 特許庁

固形潤滑剤を圧接方向に付勢するための圧縮スプリングの組付不良が生じにくい、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device scarcely causing inferior assembling of a compression spring for energizing solid lubricant in a pressure-contact direction, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus. - 特許庁

平坦に保持されることを前提として決められたノズルの向きを保持して被処理物の表面全体にプロセスガスを均一に供給することのできるガス分散板及びこれを用いた真空処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a gas distribution plate which can supply a process gas uniformly all over the surface of an article to be treated, keeping a determined orientation of a nozzle, which is premised to be held flatly, and a vacuum treatment apparatus therewith. - 特許庁

ボイラで発生した蒸気の乾き度をより向上させて、高質化された蒸気を各種のプロセス処理部へ供給することができ、簡単な構成を備え、設備費が少なくて済む装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device for improving dryness of steam generated from a boiler to supply the improved steam to various processing parts, and reducing equipment costs with a simple constitution. - 特許庁

ウェハプロセス完了後に動作不良が発見された場合には、ダミートランジスタに必要な配線および電圧供給を行い、論理セルが当初実現していた機能に影響を与えて動作不良を修正する。例文帳に追加

When malfunctions are detected after the wafer process is completed, the dummy transistors are provided with necessary wiring and voltage and the malfunctions are corrected by affecting the functions originally realized by the logic cell. - 特許庁

モータはまた、クライアントプロセス（５２）から第１の言語で受け取った要求に従って、更新されたプロパティおよびイベントを、第２の言語でアプリケーション（５８）に供給する。例文帳に追加

The motor also supplies the updated properties and the event to the application 58 in a second language according to the request received in the first language from the client process 52. - 特許庁

銅含有可燃性廃棄物を乾留処理した後、乾留残渣を粉砕処理し、次に銅分離工程で乾留残渣中に含まれる銅を除去し、銅除去後の乾留残渣を金属精錬プロセスへ供給し、スラグとして回収する。例文帳に追加

This method comprises dry distilling a copper-containing combustible waste, grinding the dry distillation residue, removing copper from the residue at the copper separation step, and supplying the resultant copper-free residue to a metal refining process to recover it as slag. - 特許庁

予備用現像剤ボックス４８には予備用の現像剤が収容されており、この予備用現像剤ボックス４８は供給用現像剤ボックス４２と交換自在でプロセスカートリッジ４０に装着される。例文帳に追加

Reserve developer is stored in a reserve developer box 48, and the reserve developer box 48 and the supply developer box 42 are freely replaceably attached to the process cartridge 40. - 特許庁

炉本体１内の燃焼排ガスの一部を対流部９に導入して燃焼排ガスの排熱を利用して原料及び／または炉本体内の反応管に供給されるプロセス流体を予熱する。例文帳に追加

Part of the exhaust heat in the furnace body 1 is introduced to the convention part 9, and the raw material and/or process fluid supplied to a reaction pipe in the furnace body is preheated using the waste heat of the exhaust gas. - 特許庁

プロセス上必要とされる流量のフッ素ガスを安全かつ安定に連続的に供給でき、さらに、安価で操作性に優れた簡易な方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an inexpensive, highly operable, and simple method safely, stably, and continuously supplying a fluorine gas at a flow rate necessary for a given process. - 特許庁

本カートリッジ清掃装置１０では、載置板１８上に載置したプロセスカートリッジ２４のカートリッジ本体２６の供給口６０に、孔部６２が一部に形成された無端ベルト５８を対向させる。例文帳に追加

In the cartridge cleaning apparatus 10, an endless belt 58 at a part of which a hole part 62 is formed is opposed to the supply port 60 of the cartridge main body 26 of a process cartridge 24 placed on a placing plate 18. - 特許庁

電源を備えた画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジと、前記電源からの電力の供給を受けて動作する直流軸流ファンモータとを一体化して構成したことを特徴とする。例文帳に追加

The image forming apparatus is characterized in that the process cartridge which can be attached to/detached from the image forming apparatus provided with a power source is integrated with the direct current axial fan motor operated by receiving supply of power from the power source. - 特許庁

コイル(１２又は１７)は、処理チャンバ(２)の外周に配置され、形成される膜の原料を供給するためのプロセスガスのプラズマを生成するために利用可能である。例文帳に追加

The coil (12 or 17) is arranged on the outer periphery of the treatment chamber (2), and can be used to generate plasma of process gas to feed a raw material for the film to be deposited. - 特許庁