「供給プロセス」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

ポンピングせずに周囲よりも高い圧力で使用点に超高純度液体二酸化炭素を供給するプロセスの改善された方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method which is improved in a process for delivering ultra high purity liquid carbon dioxide to a point of use at a pressure above ambient without pumping. - 特許庁

プロセスカートリッジが新品の場合には、現像剤担持体の長手全域にまで十分にトナー（現像剤）が供給された後、像担持体とクリーニングブレードの接触部トナーを堆積させる初期化動作を実行する。例文帳に追加

When the process cartridge is a fresh cartridge, after a toner (developer) is sufficiently fed in the entire longitudinal area of a developer carrying member, an initialization operation for depositing the toner on a contact portion between an image bearing member and a cleaning blade is carried out. - 特許庁

方法は、ＳｉＣを提供するステップ、酸素を含む雰囲気を供給するステップ、高密度（ＨＤ）プラズマプロセスを実行するステップ、およびＳｉＣ基板をオーバーレイするＳｉＯ_２層を形成するステップを包含する。例文帳に追加

This method includes a step of providing SiC, a step of providing an atmosphere including oxygen, a step of performing a high-density (HD) plasma process, and a step of overlaying the SiC substrate to form a SiO_2 layer. - 特許庁

プロセスガスをウェハ８表面に供給するプラズマ発生装置用のシャワープレート４であって、アルミナを９９．５重量％以上含有し、気孔率が３０〜６５％のセラミック多孔質体からなる。例文帳に追加

The shower plate 4 for the plasma generating apparatus which supplies treatment gas onto the surface of a wafer 8 contains at least 99.5 wt.% of alumina and is formed of a ceramic porous material having a porosity of 30 to 65%. - 特許庁

はんだ材料を用いて電子部品を基板に実装するためのフローはんだ付けプロセスにおけるスプレー式フラックス塗布方法において、基板に形成されたスルーホールにはんだ材料が十分に供給されることを可能にする。例文帳に追加

To fully supply a solder material to a through-hole formed in a substrate by a spray-type flux applying method in a flow soldering process for mounting electronic components on the substrate, using the solder material. - 特許庁

正常な発芽プロセスを損なうことなく、発芽させるべき穀物に所望の水分をより短時間で供給することができる穀物の水浸漬方法、及び、それに用いる浸漬装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for soaking crops in water by which desired water can be supplied to crops to be subjected to germination in a shorter time without spoiling a normal germination process, and to provide a soaking apparatus used in the method. - 特許庁

外部の情報処理装置から供給されるプロセス速度信号にもとづいて、前記レーザビームの出力レベルを可変する制御手段を設けることにより達成される。例文帳に追加

The laser light source system is provided with a control means which varies the output level of a laser beam based upon a processing speed signal supplied from an information processing device situated outside. - 特許庁

パラジウムの供給安定性や高価格問題を解決するため、化学めっきの触媒としてパラジウムを全く使用しない新しいめっきプロセスを構築する高性能化学めっき法を提供する。例文帳に追加

To provide a high performance chemical plating method constructing a new plating process in which, as a catalyst in the chemical plating, palladium is not used at all for solving the problems in the stability of the feed and high cost of palladium. - 特許庁

第１乗算器は、圧力変換器から受け取る圧力信号に、第１セットポイントをかけて、プロセス流体の流れの第１の所定の部分を供給する第１フローコントローラを制御する。例文帳に追加

The first multiplier multiplies a pressure signal received from the pressure transducer, by a first setpoint to control the first flow controller that provides the first predetermined portion of the flow of the process fluid. - 特許庁

このプロセスを、個々の燃料集合体レベルに達するまで、可燃性吸収材が供給集合体に割当てられるレベルを含む、最適娘パターンのバッチ精緻化および選択のいくつかのレベルを通して繰返す。例文帳に追加

this process is repeated through batches elaboration of optimal daughter pattern and some selection levels that burnable absorbent is allotted to supply assembly until reaching individual fuel assembly level. - 特許庁

プロセスガスは、パンケーキ型反応器を有する半導体製造装置１００の反応空間１１８へガスリング１０６のガス注入ポートを通して供給される。例文帳に追加

A process gas is supplied through a gas injector port of a gas ring 106 to a reactor space 118 of a semiconductor producing device 100 with a pancake reactor. - 特許庁

寿命が長く安定して高画質の画像を供給することができる電子写真感光体、画像形成装置、及び電子写真装置用プロセスカートリッジを提供する。例文帳に追加

To provide an electrophotographic photoreceptor, an image forming apparatus and a process cartridge for an electrophotographic apparatus having a long service life and capable of stably supplying an image of high quality. - 特許庁

特に長時間使用してもトナー融着が少なく、良好な画像を与え、トナー供給ローラなどの電子写真プロセス用として良好な弾性部材、及びこの弾性部材を装着した画像形成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an elastic member which particularly reduces the fusion bonding of a toner even in long-term use to give good images and is good for electrophotographic processing such as a toner feed roller, and an image- forming apparatus having this elastic member. - 特許庁

紫外線照射装置、及び超音波照射装置から成る簡易構成の洗浄装置に水素水供給手段を付加することによって、省スペース、低コスト型の洗浄装置、洗浄プロセスを提供する。例文帳に追加

To provide a space saving low cost type washing apparatus by adding a hydrogen water supply means to a washing apparatus simple in constitution comprising an ultraviolet irradiator and an ultrasonic irradiator, and a washing process using the same. - 特許庁

情報収集部１０２は、音声出力部１４０において、放送処理部１０１からサウンドカードドライバ１４２に供給された音声情報、ミュート等を指定するプロセスに対する確認応答を抜き取る。例文帳に追加

The information collecting unit 102 extracts an acknowledgement to sound information supplied to a sound card driver 142 from the broadcast processor 101 and to a process that instructs mute etc. in a sound output unit 140. - 特許庁

小型・集積化されたプロセスガス供給ユニットにおいて、各ブロックの間のシール部を一つに特定してガス漏れを正確かつ短時間で検出すること。例文帳に追加

To detect gas leakage accurately in a short time by specifying on seal part between blocks in a compact and integrated process gas supplying unit. - 特許庁

ＩＣＵコントローラ２１０は、省エネモード中には電力供給が停止されていて、レディモード中には画像形成プロセス部の制御を含む画像形成装置１００全体の動作制御を行う。例文帳に追加

The ICU controller 210 has power supply stopped during an energy saving mode and carries out operation control for the whole image forming apparatus 100 including control of an image forming process section during a ready mode. - 特許庁

クリーニングブレードの欠けを軽減してクリーニング不良の発生を確実に防止するとともに、固形潤滑剤が高寿命化される、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device that reduces chips on a cleaning blade to reliably prevent the occurrence of poor cleaning, and prolongs the life of solid lubricant, as well as a process cartridge, and an image forming apparatus. - 特許庁

仮想計算デバイス２３２が、計算の終了をドライバ２４１に通知すると（Ｔ７）、ドライバ２４１は、計算結果を受け取り、プロセス２５０に供給する（Ｔ８）。例文帳に追加

When the virtual computation device 232 notifies the driver 241 of the completion of the computation (T7), the driver 241 receives a result of the computation and supplies the process 250 with it (T8). - 特許庁

フィルター手段の構成が簡単で、篩部の分別範囲も制限されることなく広く、低コストの回収トナー分級装置及びそれを備えたプロセスカートリッジ、トナー供給装置及び画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a classification device for recovered toner which is simple in the constitution of filter means, unlimitedly broad in the fractionation range of a screen part and inexpensive, a process cartridge equipped with the same, a toner supply device and an image forming device. - 特許庁

情報収集部１０２は、ユーザからの入力に基づいて放送処理部１０１からチューナ１２０に供給された、チャンネルを変更するプロセスに対する確認応答を抜き取る。例文帳に追加

An information collecting unit 102 extracts an acknowledgement to a process of changing a channel supplied to a tuner 120 from a broadcast processor 101 based on an input from a user. - 特許庁

有機植物原料の膨張および乾燥プロセスの効率、特に粉砕有機植物原料、特にタバコ原料に使用されるジェットドライヤーの効率を改善するための方法と供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a feeder for improving the efficiency of the expanding and drying process of organic plant materials, particularly in a jet dryer used for comminuted organic plant materials, particularly tobacco materials. - 特許庁

簡易なラミネートプロセスにより、剥離不良による「ひれ」などの無い、外観の良い高品位のラミネート加工を安定して生産性良く施すためのラミネートフィルムを供給する。例文帳に追加

To feed a laminated film for providing stably and with good productivity a laminate processing without a fin caused by an inferiority in releasing, with a good appearance and a high quality by a simple laminating process. - 特許庁

低消費電力で、低耐圧の高精細なプロセスで製造された電源回路を用いて高い電位を供給するための電圧変換回路、これを用いた表示装置及び電子機器を提供する。例文帳に追加

To provide a voltage converting circuit which supplies a high potential using a low power consumption power supply circuit that is manufactured by a low breakdown strength and highly precise process and to provide a display device and an electronic equipment using the voltage converting circuit. - 特許庁

供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、エッチングすべきタングステンが被膜された基材９０に吹付ける。例文帳に追加

A process gas supplied from a supply source 2 is ionized into plasma in a plasma discharging space 1a and blown upon the semiconductor substrate 90 coated with the tungsten film to be etched. - 特許庁

水処理プロセスモデル供給手段４および水質データ収集保持手段２１、２２、２３は、計測不可能水質要素の特性を推定する水質要素推定手段５が接続されている。例文帳に追加

The water treatment process model supplying means 4 and the water quality data collecting/holding means 21, 22, 23 are connected with a water quality element estimating means 5 estimating the characteristics of immeasurable water quality element. - 特許庁

パージ弁入力流路１９は、第２流路ブロック７と対向する側面から供給弁２の弁部付近に向かって穿設し、プロセスガス出力流路１１に連通させる。例文帳に追加

A purge valve input flow passage 19 is drilled toward the vicinity of a valve part of a supply valve 2 from a side face opposing to a second flow passage block 7 and is communicated with the process gas output flow passage 11. - 特許庁

ＣＶＤダイヤモンドを半犠牲層間および層内誘電体として供給することによって、空気またはその他の気体を永久誘電媒体として多層チップに組み込むための構造およびプロセスを提供すること。例文帳に追加

To provide a structure and a process for incorporating air or another gas in a multi-layer chip as a permanent dielectric medium by supplying a CVD diamond as dielectrics in semi-sacrificial layer and in-layer dielectrics. - 特許庁

本発明は、溶射ガンの燃焼チャンバにワイヤが到達する前に、ワイヤ供給原料を予熱することによって溶射プロセスの動作効率を向上させる、溶射ガン装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for thermal spraying, in which operating efficiency of a thermal spraying process is improved by pre-heating a wire feedstock before a wire arrives at a combustion chamber of a thermal spraying gun. - 特許庁

本発明は、出発材料として用いられる糖蜜またはサトウキビバガスに限定されない再生可能な農業供給原料の発酵からのポリ乳酸の産生のための効率的なプロセスに関する。例文帳に追加

The invention relates to the efficient process for producing polylactic acid from fermentation of renewable agricultural feed-stocks not limited to molasses or sugar cane bagasse employed as starting material. - 特許庁

感光体ユニット１２Ａと、帯電ユニットと、現像ユニット１４Ａと、クリーニングユニット１５Ａと、トナー供給ユニット１６Ａとを備えたプロセスカートリッジ。例文帳に追加

The process cartridge includes a photoreceptor unit 12A, an electrification unit, a developing unit 14A, a cleaning unit 15A and a toner feed unit 16A. - 特許庁

アクリル酸を５０質量％以上含むプロセス液を貯蔵タンクに供給する際に、１５〜７０℃で、少なくとも１回の濾過操作を行うことを特徴とするアクリル酸の製造方法。例文帳に追加

The method for producing acrylic acid includes filtering operation at least once at 15-70°C when a process liquid including acrylic acid with a content of at least 50 mass% is supplied to a storage tank. - 特許庁

モニタモード中に、通常より低い参照電位を受信回路に供給して伝送信号の論理レベルを判定することで、半導体集積回路の外部に接続される半導体チップのプロセス状態を検出する。例文帳に追加

During a monitor mode, reference potential lower than normal is supplied to a reception circuit to determine a logical level of a transmission signal, so that the process state of the semiconductor chip connected outside the semiconductor integrated circuit is detected. - 特許庁

ニッケルやバナジウム、残留炭素分を比較的多く含む原油を処理して、後段の接触分解プロセスに原料を供給する原油処理システムを提供する。例文帳に追加

To provide a crude treatment system which treats crude containing a comparatively large content of nickel, vanadium, or carbon residue so as to supply a raw material to a downstream catalytic cracking process. - 特許庁

リフロープロセスによりピン挿入部品をはんだ付けする際において、はんだ供給量を確保することで、良好で高品質なはんだ付けが行え、実装の信頼性を向上させることができる。例文帳に追加

To ensure a solder supply amount to attain favorable and high-quality soldering to increase reliability of mounting in soldering a pin insertion component by a reflow process. - 特許庁

本方法はさらに、予めプログラムされたパラメータに応じて空洞（６８、７０）の少なくとも１つに供給されるプロセス副生ガス（４２）の流量を調整するステップを含む。例文帳に追加

Furthermore, the method includes a step of adjusting a flow rate of the rotor process by-product gas (42) supplied to the at least one of the rotor cavities (68, 70) according to pre-programmed parameters. - 特許庁

環境影響物排出量評価装置１は、原料タンク１０、ユーティリティ供給装置２０、および製品タンク３０に具備されたタグ６０から識別情報を取得して、対象となるプロセスを確定する。例文帳に追加

The environment-impacting matter emissions evaluation device 1 acquires identification information from tags 60 provided on feedstock tanks 10, utility supply devices 20, and product tanks 30, and decides a target process. - 特許庁

チャンバ１の頂部には、プロセスガス２５の供給部４が、内部には、半導体基板６を載置する回転式のサセプタ７と、チャンバ１の内壁を被覆する筒状のライナ２とがそれぞれ設けられている。例文帳に追加

A supply section 4 of a process gas 25 is formed on the top of the chamber 1, and a rotatable susceptor 7 for placing a semiconductor substrate 6 and a cylindrical liner 2 for covering the inner wall of the chamber 1 are formed in the inside, respectively. - 特許庁

比較部４３において、処理ガス供給周期パターンの演算結果と、プロセス結果に悪影響を与える参照結果が一致した場合、アラーム部４４からアラームが発せられる。例文帳に追加

In the comparator 43, an alarm is given from an alarm part 44 if the computational result of the process gas supply periodic pattern has agreed the reference result adversely-affecting the processing result. - 特許庁

集積用ブロック２に接続し得る弁本体３１にプロセスガスを供給し得る第１の流路３８、第２の流路３９と、パージ、若しくは排気用の第３の流路４２を形成する。例文帳に追加

A valve body 31 connected to a block 2 for accumulation is provided with a first flow passage 38 to feed gas, a second flow passage 39, and a third flow passage 42 for purge or exhaust gas. - 特許庁

一方、反応器２には、製鉄プロセスの副生物である鉄粉が供給され、流動床２ａ上に堆積し、流動床２ａの下側から吹き上げる排ガスと接触して、排ガス中のＣＯ_２を還元する。例文帳に追加

Meanwhile, the reactor 2 is supplied with iron powder of the by-product of an iron and steel making process, and reduces the CO_2 in the exhaust gas by contacting the iron powder with the exhaust gas blown up from the lower side of the bed 2a. - 特許庁

原料コストの低減、単結晶の品質の向上、るつぼに与えるダメージの低減、開閉機構の構造の簡易化、融液の液温の低下防止、原料供給プロセスの時間短縮を図る。例文帳に追加

To realize the reduction of the cost of a raw material, the improvement of the quality of a single crystal, the reduction of the damage to a crucible, the simplification of the structure of an opening/closing mechanism, and the reduction of the time for a raw material feeding process. - 特許庁

ここで、画像形成装置１の制御部は、プロセス部６０により転写される用紙の供給元に応じて、ＬＥＤ部５０が露光を開始するタイミング（露光開始タイミング）を決定する。例文帳に追加

At this time, the control part of the image forming apparatus 1 determines the timing of starting exposure (exposure start timing) by the LED part 50, according to the source of the paper to which the toner image is transferred by the process part 60. - 特許庁

これにより、ウェハ１０５の気相成長膜が成膜される全面に供給するプロセスガスの流量を調整し、ウェハ１０５全面における膜厚や不純物濃度の均一性を向上させることができる。例文帳に追加

Such an arrangement can adjust a flow rate of the process gas to be supplied to the whole surface on which a vapor phase deposited film of the wafer 105 is formed, improving the uniformity in film thickness and impurity concentration over the whole surface of the wafer 105. - 特許庁

常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。例文帳に追加

The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W. - 特許庁