「供給プロセス」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明は、浄水場の浄水プロセスの水質監視・制御システムとして、病原虫による感染を低減し、安全な飲料水の安定供給を可能とする浄水プロセスの監視装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for monitoring a water purification process, each of which is used as a water quality monitor-control system of the water purification process of a purification plant and by each of which safe drinking water can be supplied stably while decreasing the infection with pathogenic bacteria. - 特許庁

少なくとも１つの清浄化媒体をプロセス室（３）内に導入するための供給装置（６）と、清浄化媒体をプロセス室（３）から導出するための排出装置（２６，２７，２８）と、清浄化媒体の振動励起のための少なくとも１つの装置（２９）とが設けられているようにした。例文帳に追加

The apparatus is installed with a feeding device (6) for feeding at least one cleaning medium to a processing room (3) and discharging devices (26, 27, 28) for discharging the cleaning medium from the processing room (3) and at least one device (29) for exciting vibration of the cleaning medium. - 特許庁

さらに、チャンバー部品は、供給側から処理側までチャンバー素子を貫通して延在する流路を有し、この流路は、プロセス流体を受け入れるように構成された流入口と、このプロセス流体を分配するように構成された流出口とを有する。例文帳に追加

Further, the chamber component has a flow channel extending through the chamber element from the supply side to the processing side, and the flow channel has an inflow port formed to receive the process fluid and an outflow port formed to deliver the process fluid. - 特許庁

そこへプロセスガスとして、ヘリウムで希釈したモノシランをプロセスガス導入口８から供給し、図１の奥行き方向に延びたライン状に反応種（酸素ラジカルおよびモノシラン）を接触させ、ステージ２を図１の右方向に搬送する（往路）ことにより基板９全面に成膜を行う。例文帳に追加

There monosilane diluted with helium from a process gas inlet port 8 is supplied, as process gas, and reactive seeds (oxygen radical and monosilane) are brought into contact with the line-form one extending in the direction of its depth, and a stage 2 is carried right (forward trip), whereby a film is grown over the entire surface of the substrate 9. - 特許庁

処理チャンバ（１００）と、前記処理チャンバ内に設けられた基板ホルダ（１２０）と、前記処理チャンバ（１００）に、第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスを供給するように構成されたガス注入装置（１４０）とを含む、原子層堆積（ＡＬＤ）を実行する処理システム（１００）。例文帳に追加

A processing chamber (100) for performing atomic layer deposition (ALD), a substrate holder (120) provided within the process chamber, and a gas injection system (140) configured to supply a first process gas and a second process gas to the process chamber (100) are included in the subject apparatus. - 特許庁

本発明は、液体プロセスを実施する複数の負荷に供給される流体圧力とポンプの供給圧力との差が最小となるようにポンプの供給出力を制御することで、各負荷に供給されるそれぞれの流体流量を調整する流体流量調整手段により生じる差圧を最小限に抑えてエネルギー損失を低減することが出来る流体プロセスの運転方法及び流体プロセス装置を提供することを可能にすることを目的としている。例文帳に追加

To provide an operation method of fluid process and a fluid process apparatus capable of suppressing a difference pressure produced by a fluid flow adjusting means for adjusting respective fluid flows supplied to respective loads and reducing an energy loss by controlling a supply output of a pump so as to minimize the difference between a fluid pressure supplied to a plurality of loads to be subjected to the fluid process and the supply pressure of the pump. - 特許庁

液塗布処理プロセスから回収された使用済シンナーを精製し、シンナー中の不純物の濃度を適正範囲内に調節して液塗布処理プロセスに再び供給する装置であって、不純物濃度を高精度に検出でき、十分に濃度管理されたシンナーを供給し得ると共に、シンナーの回収率を高めることが出来るシンナーのリサイクル供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thinner recycling supply apparatus for refining used thinner recovered from a solution coating process, adjusting the concentration of an impurity in the thinner to a proper range, and resupplying the refined thinner to the solution coating process, which supply apparatus detects an impurity concentration highly precisely to supply thinner under sufficient concentration control, and improves a thinner recovery rate. - 特許庁

本発明では、電子写真方式の画像形成プロセスを利用した画像形成装置において、像担持体１１上に潤滑剤３４を供給する潤滑剤供給手段３３を備え、少なくとも潤滑剤供給手段３３と、画像形成プロセスに用いられる消耗品のうち最短寿命である部品とを一体化した。例文帳に追加

The image forming device using the image forming process of an electrophotographic system is provided with a lubricant supplying means 33 supplying lubricant 34 on the image carrier 11, and at least the lubricant supplying means 33 and a part whose life is the shortest out of the lives of consumables used in the image forming process are integrated. - 特許庁

単独運転への切り替え時に助燃バーナを安定燃焼させ、プロセス蒸気を安定して供給することができるコージェネレーションプラントを供給する。例文帳に追加

To provide a cogeneration plant capable of stably supplying process steam by carrying out stable combustion of a stabilizing burner when switching to single operation. - 特許庁

次に、窒素ガス供給管３４によって形成される管路を通して窒素ガスをプロセスチューブ４８内に供給し、水蒸気を含まない窒素ガスのみの雰囲気中で半導体基板５４を加熱し、ボロンを拡散する。例文帳に追加

Then, nitrogen gas is supplied into the processing tube 48 through a pipeline formed of a nitrogen gas supply pipe 34, and the semiconductor substrate 54 is heated in an atmosphere of steam-free nitrogen gas to diffuse boron. - 特許庁

ボロンをドーピングした半導体基板５４が配置されたプロセスチューブ４８内に、純水供給管３３および導入管３２によって形成される管路を通して純水を供給する。例文帳に追加

Pure water is supplied into a processing tube 48 where a semiconductor substrate 54 doped with boron is arranged through a pipeline formed of a pure water supply pipe 33 and an introducing pipe 32. - 特許庁

供給点に続く改質器（４）において、燃料は水の存在下及びプロセス熱が供給される状態で少なくとも一部が一酸化炭素及び水素に触媒変換される。例文帳に追加

In a reformer connected to the supply point, at least part of the fuel is converted catalytically into carbon monoxide and hydrogen in the existence of water with process heat supplied. - 特許庁

そして、複数色のトナーＴは、新品状態のプロセスカートリッジ２０が装置本体の設置部に設置されてから、トナー供給部３２から現像部２３にそれぞれ供給される。例文帳に追加

Toners T in a plurality of colors are supplied from a toner supply section 32 to the developing section 23 after the new process cartridge 20 is installed in an installing section of the apparatus main body. - 特許庁

機械的エネルギーを電気ジェネレータに供給する原動機を有する電気ハイブリッド自動車両において、該ジェネレータらのパワーの供給を制御するための、プロセス、装置、媒体および信号が開示される。例文帳に追加

To disclose a process, apparatus, medium and signal for controlling the supply of a power from a generator in an electric hybrid vehicle having a prime mover supplying mechanical energy to a generator. - 特許庁

そして、複数色のトナーＴは、新品状態のプロセスカートリッジ２０が装置本体の設置部に設置された後に、トナー供給部３２から現像部２３にそれぞれ供給される。例文帳に追加

Toners T in a plurality of colors are supplied from a toner supply section 32 to the developing section 23 after the new process cartridge 20 is installed in an installing section of the apparatus main body. - 特許庁

オプションではあるが、放出器がアニーリングプロセスにかけられ、それにより、電子供給層から陰極層まで突き抜ける電子の供給量を増加することが好ましい。例文帳に追加

Preferably but optionally, the emitter is subjected to an annealing process thereby increasing the supply of electrons tunneled from the electron supply layer to the cathode layer. - 特許庁

プロセスガスを負圧で供給することにより、半導体製造装置の稼働に要する電力以外に必要となる用役電力を低減できるガス減圧供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum gas feeder capable of reducing utility electric power needed in addition to electric power required for operating a semiconductor manufacturing apparatus, by feeding a process gas under negative pressure. - 特許庁

供給点（５）に接続される改質器（４）において、水の存在下及びプロセス熱が供給される状態において燃料が触媒変換されて少なくとも一部が一酸化炭素及び水素に変換される。例文帳に追加

In a reformer 4 connected to the supply point, the fuel is catalytically converted and at least part thereof is converted into carbon monoxide and hydrogen in the existence of water with process heat supplied. - 特許庁

液体原料を使用する半導体製造プロセスにおいて、液体原料に溶存する不活性ガスを容易に除去することが可能な液体原料の供給システム及び供給方法を提供する。例文帳に追加

To provide a supply system and supply method for liquid raw material which are capable of easily removing an inert gas dissolved in the liquid raw material in a semiconductor manufacturing process using the liquid raw material. - 特許庁

半導体処理装置の処理槽内に上部電極及び下部電極を備え、また、処理槽内にプロセスガスを供給するためのガス供給器を備え、上記両電極間にプラズマを発生して半導体試料を処理する。例文帳に追加

This semiconductor treating apparatus comprises upper and lower electrodes 13, 12 in a treating tank 11 and a gas feeder 20 for feeding a process gas in the treatment tank 11, to generate a plasma between the electrodes 12, 13 for treating a semiconductor sample 15. - 特許庁

第１パルス期間に供給される第１反応物と、第２パルス期間に供給される第２反応物とを利用する原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスにより成膜する。例文帳に追加

Deposition is performed by an atomic layer deposition (ALD) process utilizing a first reactant provided during a first pulse period and a second reactant provided during a second pulse period. - 特許庁

原料のプロセスチャンバへの供給量を高精度で制御することができるＭＯＤＶＣ法による半導体製造に使用する原料気化供給装置を提供する。例文帳に追加

To provide a material vaporization supply apparatus which can accurately control the supply quantity of material to a process chamber, and is used for semiconductor manufacture by MODVC method. - 特許庁

流出口を通してトナー供給室から現像剤収容室へ供給されるトナーの量の偏りを流出口の範囲で抑制することができる現像器、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を得る。例文帳に追加

To provide a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus, suppressing an imbalance in the amount of toner supplied from the toner supply chamber to the developer storage chamber through an outflow opening in the range of the outflow opening. - 特許庁

ブラシ状回転部材によって固形潤滑剤から削り取られた潤滑剤が効率的に無駄なく像担持体上に供給される、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device that effectively supplies a lubricant scraped off from a solid lubricant by a brush-shaped rotary member on an image carrier, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus. - 特許庁

プロセスカートリッジ２は、静電潜像を形成する像担持体１０を内蔵した像担持体ユニット１１と、像担持体ユニット１１に現像剤を供給するための現像剤供給ユニット９とを備える。例文帳に追加

The process cartridge 2 includes an image carrier unit 11 which contains an image carrier 10 on which an electrostatic latent image is formed, and a developer supply unit 9 which supplies developer to the image carrier unit 11. - 特許庁

比較的簡易な構成で、像担持体への潤滑剤の供給が経時においても確実に安定的におこなわれる、潤滑剤供給装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、転写装置、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device, a cleaning device, a process cartridge, a transfer device and an image forming apparatus for surely and stably supplying a lubricant to an image carrier even with the lapse of time with a relatively simple configuration. - 特許庁

比較部４３において、パターン演算部４２からの処理ガス供給周期パターンの演算結果と、記憶部４５からのプロセス結果に悪影響を与える処理ガス供給周期パターンの参照結果とが比較される。例文帳に追加

A comparator 43 compares computational result of the process gas supply periodic pattern from the pattern operation part 42 with reference result of the process gas supply periodic pattern adversely-affecting the processing result from a memory 45. - 特許庁

粉体の凝集が抑えられた粉体供給装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置、粉体供給方法、および画像形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a powder supply device which prevents aggregation of powder, and to provide a process cartridge, an image forming apparatus, a powder supply method, and an image forming method. - 特許庁

プラズマ生成手段８にて生成されたプラズマにより励起されたプロセスガスは、ガス供給手段９により被処理基板Ｓの側方から被処理基板Ｓに向けて放出されてエッチング面に供給される。例文帳に追加

Processing gas, excited by plasma generated by a plasma generation means 8 is discharged to the substrate to be processed S from the side of the substrate to be processed S by a gas supply means 9 and is supplied to an etching face. - 特許庁

第一ゾーンは連続式蒸解缶１１へスラリーを供給する供給システム１２（独立した浸透槽を含んでいてもよい）であり、蒸解プロセスは連続式蒸解缶１１で行われるのが好ましい。例文帳に追加

The 1st zone is a feeding system 12 (optionally including an independent impregnation tank) to supply the slurry to a continuous digester 11 and the digestion process is preferably carried out in the continuous digester 11. - 特許庁

供給用トナーボックス４２及び補充用トナーボックス５０はそれぞれプロセスカートリッジ４０に対して着脱自在に装着されており、供給用トナーボックス４２と補充用トナーボックス５０とはそれぞれ交換自在である。例文帳に追加

The box 42 and the box 50 are freely attachably/detachably mounted in the process cartridge 40, and the box 42 and the box 50 are freely replaceable. - 特許庁

像担持体上に適量の潤滑剤がムラなく薄層化されて供給される、潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant supply device by which an appropriate amount of evenly thin-layered lubricant is supplied onto an image carrier, a process cartridge, and an image forming apparatus. - 特許庁

ドーパントガス供給ライン４０とバイパスライン５０の接続部下流にミキサ５１を設置し、流量調整器４２、開閉弁４４を経由して反応管へのプロセスガス供給ライン１５に接続する。例文帳に追加

A mixer 51 is set at the downstream of the connecting part of a dopant gas feed line 40 and the by-pass line 50, and connected through a flow rate controller 42 and a stop valve 44 to a treatment gas feed line 15 to a reaction tube. - 特許庁

処理ガスを層流の形でプロセス空間に、被処理基板表面に沿って吐出する処理ガス供給ノズルの一端に、ベントラインを接続し、他端から処理ガスあるいはパージガスを供給する。例文帳に追加

A vent line is connected to a one end of the treated gas supply nozzle which discharges a treated gas along the surface of the substrate to be processed into the process space in the shape of a laminar flow, and the treated gas or purged gas is supplied from the other end. - 特許庁

潤滑剤供給装置を大型化させることなく、経時で潤滑剤加圧力の変化しない潤滑剤供給装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lubricant feeder which prevents lubricant pressurizing force from changing with the lapse of time, without increasing the size of the lubricant feeder, a process cartridge, and an image forming apparatus. - 特許庁

本発明のプロセスガス供給ユニット１は、逆止弁３、パージ弁４、遮断機能付きレギュレータ５、マスフローコントローラ６、及びガス供給弁７を、流路の形成された一つのベースブロック２に搭載したもの。例文帳に追加

This process gas supply unit 1 constituted by mounting a check valve 3, a purge valve 4, regulator 5 with a cut-off function, a mass flow controller 6 and a gas supply valve 7 on one base block 2 formed with a passage. - 特許庁

前記プロセスガス供給管路２内に、水供給管路５から送られて来る水を流量コントロール弁８にて適宜量の規制制御したのち水噴射ノズル４から噴出する。例文帳に追加

Water fed from a water supply conduit 5 is controlled to be specified in a suitable amount via a flow rate control valve 8 in the conduit 2, and then injection from a water injection nozzle 4. - 特許庁

次に、純水供給管３３に接続された排出ガス導入部３５に窒素ガスを供給することによって、純水供給管３３および導入管３２によって形成される管路に窒素ガスを供給し、管路内に残留する純水をプロセスチューブ４８内に排出する。例文帳に追加

Then, nitrogen gas is supplied to an exhaust gas introducing pipe 35 connected to the pure water supply pipe 33, whereby nitrogen gas is supplied to the pipeline formed of the pure water supply pipe 33 and the introducing pipe 32 to discharge pure water left in the pipeline into the processing tube 48. - 特許庁

トナー供給回収装置１００は、例えば、電子写真プロセス部１６（ＯＰＣ）側に供給トナー４を供給するトナー供給系６００とブレード１により回収したトナー３を回収するトナー回収系５００と、これ等の両系が連結される容器９００等とからなる。例文帳に追加

The toner supply and recovery device 10 consists, for example, of a toner supply system 600 to supply toner 4 to be supplied to the side of an electrophotographic process part 16 (OPC), a toner recovery system 500 to recover toner 3 to be recovered which is recovered by a blade 1 and a container 900, etc., in which both systems are linked. - 特許庁

減圧プロセスを伴う液化ガスの供給において、減圧手段での結露やガスの再液化やミスト等の発生を防止し、流量範囲を限定せず小流量から大流量までを安定供給可能な供給システムおよび供給方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a system and a method capable of stably feeding a liquefied gas ranging from a small flow rate to a large flow rate without limiting a flow rate range by preventing dewing, re-liquefaction of gas, and mist from occurring in a decompression means in the supply of the liquefied gas requiring a decompression process. - 特許庁

露光装置は、プロセスガスより生成されたプラズマを供給可能な第１供給口を有し、第１供給口から供給されたプラズマと洗浄対象部材とを接触させて、洗浄対象部材をクリーニングするクリーニング装置を備えている。例文帳に追加

The exposure apparatus includes a cleaning device which has a first supply port capable of supplying a plasma produced from a process gas, and cleans a member to be cleaned by bringing the plasma supplied from the first supply port into contact with the member to be cleaned. - 特許庁

ボンドステージ１３に、入口フィーダ１１から供給されたワーク２を待機させる供給側バッファ領域１０１と、ボンディング中のワーク２が配置されるプロセス領域１０２と、プロセス領域１０２でボンディングが完了したワーク２を待機させる排出側バッファ領域１０３を設定する。例文帳に追加

On the bonding stage 13, a supply-side buffer region 101 where the workpiece 2 supplied from an entrance feeder 11 is made to stand by, a process region 102 where the workpiece 2 being bonded is arranged, and an ejection-side buffer region 103 wherein the workpiece 2 having being bonded in the process region 102 is made to stand by are set. - 特許庁

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。例文帳に追加

In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process. - 特許庁

成膜装置１０は、反応チャンバ１２内に設けられた平行平板型電極１６、２２と、ＳｉＨ_4、ＳｉＦ_4および酸素ソース物質を含むプロセスガスを反応チャンバ１２内に導入するためのガス供給源２０、３２、３４、バルブ３６、３８、４０、およびガス混合室２８と、プロセスガスのプラズマを生成するためのＲＦ電力を供給する電力源４４と、を備える。例文帳に追加

This film forming equipment 10 includes parallel plate electrodes 16, 22 provided in a reaction chamber 12, gas supply sources 20, 30 for introducing process gases containing SiH4, SiF4, and an oxygen source substance into the reaction chamber 12, valves 36, 38, 40, a gas mixing chamber 28 and a power source 44 for supplying RF power to generate plasma of the process gases. - 特許庁

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。例文帳に追加

The immersion lithography apparatus includes: a working stage arranged to retain a workpiece; a projection system for projecting an image pattern; a fluid-supplying unit for providing an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece during an immersion lithography process; and a cleaning device to clean the optical element during a cleaning process. - 特許庁