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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 冷プラズマに関連した英語例文

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冷プラズマの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 295



例文

ワークの却効果に優れ熱ダメージのない安定したプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plasma treatment device which is capable of effectively cooling down a work and stably carrying out a plasma treatment for the work, without causing thermal damages to it. - 特許庁

プラズマを吹出すプラズマ発生ノズル31が導波管10に複数並設される場合に、プラズマの発生によって高温になる該プラズマ発生ノズル31を、全体を一括して、或いは幾つかのグループに分けるなどして、複数のプラズマ発生ノズル31に纏めて共通の却配管91を引回して却する。例文帳に追加

When a plurality of plasma generating nozzles 31 which blow out plasma are juxtaposed in a waveguide 10, the plasma generating nozzles 31 which become high in temperature due to plasma generation are lumped together in a plurality of plasma generating nozzles 31 as a whole in one package or divided or the like into several groups, and cooled by laying a common cooling piping 91. - 特許庁

半導体製造装置用の却装置と同却装置を備えたプラズマエッチング装置例文帳に追加

COOLING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING APPARATUS, AND PLASMA ETCHING APPARATUS HAVING THE COOLING APPARATUS - 特許庁

第一壁17はプラズマからの表面熱負荷を却基板20で却する。例文帳に追加

A first wall 17 cools surface thermal load from plasma by a cooling substrate 20. - 特許庁

例文

基板を十分に却することができる却装置およびプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a cooler capable of sufficiently cooling a substrate, and a plasma treatment apparatus. - 特許庁


例文

エッチング時にプラズマエッチング用電極板がプラズマ消耗しても、プラズマエッチング用電極板と却板との密着性が充分に保たれ、しかも電極板の平面度が小さいため、結果として、エッチング特性が向上してシリコンウェハーの歩留まりがよくなるというプラズマエッチング用電極板及びそれを装着したプラズマエッチング装置の提供。例文帳に追加

To provide an electrode plate for plasma etching improving etching characteristics and improving the yield of a silicon wafer, by fully keeping the adhesion of the electrode plate for plasma etching and a cooling plate and reducing the flatness of the electrode plate, even if the electrode plate for plasma etching is plasma consumed at the time of etching, and to provide a plasma etching device on which the same is mounted. - 特許庁

却およびエアコンディショニングにおける使用のための金属表面のプラズマ重合による改良例文帳に追加

PLASMA POLYMERIZATION ENHANCEMENT OF SURFACE OF METAL FOR USE IN REFRIGERATING AND AIR CONDITIONING - 特許庁

したがって、プラズマ処理中の半導体ウエハ150の却効率を向上させることができる。例文帳に追加

As a result, cooling efficiency of the semiconductor wafer 150 can be enhanced during plasma processing. - 特許庁

プラズマ性と被吸着物の却性能に優れた静電チャックを提供する。例文帳に追加

To provide an electrostatic chuck excellent in plasma resistance and in cooling performance of an article to be adsorbed. - 特許庁

例文

トーチは純水のような媒、プラズマガスまたはガス混合物、および電流を供給される。例文帳に追加

A refrigerant such as pure water, plasma gas or gas mixture, and current are supplied to the torch. - 特許庁

例文

容量結合プラズマリアクタにおいて、ウェハ支持体を均一な温度で却する方法例文帳に追加

METHOD OF COOLING WAFER SUPPORTER AT UNIFORM TEMPERATURE IN CAPACITIVELY COUPLED PLASMA REACTOR - 特許庁

却水を流している配管部分からの漏水を防ぐプラズマ発生装置の提供。例文帳に追加

To provide a plasma generation system for preventing leakage of water from a piping section where a cooling water flows. - 特許庁

プラズマチェンバを均一に却して、ミラーコイルの発熱による永久磁石の減磁を防止する。例文帳に追加

To uniformly cool a plasma chamber, thereby preventing demagnetization of a permanent magnet due to heating of mirror coils. - 特許庁

シールドキャップを十分に却する機能を備えたプラズマトーチを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma torch provided with a function to sufficiently cool a shield cap. - 特許庁

ウエハを均一に却することにより、ウエハを効率的にプラズマ処理する。例文帳に追加

To perform plasma processing of a wafer efficiently by cooling the wafer uniformly. - 特許庁

この空洞40は、プラズマ生成容器6の近傍まで媒48を流してプラズマ生成容器6を却する媒流路になっている。例文帳に追加

The cavity 40 serves as a flow path of a cooling medium 48, through which the cooling medium 48 is passed to the vicinity of the plasma generating container 6 to cool the plasma generating container 6. - 特許庁

機器周辺への電磁波の遮蔽、或いはその却をしながらプラズマの温度低下によるイオン生成量の低下を防止し、プラズマの温度を高温に維持して試料のイオンを質量分析計に導入することを可能としたプラズマイオン質量分析装置と分析方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma ion mass spectrometry device and method which enables introduction of sample ion to a mass spectrometer by maintaining plasma temperature high as well as preventing degradation of ion generation volume due to plasma temperature fall while carrying out shielding of electromagnetic wave from the surroundings of an apparatus or cooling it. - 特許庁

プラズマチェンバ16の外側に配設したミラーコイル12及び永久磁石14により、ミラー磁場を発生させ、プラズマチェンバ内にプラズマを封じ込めて、そこからイオンを発生させるようにしたイオン源において、ミラーコイルと永久磁石の間に、薄い却ジャケット50を配設する。例文帳に追加

In an ion source where by mirror coils 12 and permanent magnets 14 arranged on the outside of a plasma chamber 16, a mirror magnetic field is generated, plasma is confined into the plasma chamber 16 and ions are generated from the chamber, a thin cooling jacket 50 is arranged between the mirror coils and the permanent magnets. - 特許庁

第1巻出巻取ローラ2_1から却ドラム3を介して第2巻出巻取ローラ2_2にフィルム状基材aを搬送しつつ、プラズマ発生ユニット6によりフィルム状基材aの表面にプラズマ処理を施す前プラズマ工程を行う。例文帳に追加

While conveying a film-shaped base material a from a first winding roller 2_1 to a second winding roller 2_2 via a cooling drum 3, a pre-plasma process is performed by performing plasma processing on a surface of the film-shaped base material a by a plasma generation unit 6. - 特許庁

噴霧室空部4bからのクーラントガスが、プラズマトーチ7の石英管7cに送られ、補助ガスが石英管7bに送られ、プラズマトーチ7の先端でプラズマが発生し、その発光が分光器8で分光され、データ処理部9のデータが表示部10で表示される。例文帳に追加

The coolant gas from the air-cooling part 4b is sent to a quartz tube 7c in a plasma torch 7, an auxiliary gas is sent to a quartz tube 7b, a plasma is generated at the tip of the plasma torch 7, its emission is spectrally diffracted by a spectroscope 8, and data in a data processing part 9 is displayed on a display part 10. - 特許庁

プラズマ電極25が熱膨張した後に却するときに、絶縁部材13がプラズマ電極のテーパ部25aによって締め付けられて絶縁部材13に割れや欠けを生じることのないプラズマミグ溶接トーチ24を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma mig welding torch 24 capable of preventing the occurrence of cracking or chipping in an insulating member 13 due to fastening of the insulating member 13 by a tapered part 25a of a plasma electrode when the plasma electrode 25 is cooled after thermal expansion. - 特許庁

したがって、広い面積のワークに均等なプラズマ照射を行うことができるとともに、前記空間でプラズマ却を抑え、比較的長い時間プラズマを生存させることができ(消失する割合が小さくなり)、照射効率を高めることができる。例文帳に追加

Accordingly, the even plasma irradiation can be carried out on the workpiece of a large area, and cooling of the plasma can be suppressed in the space, the plasma can be arranged to survive for a comparatively long period of time (disappearing percentage is reduced), and irradiation efficiency can be enhanced. - 特許庁

マイクロ波吸収液体を利用したマイクロ波プラズマ・システム用の液体プラズマ・アプリケータおよび液体却誘電体窓の提供。例文帳に追加

To provide a liquid-cooling plasma applicator for a microwave plasma system using a microwave-absorbing liquid, and a liquid-cooling dielectric window. - 特許庁

プラズマ処理に用いられるプラズマを発生するための電極を構成する却ブロックにおいて、電極に要求される機能を満たしながら、腐食を抑えて、使用寿命の長い却ブロックを提供すること。例文帳に追加

To provide a long life cooling block capable of meeting the requirements of an electrode, and preventing corrosion as a cooling block configuring a plasma generation electrode for plasma treatment. - 特許庁

フィルム却開口の上流に設置したプラズマ発生器は、フィルム却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを生成するために使用される。例文帳に追加

A plasma generator installed on the upstream side of the film cooling opening is used for generating plasma covering the film cooling opening and extending in the downstream direction. - 特許庁

フィルム却開口の下流に設置したプラズマ発生器は、該フィルム却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを生成するために使用される。例文帳に追加

A plasma generator 2 installed on the downstream of the film cooling opening is used for generating plasma covering the film cooling opening and extending in the downstream direction. - 特許庁

ケーシング内部の却を行うのに、プラズマディスプレイの厚さを大きくしたり騒音を発生させたりすることなく、しかも、製品コストの低廉化を図ることが出来るプラズマディスプレイの却構造を提供する。例文帳に追加

To provide a cooling structure of a plasma display which can decrease a product cost without increasing the thickness of the plasma display and making a noise in order to cool the inside of a casing. - 特許庁

このように構成したプラズマ式溶融炉は、炉体1内の高温の雰囲気ガスや塵埃が、却されて表面温度が低いプラズマトーチ2にほとんど接触しなくなるので、プラズマトーチ2が確実に保護できるのみならず、プラズマトーチ2に吸収される熱量が大幅に低減して入熱効率が高まる。例文帳に追加

Since the high temperature atmospheric gas or dust in the furnace body 1 hardly comes into contact with the cooled plasma torch 2 having a low surface temperature, not only the plasma torch 2 can be securely protected but also the heat quantity absorbed by the plasma torch 2 is greatly reduced and the heat input efficiency is enhanced. - 特許庁

高電圧型の直流(DC)プラズマガンを用いて層流の熱プラズマを発生させ、当該熱プラズマに、予熱したセラミック原料を概ね直交した粉末供給口から投入して溶融後、却固化する方法であって、捕集手段にガスを吹き込んで、該熱プラズマを通過したセラミック原料を捕集することを特徴とするセラミックビーズの製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing ceramic beads includes: generating a laminar-flow thermal plasma using a high voltage type direct current (DC) plasma gun; charging a preheated ceramic raw material into the thermal plasma from a powder supply port substantially perpendicular to the thermal plasma; melting; and solidifying by cooling, wherein the ceramic raw material passed through the thermal plasma is collected by blowing a gas into a collecting means. - 特許庁

プラズマ処理装置1は、誘電体窓3を却する却流路21と、外部機構10を却する外部却流路27を備える。例文帳に追加

The plasma treatment device 1 includes a cooling passage 21 for cooling the dielectric window 3, and an external cooling passage 27 for cooling an external mechanism 10. - 特許庁

電極先端を却水によって却するプラズマ加熱用トーチであって、前記却水が通る却水通路内面にメッキを施したこと。例文帳に追加

In a torch for heating plasma of which a leading end is cooled by water, an inner surface of cooling water passage is plated. - 特許庁

コバルト原料、珪素原料を含む原料体を、プラズマアーク発生装置を用いて、該原料体をプラズマアークで蒸発させ、蒸発させたコバルトおよび珪素を酸化、却することを特徴とする。例文帳に追加

A material body containing cobalt and silicon materials is evaporated with plasma arc from a plasma arc generator and the evaporated cobalt and silicon are oxidized and cooled. - 特許庁

凝集反応を用いて行うマイコプラズマ感染症の診断を、光学的手段を用いることにより、短時間でしかも高い精度をもって行うことができるマイコプラズマ感染症診断技術を提供する。例文帳に追加

To provide a mycoplasma infectious disease diagnostic technique capable of executing diagnosis of a mycoplasma infectious disease executed by using a cold agglutination reaction, by using an optical means in a short time with high precision. - 特許庁

放電空間8にエージング放電を発生させるエージング工程を含むプラズマディスプレイパネル1の製造方法であって、エージング工程の実施中に、プラズマディスプレイパネル1を強制却する。例文帳に追加

A manufacturing method of the plasma display panel 1 includes an aging process generating an aging discharge in a discharging space 8, and the plasma display panel is compulsively cooled during the aging process. - 特許庁

プラズマディスプレイ装置について、プラズマディスプレイパネルにおける前面側ガラス基板の積極的な却を実用的な構造で効果的に行えるようにする。例文帳に追加

To effectively perform, as to a plasma display device, positive cooling of a front-side glass substrate in a plasma display panel with a practical structure. - 特許庁

そのプラズマ装置は、所定の電極供給機と却システムとを有するプラズマトーチ、粉末供給機、粉末を収集するチャンバー、及び、除塵システムを備える。例文帳に追加

The plasma device is provided with a plasma torch having a prescribed electrode supplying machine and a cooling system, a powder supplying machine, a chamber for collecting the powder and a dust removing system. - 特許庁

上流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。例文帳に追加

A method for operating the upstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction. - 特許庁

下流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。例文帳に追加

A method for operating the downstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction. - 特許庁

半導体基板を十分な静電保持力で保持するとともに、半導体基板の却効率を向上させることができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for plasma processing, in which a semiconductor substrate is held with a sufficient electrostatic holding force and a cooling efficiency of the substrate can be improved. - 特許庁

絶縁性基板を静電的に吸着する静電チャックと基板との間に供給される却ガスのリークを抑えることができるプラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing method and a plasma processing device which allow the suppression of leak of a cooling gas supplied to between an electrostatic chuck for electrostatically attracting an insulative substrate and the substrate. - 特許庁

プラズマ処理中に、ワークやワークが載置される下部電極部のブロックを効果的に却することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plasma treatment apparatus which can effectively cool down a work or a block of a lower electrode, on which a work is loaded during plasma treatment. - 特許庁

吸着部材(2) の再生処理後の再生空気をプラズマ触媒の分解処理に適した温度に却した後、該プラズマ触媒での分解処理を行う。例文帳に追加

The regenerating air for the adsorbing member (2) after regenerating the member is cooled to a temperature proper to the decomposition treatment by the plasma catalyst, and then the air is decomposed by the plasma catalyst. - 特許庁

本発明は被処理物である基板に成膜、ドライエッチングなどのプラズマプロセスを行うプラズマプロセス用装置に関し、ステージ却機構の小型化及び低コスト化を図ることを課題とする。例文帳に追加

To provide a small, low-cost stage cooling mechanism for a plasma processing apparatus, which performs such plasma processing as filming or dry-etching a substrate that is an object to be processed. - 特許庁

しかも、バーナ照射による加熱処理に比してシュラウドチューブ18の温度上昇が小さいプラズマ処理の採用により、プラズマ処理後に必要な却時間を十分に短いものとする。例文帳に追加

And by adopting the plasma processing, in which a temperature rise of the shroud tube 18 is smaller as compared with heat-treatment by burner irradiation, cooling time required after the plasma processing can be short enough. - 特許庁

この発明は、プラズマディスプレイ装置が横置きで使用される場合でも、縦置きで使用される場合でも、却ファンの騒音を低く抑えることができるプラズマディスプレイ装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plasma display device in which noise to be generated in a cooling fan is suppressed even when the plasma display device is used in a horizontal position or in a vertical position. - 特許庁

ガスクロマトグラフにより分離された高沸点の試料を却や凝縮なしに誘導結合プラズマ質量分析装置へと導入可能なプラズマトーチの提供。例文帳に追加

To provide a plasma torch introducible into an inductivity coupled plasma mass spectrometer without cooling or condensing a high boiling point sample separated by a gas chromatograph. - 特許庁

プラズマディスプレイ装置を回転して駆動する場合にも、発熱素子の却が円滑になされるようにしたプラズマディスプレイ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma display apparatus configured in such a manner that smooth cooling of a heating element is smoothly performed even when the plasma display is driven in a rotated state. - 特許庁

プラズマの温度は、アンテナの周囲に却ガスを流すことによる熱ピンチ作用で更に高温なプラズマを安定に生成することが可能である。例文帳に追加

Regarding the temperature of the plasma, owing to a thermal pinch action by the flowing of cooled gas around the antenna, the higher temperature plasma can be stably generated. - 特許庁

有効波長領域(13.5nm近傍)のEUV光を発する励起準位の輻射却時間を実質的に短縮し、EUV光の高出力化を達成できるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma light source and a plasma light generating method that achieve higher output of EUV light by substantially shortening an emission cooling time of excitation level at which EUV light in an effective wavelength region (nearby 13.5 nm) is emitted. - 特許庁

例文

加熱効率および却効率に優れ、プラズマ処理後における被処理物の諸特性に悪影響が及ぶおそれがなく、製造コストも比較的少ないプラズマ処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus which is superior in heating efficiency and cooling efficiency, has no risk that various characteristics of a workpiece are adversely affected after a plasma processing and has comparatively low manufacture cost. - 特許庁

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