「冷プラズマ」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明によるプラズマＣＶＤ装置用電極は、互いに略平行に配置された複数の第１電極棒５０ａ、９０と、互いに略平行に配置された一対の第２電極棒５０ｂと、互いに略平行に配置された一対の冷却媒体供給棒５５とを備える。例文帳に追加

The electrode for a plasma CVD device is provided with: a plurality of first electrode rods 50a and 90 almost parallelly arranged each other; a pair of second electrode rods 50b almost parallelly arranged each other; and a pair of cooling medium feed rods 55 almost parallelly arranged each other. - 特許庁

本発明による薬剤を投与するための圧力投与容器は、貯蔵または投与の間に薬剤と接触する圧力投与容器の構成部材の内部側表面の少なくとも１以上の部分が、少なくともその一部に接合された１以上の冷プラズマ（cold plasma ）重合化モノマの層を有する。例文帳に追加

In the pressure administration vessel for administering drugs, at least one part of the inner surface of the constituents of the pressure administration vessel coming into contact with the drug during storage or at administration possesses one or more cold plasma polymerization monomer layer which is connected to at least a part thereof. - 特許庁

冷却ルツボへのシリコン原料の投入に伴ってシリコン原料がプラズマトーチと接触するのを防止し、溶融シリコンの金属不純物汚染を抑制するとともに、シリコン原料の融解を安定させることができるシリコンインゴットの電磁鋳造装置を提供する。例文帳に追加

To provide an electromagnetic casting apparatus of a silicon ingot, which prevents contacting of a silicon raw material with a plasma torch involved in charge of the silicon raw material in a cooled crucible, suppresses metal impurity contamination of a molten silicon, and can stabilize melting of the silicon raw material. - 特許庁

ロール電極の内部を流通する冷却液が、ロール電極を構成する部材どうしの接合面を通してロール電極の外面へ漏れ出たとしても、処理の安定性が損なわれるのを防止するプラズマ表面処理装置の提供。例文帳に追加

To provide a plasma surface treatment device preventing processing stability from being impaired even if cooling liquid circulating through the inside of a roll electrode leaks to an outer surface of the roll electrode through a joint surface between members constituting the roll electrode. - 特許庁

ＰＶＤ法やプラズマＣＶＤ法などによりシート状の基材表面に皮膜を形成するためのシート成膜装置において、水冷構造による構造複雑化を招来することなく、成膜処理等で生ずる熱による膨張変形での各ロールの平行度の狂いを防止できるようになる。例文帳に追加

To prevent any deviation in parallelism of each roll in the expansion deformation caused by the heat generated during the film deposition processing without complicating a water-cooling structure in a sheet film deposition apparatus for forming a coating film on a surface of a sheet-like base material by the PVD method or the plasma CVD method. - 特許庁

エッジ部を有する各種ワークをプラズマ浸炭方法で浸炭を行う際、エッジ部と平坦部との炭素濃度の差が小さく、冷却時にエッジ部に生じる網状の炭化物の生成を抑制し、さらに特許文献１に記載の方法における課題も同時に解決すること。例文帳に追加

To provide a method for carburizing workpieces, when various workpieces having edge parts are subjected to carburizing by a plasma carburizing method, with which the difference in a carbon concentration between the edge parts and a flat part is reduced, and which suppresses the production of network carbides generated at the edge parts upon cooling, and further simultaneously solves the problems mentioned in the patent literature 1. - 特許庁

また、高速で回転するディスク１５に金属溶湯を落下させ、粉砕した微細金属液滴をプラズマ加熱装置により加熱された高温の雰囲気中に飛行させ、ナノサイズの微細金属液滴にさらに粉砕し、急冷却する。例文帳に追加

Further, the molten metal is dropped to the disk 15 rotating at high speed, the pulverized fine metal droplets are made to fly into a high temperature atmosphere heated by the plasma heating apparatus, and the fine metal droplets of nanosize are further pulverized so as to be rapidly cooled. - 特許庁

真空容器１の外に配置されたコイル６に高周波電力を印加し、真空容器１内にプラズマを発生させる装置にて、誘電体窓５の内部に設けられた冷温媒流路１１に水を流すことにより、誘電体窓５の温度を制御する。例文帳に追加

In an apparatus for generating plasma inside a vacuum vessel 1 by applying high-frequency electric power to a coil 6 disposed outside the vacuum vessel 1, the temperature of a dielectrics window 5 is controlled by allowing water to flow in a cold warm medium path 11 provided inside the dielectrics window 5. - 特許庁

冷却パイプ８に充填された液体又は液化ガスは、プラズマからの輻射によるチャンバードーム１の熱を吸収するため、クリーニング作業を行わずに複数のウェハに連続成膜してもチャンバードーム１の温度を一定に保持可能である。例文帳に追加

Since the liquid or the liquefied gas filled in the pipe 8 absorbs a hat of the dome 1 due to a radiation from the plasma, even if plurality of wafers are formed continuously without conducting cleaning works, the temperature of the dome 1 can be held constant. - 特許庁

特に銅の持続セルフスパッタリングあるいは低圧スパッタリング用に構成されたプラズマスパッタリングリアクタ１０であり、スパッタ堆積されるウェーハ１８を支持するぺデスタル１６は伝熱ガスを介してのウェーハ１８の裏面冷却あるいは加熱を含み、伝熱ガスはヘリウムである。例文帳に追加

A plasma sputtering reactor 10 is composed for the continuous self-sputtering or low pressure sputtering of copper in particular, a pedestal 16 supporting a wafer 18 to be sputter-deposited includes back face cooling or heating via heat transfer gas, and the heat transfer gas is composed of helium. - 特許庁

第１石英ガラス１５と第２石英ガラス２０との間に形成される空間部２１に冷却水が流されているので、第１石英ガラス１５は熱プラズマ等に基づく輻射熱による熱的影響を受けることがなく、第１石英ガラス１５表面には強酸が殆ど付着しない。例文帳に追加

Cooling water flows in a space part 21 formed between the 1st quartz glass 15 and 2nd quartz glass 20 and then, the 1st quartz glass 15 is prevented from the thermal effect due to the radiant heat based on the thermal plasma or the like and the strong acid is hardly stuck on the surface of the 1st quartz glass 15. - 特許庁

チャネル６８は、部材の内表面に沿って形成され、マイクロ波吸収冷却液を管の外表面上に運ぶために管の外表面を覆い、チャネル６８に隣接した媒体により、電界が管に入り、液体がチャネルを流れている間、管内にプラズマを持続させることが可能になる。例文帳に追加

The channel 68 is formed along the inner surface of the member, and covers the outer surface of the tube to carry a microwave-absorbing cooling liquid to the outer surface of the tube, whereby an electric field enters the tube by the medium adjoining to the channel 68, and plasma can be maintained in the tube while the liquid flows through the channel. - 特許庁

例えば、プラズマディスプレイパネルの焼成およびこれに続く徐冷を行う技術分野で使用される連続焼成炉であって、種々の温度プロファイルに対応でき、しかも、クリーンエアでなくて通常エアの使用を可能として、ランニングコストを低く抑えることができるものを提供する。例文帳に追加

To deal with a variety of temperature profiles, use ordinary air and not clean air, and minimize running costs in a continuous kiln used in technical fields such as carrying out baking and subsequent annealing of a plasma display panel. - 特許庁

絶縁碍子１０の熱引きによりキャビティ６０付近が冷却されてもヒータ７０により加熱して温度を維持することができるので、キャビティ６０内で形成されるプラズマの持つエネルギーの損失を抑制することができる。例文帳に追加

Even if a vicinity of the cavity 60 is cooled by heat reduction of the insulator 10, the temperature can be maintained by heating of the heater 70 so that a loss of energy in plasma formed in the cavity 60 can be controlled. - 特許庁

ブラウン管、プラズマディスプレー、蛍光表示管、魔法瓶などの真空容器において、真空容器とは別のチャンバー内でゲッター材を活性化させ、そのゲッター材を冷却後に真空容器内に搬送し、その後該真空容器の排気開口部の封止を行う。例文帳に追加

The getter material is activated in a chamber separate from a vacuum container such as a cathode ray tube, a plasma display, a fluorescent display tube, a thermos or the like and the activated getter material is fed in the vacuum container after cooling and the exhaust opening part of the vacuum container is sealed. - 特許庁

融点が１６００℃以上の２種以上の高融点金属元素が複合化した複合体を、還元性ガスを含む高温プラズマで溶解し、急冷凝固させて合金粉末とする微細合金粉末の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the fine powder of an alloy comprises the steps of: compounding two or more refractory metal elements having a melting point of 1,600°C or higher into a complex metal; melting it in high-temperature plasma containing a reducing gas; and rapidly solidifying the molten complex metal into the powder of the alloy. - 特許庁

機関温度が設定温度以下である場合の冷間始動時において（ステップ１０２）、燃料噴射を開始する前にプラズマ点火装置の放電を開始するモータリングを実施し（ステップ１０４）、モータリングの実施中には燃料噴射の開始後に比較して吸気量を減少させる（ステップ１０３）。例文帳に追加

In the cold starting when the engine temperature is the preset temperature or lower (Step 102), motoring is performing for starting discharge of the plasma igniter before starting fuel injection (Step 104), and an intake quantity is reduced more than after starting the fuel injection when performing the motoring (Step 103). - 特許庁

本発明による薬剤を投与するための圧力投与容器は、貯蔵または投与の間に薬剤と接触する圧力投与容器の構成部材の内部側表面の少なくとも１以上の部分が、少なくともその一部に接合された１以上の冷プラズマ（cold plasma ）重合化モノマの層を有する。例文帳に追加

A pressure-dispensing device is provided for dispensing medicament wherein at least a portion of one or more of the internal surfaces of components of the pressure-dispensing device which come into contact with the medicament during storage or dispensing has a layer of one or more cold plasma polymerized monomers bonded to at a least a portion thereof. - 特許庁

特にプラズマディスプレイ，液晶ディスプレイ，有機ＥＬディスプレイ等の平面型の画像表示装置において、ファンの騒音の増加を伴わず、薄型化した画像表示装置の表示パネルや各種基板，画像表示素子の冷却効率を向上させることを目的とする。例文帳に追加

To improve cooling efficiency of a display panel, various substrates, and an image display element in a thin-shaped image display device without increasing fan noise in a flat-type image display device, such as, in particular, a plasma display, a liquid crystal display, or an organic electroluminescent display. - 特許庁

例えば、プラズマディスプレイ，液晶ディスプレイ，有機ＥＬディスプレイ等の平面型の画像表示装置において、ファンの騒音の増加を伴わず、薄型化した画像表示装置の表示パネルや各種基板，画像表示素子の冷却効率を向上させることを目的とする。例文帳に追加

To improve the efficiency of cooling a display panel or various types of boards and image display elements of a thin image display apparatus without increasing noise of a fan in a flat image display apparatus such as a plasma display, a liquid crystal display, and an organic EL display. - 特許庁

プラズマ中のイオンの衝突によりターゲット材料２２に反りが生じると、膨出力により蓋板部２３はターゲット材料２２の反りに追従して膨出するため、蓋板部２３とターゲット材料２２は広い面積で接触し続け、冷却効率は低下しない。例文帳に追加

Since the cover plate part 23 expands by the expansion force following to a warpage of the target material 22 when the warpage occurs in the target material 22 by collision of ions in plasma, the cover plate part 23 and the target material 22 are kept in contact at a wide area, so that the cooling efficiency does not decrease. - 特許庁

この発明は、映像音声出力装置の出力音声の音量が小さいときに、冷却ファンによる騒音を小さくさせることができるようになるプラズマディスプレイパネルを備えた映像音声出力装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a video audio output device, equipped with a plasma display panel for lessening noise due to a cooling fan, when a sound volume of the video audio output device is small. - 特許庁

プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）１３の裏面に設けた冷却室１０と、この冷却室１０内に外気を導入するための吸気口２２と、前記冷却室１０内の空気を冷却室１０外に排出するための排気口２１と、前記冷却室１０内に設けられた膜３１と、この膜３１を駆動するための駆動装置３２とを少なくとも含むことを特徴とする。例文帳に追加

This plasma display panel(PDP) 13 includes at least a cooling chamber 10 disposed on the rear surface of the panel, an intake port 22 for introducing outdoor air into this cooling chamber 10, an air exit 21 for discharging the air in the cooling chamber 10 to the outside of the cooling chamber 10, a film 31 disposed within the cooling chamber 10 and a drive assembly 32 for driving this film 31. - 特許庁

ウエハ載置装置２０は、プラズマ処理を施すシリコン製のウエハＷを吸着可能な静電チャック２２と、この静電チャック２２の段差部２６に載置された保護リング３０と、静電チャック２２の裏面に配置された静電チャック冷却用の冷却板４０と、保護リング３０を冷却するための冷却用ガスを供給する冷却用ガス通路５０とを備えている。例文帳に追加

A wafer support device 20 includes an electrostatic chuck 22 capable of adsorbing a silicon wafer W as an object of plasma processing, a guard ring 30 mounted on a step 26 of the electrostatic chuck 22, a cooling plate 40 placed on a backside of the electrostatic chuck 22 for cooling the electrostatic chuck 22, and a coolant gas flow path 50 arranged to supply a flow of coolant gas for cooling the guard ring 30. - 特許庁

昇温抑制手段１００Ａは、プラズマ発生ノズル３１に供給される処理ガスＧを冷却する処理ガス冷却器１０１Ａと、チラーユニット１０２Ａと、処理ガス冷却器１０１Ａとチラーユニット１０２Ａとの間に設けられた冷却水ＣＷ１の経路１０３Ａ，１０４Ａと、処理ガス温度測定手段１０５Ａと、ガス温調回路９７とを備える。例文帳に追加

A temperature rise suppression means 100A comprises a treatment gas cooler 101A for cooling treatment gas G supplied to the plasma generating nozzle 31; a chiller unit 102A; passages 103A and 104A for cooling water CW1 provided between the treatment gas cooler 101A and the chiller unit 102A; a treatment gas temperature measuring means 105A; and a gas temperature control circuit 97. - 特許庁

プラズマトーチ（１０）内で、電極（８０）に冷却液を供給する電極冷却液通路（６０、８４、８５、８６および６４）と、ノズル（８８）に冷却液を供給するノズル冷却液水通路（５６、７０、９２、７２および６８）とが、並列つまり独立な水路として分離され、互いに電気的に絶縁されている。例文帳に追加

Within the plasma torch (10), an electrode coolant liquid passage (60, 84, 85, 86 and 64) which supplies coolant liquid to an electrode (80), and a nozzle coolant liquid passage (56, 70, 92, 72 and 68) which supplies coolant liquid to the nozzle (88), are provided separately as parallel or independent coolant liquid passages and are mutually electrically insulated from one another. - 特許庁

使用によりプラズマ加工機のトーチ１３に設けられている電極１５が消耗して貫通すると、電極１５を冷却するために注水管１１から注入されている冷却水が減少するので、冷却水を回収する排水管１７における冷却水の圧力および／または流量が低下する。例文帳に追加

When the electrode 15 provided in a torch 13 of the plasma machine is consumed and penetrated due to its use, since the cooling water charged from a water charging pipe for cooling the electrode 15 is reduced, the pressure and/or the flow rate of the cooling water in a water discharging pipe 17 for recovering the cooing water are reduced. - 特許庁

プラズマトーチ（１０）内で、電極（８０）に冷却液を供給する電極冷却液通路（６０、８４、８５、８６および６４）と、ノズル（８８）に冷却液を供給するノズル冷却液水通路（５６、７０、９２、７２および６８）とが、並列つまり独立な水路として分離され、互いに電気的に絶縁されている。例文帳に追加

In the plasma torch (10), an electrode coolant passage (60, 84, 85, 86 and 64) which supplies the coolant to an electrode (80), and a nozzle coolant passage (56, 70, 92, 72 and 68) which supplies the coolant to the nozzle (88) are provided separately as independent coolant passages which extend in parallel and are mutually electrically insulated from each other. - 特許庁

半導体ウエハに対して真空処理例えばプラズマ処理を行うにあたり、載置台を冷却し、ウエハと載置台との間に伝熱用ガスを介在させてウエハを冷却するようにしているが、この場合に載置台を冷却する冷媒のチラーユニットを小型化し、また伝熱用ガスの消費を抑えること。例文帳に追加

To make a chiller unit for a refrigerant cooling a mount base small- sized and to suppress the consumption of gas for heat conduction when the mount base is cooled and a semiconductor wafer is cooled by interposing the gas for heat conduction between the wafer and the mount base for vacuum treatment, e.g. plasma treatment to the semiconductor wafer. - 特許庁

熱輸送特性に優れる本発明のベーパチャンバは、コンピュータサーバのマルチプロセッサユニット（ＭＰＵ）などの冷却用途の他には、例えば大型の液晶やプラズマディスプレイといった、冷却にファンを用いた際の騒音が問題となるような機器においては、その静粛性を必要とする用途への適用も考えられる。例文帳に追加

The vapor chamber with the superior heat transport characteristic can be applied to cooling of a multiprocessor (MPU) or the like of a computer server, or application needing quietness in an apparatus wherein noise in using a fan for cooling becomes a problem such as a large liquid crystal or plasma display. - 特許庁

製造プロセスが簡便で、ハロゲンガスのウェーハレスプラズマクリーニングの耐久性が高く、ウェーハ冷却能力が高く、冷媒温度やプロセス温度の変化に対し安定な吸着離脱特性を得る事ができ、電極と金属プレート間の電気絶縁の信頼性が高い等を同時に解決する事ができる静電チャックを提供する。例文帳に追加

To provide an electrostatic chuck capable of obtaining a stable suction and release characteristics against a change in a refrigerant temperature or process temperature, with a simple manufacturing process, having a high durability of a waferless plasma cleaning of halogen gas, and having a high wafer cooling capability and high reliability in electric insulation between an electrode and a metal plate. - 特許庁

真空槽１１内の絶縁性基板Ｓ（基板Ｓ）を静電チャック１７に対して静電吸着し、且つ、基板Ｓの裏面と静電チャック１７の凹部１７ｃとによって形成される冷媒空間に該基板Ｓを冷却するヘリウムガスを供給しつつ、真空槽１１内にプラズマを生成して基板Ｓをエッチング処理する。例文帳に追加

The plasma processing method comprises: electrostatically attracting an insulative substrate S (substrate S) in a vacuum chamber 11 by an electrostatic chuck 17; and etching the substrate S by generating plasma in the vacuum chamber 11 while supplying helium gas for cooling the substrate S to a refrigerant space defined by the backside of the substrate S, and a reentrant 17c of the electrostatic chuck 17. - 特許庁

そしてこの目的を達成するために、本発明は基板１の電極６をプラズマクリーニングし、次にこの基板１の電極６を不活性ガス中において冷却し、その後大気中において電子部品２の突起電極５を導電性樹脂１４を介して前記基板１の電極６上に接続するものである。例文帳に追加

In this mounting method, the electrode 6 on the substrate 1 is subjected to plasma cleaning and then cooled in inert gas, and after that, in the air, the salient electrode 5 of the electronic component 2 is connected with the electrode 6 of the substrate 1 via conductive resin 14. - 特許庁

(1)鋳造材を５８０〜６４０℃にて３時間以上保持するアニール工程(2)アニール工程後、２００℃以下の温度にて加工率５０％〜９０％の塑性加工を行う冷間加工工程この高純度アルミニウム合金材の表面に陽極酸化皮膜が形成されてなる陽極酸化高純度アルミニウム合金材は、プラズマエッチング装置を構成する材料として好適である。例文帳に追加

An anodized high-purity aluminum alloy material obtained by forming an anodic oxide film on the surface of the above high-purity aluminum alloy material is suitable for use as a material constituting a plasma etching system. - 特許庁

原料ガスを導入して交流電圧を印加可能に構成された処理室３と、処理室内を原料ガスが導入されるガス導入室３２と、基板１０が配置される反応室３１と、に区画するシャワープレート５と、を備えたプラズマ処理装置１において、ガス導入室内に、冷却装置５０が設けられている。例文帳に追加

The plasma processing device 1 includes: a processing chamber 3 structured to introduce a material gas and allow an A.C. voltage to be applied; and a shower plate 5 for partitioning the inside of the processing chamber into a gas introduction chamber 32 for introducing the material gas therein, and a reaction chamber 31 for arranging a substrate 10 therein, wherein a cooling device 50 is arranged in the gas introduction chamber. - 特許庁

本発明の永久磁石の製造方法は、磁石の原料粉末を用意する工程（ａ）と、熱プラズマを用いて前記原料粉末を気相化した後、急冷によって凝縮させて複数の微粒子２を形成する工程（ｂ）と、複数の微粒子２を成形することにより、バルク状のナノ結晶磁石を作製する工程（ｃ）とを含む。例文帳に追加

The method for manufacturing a permanent magnet includes a step (a) for preparing material powder of a magnet, a step (b) to change the material powder into a gas by using a thermal plasma and to quench and condensate it to form a plurality of particulates, and a step (c) to manufacture a bulk of nano crystal magnet by molding the particulates 2. - 特許庁

組成成分が式：（１−ｘ）ＺｒＯ_２＋ｘＳｃ_２Ｏ_３（ｘ＝０．０５〜０．１５）で表される固体電解質の製造方法であって、焼結工程にスパークプラズマ法を用い、焼結過程における圧力が４０ＭＰａ以下であり、かつ冷却過程における圧力が１０〜１５ＭＰａであることを特徴とする、固体電解質の製造方法である。例文帳に追加

The method for the solid electrolyte the constituent of which is shown by a formula (1-x)ZrO_2+xSc_2O_3 (x=0.05 to 0.15), uses a spark plasma sintering for a sintering process, where the pressure during a sintering step is 40 MPa or less, and the pressure during a cooling step is 10 to 15 MPa. - 特許庁

インジウム化合物、及びＳｎ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｇａ、Ｓｉ及びＧｅからなる群から選択される２以上の元素を含有する化合物を含む懸濁液を調製し、前記懸濁液を熱プラズマ中に供給して気化混合物とし、前記混合物を冷却する酸化物導電性材料の製造方法。例文帳に追加

This is the manufacturing method of the oxide conductive material adjusts a suspension containing a compound composed of an indium compound and two or more elements selected from a group composed of Sn, Zn, Mg, Ni, Al, Ga, Si, and Ge, obtains a vaporized mixture by supplying the suspension into thermal plasma, and cools the mixture. - 特許庁

マイコプラズマ感染症の診断にあたり、投光部２により、患者の血清が採取収容された試験管１０に光を投射して、試験管１０内を透過した光を受光部３で電気的に検出して、この検出値（吸光度）から患者の血清中における寒冷凝集反応を光学的に調べる。例文帳に追加

In diagnosis of mycoplasma infectious disease, light is projected to a test tube 10 in which the serum of a patient is collected and stored by a floodlighting part 2, and light transmitted through the test tube 10 is electrically detected by a light-receiving part 3, and the cold agglutination reaction in the serum of the patient is optically examined from the detection value (absorbance). - 特許庁

原子炉の冷却水の浄化に使用した低レベル放射性物質を含有する廃イオン交換樹脂を、二酸化炭素および／または一酸化炭素の存在下にプラズマ処理し、廃イオン交換樹脂を分解して減容し、かつ放射性物質を蒸気圧の低い物質に変えて揮散を防止し、安定化する廃棄処理方法。例文帳に追加

A waste processing method comprising the steps of subjecting a waste ion exchange resin containing low-level radioactive materials used for purification of the coolant in a reactor to plasma treatment under the presence of carbon dioxide and/ or carbon monoxide, decomposing the waste ion exchange resin for the volume reduction, and converting the radioactive materials into materials having a low vapor pressure for the prevention of the vaporization thereof and the stabilization thereof. - 特許庁