「加熱板」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

フィルム加熱方式の加熱装置に用いられ、加熱体基板と該加熱体基板上に設けられた発熱体とを有する加熱部材に、熱伝導異方性を持たせる。例文帳に追加

At the heating member used for the heating device of a film heating method and having a heating body substrate and an exothermic body installed on the heating body substrate, an anisotropic heat conducting property is made to be possessed. - 特許庁

これによって被加熱物の上面を加熱した後の熱風は、被加熱物と熱風ガイド板との間を熱風吸込口に向かって強制的に流れ、その際輻射加熱ヒータによって再加熱されながら被加熱物の下面を加熱することになり、輻射加熱ヒータからの輻射熱とあいまって被加熱物の下面を効率よく加熱することになる。例文帳に追加

Since the hot air after heating the top face of the heated object forcibly flows between the heated object and the hot air guide plate toward the hot air suction port, and heats the lower face of the heated object while being reheated by the radiation heater, the lower face of the heated object can be efficiency heated together with radiation heat from the radiation heater. - 特許庁

シール材を介して一対の基板を貼り合せる貼合工程と、一対の基板を加熱する加熱工程と、一対の基板を加熱工程における加熱温度よりも低い温度で加熱しながら保管する加熱保管工程と、一対の基板間に液晶材料を配置する液晶配置工程と、を含む。例文帳に追加

The method includes a laminating step of laminating a pair of substrates across a sealing material, a heating step of heating the pair of substrates, a heating and storing step of storing the pair of substrates, while heating at a temperature lower than the heating temperature in the above heating step, and a liquid crystal disposing step of disposing a liquid crystal material between the pair of substrates. - 特許庁

ガラス板の曲げ型９が搬送される加熱炉１５と、該加熱炉内に配された輻射加熱装置とを備え、加熱炉１５の内壁面に固定配置された複数の第１加熱素子群３，８と、前記加熱炉の内壁面から離隔して配置された複数の第２加熱素子群２を備えた。例文帳に追加

This apparatus has a heating furnace 15 through which a glass plate bending mold 9 is conveyed therethrough and a radiative heater installed inside the furnace 15, and in addition, a plurality of first heating element groups 3, 8 fixedly disposed on the inner wall surface of the furnace 15 and a plurality of second heating element groups 2 disposed apart from the above-mentioned inner wall surface. - 特許庁

上面に厚手の金属板にてなる加熱板２を装着して密閉型箱体１を形成し、この箱体１内に隙間なくオイルを充填し、このオイルを加熱手段により加熱し、オイルを所定温度に保持し加熱板２を均一に加熱する加熱装置。例文帳に追加

A heating plate 2 made of a thick metal plate is mounted on the upper side of an enclosed box body 1 and oil is filled in the box body 1 leaving no unfilled space, and this oil is heated by a heating means and kept at a prescribed temperature so as to heat the heating plate 2 uniformly. - 特許庁

電波吸収体２を有する１対の加熱板１ａ，１ｂと、１対の加熱板１を所定の距離に離間する離間手段４とを有し、加熱板１間に被加熱物７を挟み込んで高周波電波を供給することで、被加熱物７を加熱調理するように構成した。例文帳に追加

This cooker has a pair of heating plates 1a and 1b having a radio wave absorber 2 and a separating means 4 for separating the pair of heating plates 1 at a predetermined distance, and is constituted to heat and cook a heating object 7 by supplying the high frequency radio wave by sandwiching the heating object 7 between the heating plates 1. - 特許庁

背面電子衝撃加熱装置は、加熱容器１の天板となっている加熱プレート２の背後からフィラメント９で発生した電子を加速して衝突させて同加熱プレート２を加熱するものである。例文帳に追加

The back surface electron bombardment heating apparatus accelerates electrons generated in filaments 9 and makes them collide with one another from behind the heating plate 2 which is the top plate of a heating container 1 to heat the heating plate 2. - 特許庁

加熱ゾーンをより正確に所望の温度へと加熱するため、過渡的加熱の強度は、各基板の導入後に、前の過渡的加熱における加熱挙動を入力として用いて再計算される。例文帳に追加

The intensity of transitional heating is recalculated after the introduction of each substrate by using the heating behavior of the previous transitional heating as an input in order to more accurately heat the heating zones to a desired temperature. - 特許庁

低アルカリガラスの被加熱体の吸収波長帯と加熱体の吸収、放射の波長帯域のマッチングがよく、清浄な加熱環境下で加熱が行えるガラス基板加熱装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an apparatus for heating a glass substrate which has a good matching between an absorbing wavelength band in a heated body of low alkali glass and a wavelength zone in the absorption and radiation of a heating body and which conducts the heating under a clean heating environment. - 特許庁

蓋体１４の下面を形成する蓋加熱板１５を誘導加熱する蓋加熱コイル１９と、鍋１２の側面部を誘導加熱する側面加熱コイル１８とを備える。例文帳に追加

The rice cooker includes a lid heating coil 19 for induction-heating a lid heating plate 15 forming the lower surface of a lid body 14, and a side surface heating coil 18 for induction-heating the side surface of a pot 12. - 特許庁

基板処理装置１に設けられた制御部５０は、各加熱周期において加熱部２４における各加熱器２４ａを予め設定された加熱器オン時間分だけ交互にオンとするよう各加熱器２４ａのオンオフをそれぞれ制御する。例文帳に追加

A control part 50 provided in the substrate processor 1 controls ON/OFF of each heater 24a, respectively, so as to alternately turn each heater 24a in the heating part 24 ON for preset heater ON time in each heating period. - 特許庁

誘導電流を利用してプリント配線基板等の被加熱対象を加熱して半田付けを行う際、被加熱対象の全体に対して均一な加熱を可能とする一括局所加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a batch-type local heating device capable of uniformly heating the whole of a target to be heated such as a printed circuit board when heating the target to be heated to solder it through the use of an induced current. - 特許庁

電気絶縁物で形成された天板上に載置された被加熱物を誘導加熱するための誘導加熱調理器に着脱可能に取り付けられた誘導加熱調理器用高温加熱装置。例文帳に追加

The high temperature heating device for the induction heating cooker is detachably mounted on the induction heating cooker for induction-heating an object to be heated made of electrically insulated substance put on a top plate. - 特許庁

加熱庫用誘導加熱コイルの漏洩磁束が加熱庫用誘導加熱コイルに高周波電流を供給する電源回路基板に及ぼす影響を低減し、誤動作の少ない誘導加熱調理器を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating cooker which reduces influence that the leakage magnetic flux of an induction heating coil for a heating container exerts on a power supply circuit board for supplying a high frequency current to the induction heating coil for the heating container, and malfunctions less. - 特許庁

整磁合金からなる加熱板を備えた加熱調理容器を高周波誘導加熱により加熱する電磁調理器の加熱調理容器の温度制御装置に関する。例文帳に追加

The present invention relates to an apparatus of controlling temperature of a heating cooker container in a electromagnetic cooker having a heating plate made of a magnetic alloy and heated. - 特許庁

その後に、サセプタ１３を加熱することにより、炭化シリコン半導体基板１を加熱する。例文帳に追加

After that, the silicon carbide semiconductor substrate 1 is heated by heating the susceptor 13. - 特許庁

また、サセプタ１３を加熱することにより、炭化シリコン半導体基板１の加熱処理が実施される。例文帳に追加

Further, the heating processing of the silicon carbide semiconductor substrate 1 is executed by heating the susceptor 13. - 特許庁

また、サセプタ１３を加熱することにより、炭化珪素半導体基板１の加熱処理が実施される。例文帳に追加

Moreover, a heat treatment of the silicon carbide semiconductor substrate 1 is carried out by heating the susceptor 13. - 特許庁

赤外線加熱要素と、特に真空コーティング設備用の基板加熱器型真空チャンバ例文帳に追加

IR HEATING ELEMENTS AND SUBSTRATE HEATER TYPE VACUUM CHAMBER ESPECIALLY FOR VACUUM COATING FACILITIES - 特許庁

断熱構造体、加熱装置、加熱システム、基板処理装置および半導体装置の製造方法例文帳に追加

HEAT INSULATING STRUCTURE, HEATING APPARATUS, HEATING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

第１加熱工程は、少なくともＨ_２ガスを含む第１ガス雰囲気下で基板を加熱する。例文帳に追加

In the first heating process, a substrate is heated under a first gas atmosphere containing at least H_2 gas. - 特許庁

高い熱効率でスラリーを加熱することができる加熱ろ板を提供する。例文帳に追加

To provide a heating filter plate capable of heating a slurry with a high heat efficiency. - 特許庁

プラズマ成膜装置又は熱処理装置において、ガラス基板を高い加熱効率で加熱すること。例文帳に追加

To provide a plasma film forming apparatus or a heat treatment apparatus capable of heating a glass substrate at high heating efficiency. - 特許庁

耐加熱変色性、加熱後耐食性に優れた亜鉛系めっき鋼板およびその製造方法例文帳に追加

GALVANIZED STEEL SHEET EXCELLENT IN HEATING DISCOLORATION RESISTANCE AND CORROSION RESISTANCE AFTER HEATING AND PRODUCING METHOD THEREFOR - 特許庁

加熱調理装置１は、炊飯釜２の底板部５の下方に位置する加熱手段41を備える。例文帳に追加

The heating cooker 1 includes a heating means 41 positioned below a bottom plate part 5 of a rice cooker 2. - 特許庁

基板１を加熱炉で加熱してクリーム半田３を溶融させてチップ４を半田付けする。例文帳に追加

The substrate 1 is heated in a heating furnace to melt the solder 3 and solder the chip 4. - 特許庁

ガラス基板上の膜を効率よく加熱することができる加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heating device capable of efficiently heating a film on a glass substrate. - 特許庁

加熱装置３は、チャンバー２内に収容された被処理基板５を加熱する。例文帳に追加

The heating device 3 heats the objective substrate 5 placed in the chamber 2. - 特許庁

フレキシブル基板の実装におけるハンダのリフロー加熱方法と加熱装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR REFLOW HEATING OF SOLDER IN MOUNTING OF FLEXIBLE SUBSTRATE - 特許庁

工具は、短パルス（パルスの後に、短い非加熱待機時間がある）で部品と基板を加熱する。例文帳に追加

The tool heats the components and substrates in short pulses (that are followed by brief, non-heated waiting time). - 特許庁

加熱室１３内において複数枚の板状被処理物３を加熱する熱風を発生する。例文帳に追加

Hot blast to heat plural sheets of substances 3 to be processed is generated within a heating chamber 13. - 特許庁

加熱温度の制御性に優れた加熱装置および半導体基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a heating device which has superior controllability of heating temperature, and to provide a method of manufacturing a semiconductor substrate. - 特許庁

加熱コイル２は加熱コイル保持部材５に載置された絶縁板３の上に載置されている。例文帳に追加

The heating coil 2 is mounted on an insulating plate 3 mounted on a heating coil holding member 5. - 特許庁

電気的な加熱手段を用いることなく、外箱の下方の前板部を露付き防止温度に加熱すること。例文帳に追加

To heat a front plate under an outer case to an antidewing temperature without using an electric heating means. - 特許庁

導電性板材を幅方向全体に亘って均一に加熱できる誘導加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an induction heating apparatus capable of uniformly heating a conductive plate material over in the entire width direction thereof. - 特許庁

電磁誘導の加熱効率を向上させた炊飯器用加熱板を提供すること。例文帳に追加

To provide a heating panel for a rice cooker improving the heating efficiency of electromagnetic induction. - 特許庁

強磁性体からなる遮蔽板を用いることなく誘導加熱器の周辺設備の加熱を抑制する。例文帳に追加

To restrain heating of peripheral equipments of an induction heating device without using shield plate made of ferromagnetic body. - 特許庁

したがって、加熱プレート１０は、高い均一性をもって、基板９を加熱できる。例文帳に追加

Therefore, the heating plate 10 can heat the substrate 9 with the high uniformity. - 特許庁

アノード電極７の内部には、被処理用基板５を加熱する加熱部が設けられている。例文帳に追加

A heating part for heating a substrate 5 to be treated is arranged inside an anode electrode 7. - 特許庁

Ｇｅ基板２を加熱するための加熱源として赤外光光源を用いるとよい。例文帳に追加

Further, an infrared light source is preferably used as a heating source for heating the Ge substrate 2. - 特許庁

そして、この基板１００は、加熱プレート１１により加熱され、熱処理される。例文帳に追加

The substrate 100 is heated and heat-treated by the heating plate 11. - 特許庁

したがって、基板が加熱される際の加熱ムラの発生を防止することができる。例文帳に追加

Therefore, the heating irregularity can be prevented when the substrate is heated. - 特許庁

基板の加熱処理に必要な気体を、効率良く加熱するための技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique for efficiently heating a gas required for a heating treatment of a substrate. - 特許庁

より均一な温度分布で加熱を行うことができる簡便な構成の基板加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for heating a substrate with more uniform temperature distribution through a simple arrangement. - 特許庁

誰でも安定した加熱状態を作ることができる曲げ板形成用加熱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a heating device for forming a curved plate enabling anybody to produce a stable heating state. - 特許庁