「紫外レーザ」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

デザインを施す際には紫外線パルスレーザ装置から外装ケースに向けてレーザ光を照射し、各ＲＧＢ値に対応する発光強度で蓄光性顔料が発光するように励起させる。例文帳に追加

Laser beams are irradiated from an ultraviolet pulse laser apparatus to an exterior finish case in designing for excitation, so that a luminous pigment emits light of luminous intensity which corresponds to each RGB value. - 特許庁

本発明は、紫外レーザーに対する海水および流出油の各特性の差に着目して、海面における流出油の検出を上空からの紫外レーザーの照射と赤外線撮影とにより遠隔的に行えるようにした海上流出油リモートセンシング装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To enable the remote detection of oil spilled at sea by the irradiation of a UV laser beam and IR ray photographing made from the above utilizing the difference between the characteristics of seawater and the spilled oil exhibited for the UV laser beam. - 特許庁

四ホウ酸リチウム単結晶からなる波長変換素子でレーザービームを波長変換して波長３５５ｎｍ未満の高調波を発生させるとき、レーザービームの変換効率を高め、精密加工に適した紫外レーザーを得る。例文帳に追加

To obtain a UV laser beam suitable for a precision fabrication by enhancing the conversion efficiency of the laser beam when the wavelength of the laser beam is converted to generate harmonic waves at <355 nm wavelength in a wavelength conversion element consisting of a lithium tetraborate single crystal. - 特許庁

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2 エキシマレーザーあるいはEUVに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、高解像度で、放射線透過率が高い感放射性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition having a high resolution and a high radiation transmittance as a chemically amplified resist sensitive to an actinic radiation such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, F_2 excimer laser or far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation). - 特許庁

非晶質シリコンまたは多結晶シリコンにレーザ光を照射してシリコン結晶を成長させるシリコン結晶成長方法及び装置において、紫外光レーザ照射及び可視光レーザ照射の欠点を相補的に補い合い、従来より低い温度でシリコン結晶を成長させる。例文帳に追加

To grow a silicon crystal at a temperature lower than in the prior art by complementarily compensating for both defects in ultraviolet laser irradiation and in visible laser irradiation, in a method and apparatus of growing a silicon crystal by irradiating an amorphous or polycrystalline silicon with laser light. - 特許庁

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーあるいはＦ_2エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像度およびＬＥＦ耐性に優れた感放射線性樹脂組成物、およびこの感放射線性樹脂組成物に使用できる共重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition which is excellent in resolving power and LEF resistance as a chemically amplified photoresist responding to far-ultraviolet radiation represented by KrF excimer laser, ArF excimer laser and F_2 excimer laser, and a copolymer which can be used for the radiation-sensitive resin composition. - 特許庁

レーザー装置は、集光点における複数のレーザー光の干渉を調整する干渉調整装置２６を有し、集光点２においてレーザー光によりターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。例文帳に追加

The laser device includes an interference adjusting device 26 for adjusting interference of a plurality of laser beams at the condensing point, and generates plasma by exciting the target material by the laser beam at the condensing point 2 to emit extreme ultraviolet light 4 from there. - 特許庁

固体レーザ１１より出射された基本波レーザ光１ωが非線形光学結晶１２，１４で波長変換された紫外線レーザ光３ω、４ωをレンズ１００に照射してレンズ１００表面を蒸発分解させることによってマークを形成する。例文帳に追加

A lens 100 is irradiated with ultraviolet laser light 3 ω and 4ωA obtained by converting the wavelength of basic wave laser light 1ω emitted from a solid laser 11 with a nonlinear optical crystals 12 and 14, respectively, and the surface of the lens 100 is evaporated and dissolved, thus a mark is formed. - 特許庁

この度合に基づいてコントローラからレーザ装置に制御信号が送られ、３６６ｎｍの紫外線を含む第一レーザ光、又は５４０ｎｍの緑色光を含む第二レーザ光が開口２４ａ，２４ｂを通して選択的にＣＣＤ３３の光変形シート４５に照射される。例文帳に追加

A control signal is sent from a controller to a laser device based on the degree, and first laser light containing ultraviolet rays of 366 nm or second laser light containing green light of 540 nm is irradiated through apertures 24a and 24b selectively to the light deformation sheet 45 of the CCD 33. - 特許庁

レーザ２１が出す紫外線レーザビーム２２を機械・光学的手段３０、３１、３２、４１、５１および７０によって処理すべき物体２０の表面に向けて走査し、レーザビーム２２の衝撃でこの物体２０に剥離を起して、この物体を構成する材料自体の表面除去を行う。例文帳に追加

Exfoliation is caused on an object 20 to be treated with the impact of an ultraviolet laser beam 22 emitted by a laser 21 by scanning the laser beam 22 with a mechanical or optical means 30, 31, 32, 41, 51 and 70 so that the surface of a material itself composing the object 20 is removed. - 特許庁

レーザー光として紫外レーザーを用い、レーザー光を入射させる面の裏側の面に樹脂フィルムを張り合わせた後に加工し、加工終了後裏面の樹脂フィルムを剥がすことを特徴とする銅張フィルムの加工方法を用いればよい。例文帳に追加

A working method of a copper clad film is used which method has a feature that an ultraviolet laser is used as a laser light, a resin film is stuck on a rear of a surface which the laser light is made to enter, working is performed and the resin film on the rear is exfoliated after the working is finished. - 特許庁

偏光純度を高くすると共に、強い紫外線（特にＡｒＦ）レーザ光照射による劣化を抑制するフッ化カルシウム結晶を用いたブリュースタウィンドウやビームエキスパンダプリズム等のガスレーザ用光学素子及びそれを用いたガスレーザ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical element for a gas laser such as a Brewster window, a beam expander prism or the like increasing polarization purity, and suppressing degradation by strong ultraviolet (in particular, ArF) laser beam irradiation; and to provide a gas laser device using the same. - 特許庁

このバンドル出力は図示しない波長変換部により波長変換され、所要波長の紫外レーザ光を得る。例文帳に追加

This wavelength of the bundle output is changed by a wavelength changing part and the ultraviolet ray laser of required wavelength is obtained. - 特許庁

得られた紫外光は、ＡｒＦ、ＫｒＦエキシマレーザーの波長にジャストフィットした単一スペクトル光を有している。例文帳に追加

The obtained ultraviolet light 14 has single spectrum light just fit to the wavelengths of ArF and KrF excimer laser beams. - 特許庁

ベータ型硼酸バリウム結晶素子の製造方法およびベータ型硼酸バリウム結晶素子ならびに遠紫外線レーザ光発生装置例文帳に追加

PRODUCTION OF BETA-BARIUM BORATE CRYSTAL ELEMENT, BETA- BARIUM BORATE CRYSTAL ELEMENT AND FAR UV LASER LIGHT GENERATOR - 特許庁

一次電磁波１０は紫外レーザー等を用いＲ，Ｇ，Ｂ等の可視光を各画素に応じて選択的に得る。例文帳に追加

A UV laser, etc., are used for the primary electromagnetic waves 10 and visible light rays of R, G, B, etc., are selectively obtained according to respective pixels. - 特許庁

紫外光のレーザービームにより基板を走査する際に、オゾンの発生を抑制して、露光効率を向上させる。例文帳に追加

To improve exposure efficiency by suppressing the generation of ozone when a substrate is scanned with a laser beam of ultraviolet light. - 特許庁

前記紫外光がＡｒＦエキシマレーザー光であり、ＡｒＦリソグラフィー露光装置に使用される。例文帳に追加

The ultraviolet light is ArF excimer laser light, and is used for an ArF lithography exposure apparatus. - 特許庁

印刷版表面の様々な領域がレーザービームと紫外線ビームで同時に照射されるようにする。例文帳に追加

Various regions of the surface of a printing plate are irradiated simultaneously with laser beams and UV beams. - 特許庁

エキシマレーザ等からの高出力の紫外線透過による光学的特性劣化に対して、すぐれた耐久性を有する石英ガラスの提供。例文帳に追加

To obtain quartz glass having excellent durability to optical glass due to transmission of ultraviolet rays having high power from excimer laser, etc. - 特許庁

また半導体レーザーと非線形光学結晶とを組み合わせて３２０〜３６０ｎｍの近紫外線を作ることができる。例文帳に追加

Otherwise, a semiconductor laser and a nonlinear optical crystal may be combined to generate near UV rays at 320 to 360 nm wavelengths. - 特許庁

青色や紫外光などの短波長の光を発振することのできる半導体レーザ素子を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor laser element for oscillating the light of short-wavelength such as blue and ultraviolet lights. - 特許庁

石英プリズム１に入射された紫外レーザ光UVはアルミニウム層２に入射角θで入射する。例文帳に追加

An ultraviolet laser beam UV into a quartz prism 1 enters an aluminum layer 2 with an incident angle θ in the photo cathode device. - 特許庁

非線形光学結晶１５を経ることで、短波長化された紫外線がレーザー光として出力される。例文帳に追加

The output light is thus passed through the nonlinear optical crystal 15 and then ultraviolet rays which are reduced in wavelength are outputted as laser light. - 特許庁

レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率よく排出する。例文帳に追加

To efficiently discharge charged particles such as ions emitted from plasma, in a laser-excited plasma type extreme ultraviolet light source device. - 特許庁

標的材料送給チューブを使用する、レーザープラズマ極紫外放射線源のためのノズルを提供する。例文帳に追加

To provide a nozzle for a laser plasma extreme ultraviolet radiation source using a target material delivery tube. - 特許庁

このときレーザー光はＳＨＧ素子１３で波長を１／２に変換されないから、ＳＨＧ素子固定用樹脂４は紫外線硬化しない。例文帳に追加

At this time, the SHG element 13 does not convert the wavelength of the laser light to 1/2, then a resin 4 for SHG element fixation does not set with ultraviolet rays. - 特許庁

光ファイバ(3)のガラス板(5)への固定を、紫外線硬化樹脂またはレーザ溶接により１本ずつ独立して行い、光ファイバアレイを得る。例文帳に追加

This optical fiber array is obtained by fixing optical fibers (3) to a glass plate (5) independently piece by piece, by a UV-curing resin or laser welding. - 特許庁

こうすることで、紫外レーザ光を用いたフォトマスクの欠陥の検査におけるゴースト像の影響を排除する。例文帳に追加

Thereby, the influence by the ghost image can be eliminated at the inspection of a photomask defect using ultraviolet laser light. - 特許庁

エタロンに入射させる光の量とその光の発散角とを共に抑えることができる真空紫外レーザ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum ultraviolet laser system for restraining both quantity of light to be applied to etalon and its light radiation angle. - 特許庁

過酸化水素と光を用いるパルプの漂白方法において、光源として紫外・可視レーザー光を用いる。例文帳に追加

This method for bleaching the pulp by using hydrogen peroxide and a light is provided by using an ultraviolet or visible laser light as a light source. - 特許庁

紫外線レーザー光の照射は、上記対象領域内における照射位置を変更しながら連続的に行うことが好ましい。例文帳に追加

The ultraviolet light laser beams are preferably continuously irradiated while changing the irradiating position in the object region. - 特許庁

紫外線照射装置１００は、半導体レーザ１２と、ライトガイド３０と、波長変換素子２２と、集光レンズ２６と、を備える。例文帳に追加

The ultraviolet ray irradiation device 100 comprises a semiconductor laser 12, a light guide 30, a wavelength conversion element 22, and a condensing lens 26. - 特許庁

本発明は、紫外線に対して耐性を有する光学部品を用いてレーザービーム及び戻り光を透過及び反射する部位を形成する。例文帳に追加

By this device, positions to transmit and reflect the laser beams and turn-back lights are formed by using optical components having the resistance against ultraviolet rays. - 特許庁

エネルギービームとしては、紫外線、エキシマレーザ、電子ビーム、イオンビームまたはこれらを組合せたビームを照射する。例文帳に追加

The irradiation is carried out with ultraviolet rays, an excimer laser beam, an electron beam, an ion beam or their combined beam as the energy beam 2. - 特許庁

そしてレーザダイオード２０１は、各開口部の周囲の所定位置に設けられた紫外線硬化樹脂２２２を介して保持部に固定される。例文帳に追加

The laser diode 201 is fixed on the holding part via an ultraviolet ray curing resin 222 provided at around prescribed positions of the respective open parts. - 特許庁

紫外線レーザー光と光ファイバーとを用い、既設配管などの殺菌に適した殺菌方法及び殺菌装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a sterilization method and a sterilization device suitable for sterilization of existing piping or the like using an ultraviolet laser light and an optical fiber. - 特許庁

また、液滴を吐出させた後に、同紫外線硬化性インクＦに対するレーザ光Ｉの照射を終了させるようにした。例文帳に追加

After the liquid droplets are ejected, irradiation of the laser beam I to the ultraviolet-curing ink F is ended. - 特許庁

紫外レーザー光用感光性組成物、感光性画像形成材及びそれを用いたネガ画像形成方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER LIGHT, PHOTOSENSITIVE IMAGE FORMING MATERIAL AND NEGATIVE IMAGE FORMING METHOD USING SAME - 特許庁

基板の第１の面側から、基板の全深さには満たない所定の深さまで、紫外または可視放射レーザによって溝を掘る。例文帳に追加

A groove is dug from the first surface side of a substrate until it reaches a prescribed depth short of the full depth of the substrate by an ultraviolet or visible radiant laser. - 特許庁

連続使用されるレーザ照射に耐えることができる、２００ｎｍ未満の波長の紫外線用の減衰フィルタを実現。例文帳に追加

To realize an attenuating filter for ultraviolet light at <200 nm wavelengths withstanding continuously applied laser irradiation. - 特許庁

有機膜に異なる２本の紫外線レーザービームを同時あるいは順次照射することにより、なだらかなスロープ形状の断面形状を得る。例文帳に追加

To obtain a slope-like cross-sectional shape by simultaneously or successively irradiating an organic film with two different ultraviolet laser beams. - 特許庁

また、両手が常に自由となり、紫外線や可視光やヘリウムネオンレーザを照射しながら両手作業ができる。例文帳に追加

Both hands become always free and both-hand work can be performed, while irradiating the examination target with ultraviolet rays, visible light or the helium neon laser. - 特許庁

ウェーハにレーザ加工を施す前に、ダイシングテープに紫外線を照射して粘着性を低下させる。例文帳に追加

Before the actuation of the laser process to the wafer, the adhesive property is lowered by the irradiation of an ultraviolet ray to the dicing tape. - 特許庁

これにより、４倍波紫外線パルスレーザが半導体ウェハーの構成要素を分子レベルで直接切断し、深い穴を形成する。例文帳に追加

This causes the quadruple wave ultraviolet pulse laser to directly cut the constituents of the semiconductor wafer on a molecular level to form a deep hole. - 特許庁