「紫外レーザ」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

少なくとも（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）着色剤、及び（Ｄ）樹脂を含み、前記（Ｂ）光重合開始剤が下記式（Ｉ）で表される紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物。例文帳に追加

The colored curable composition for ultraviolet laser exposure includes at least (A) a polymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant and (D) a resin, wherein (B) the photopolymerization initiator is represented by formula (I). - 特許庁

紫外レーザビームの走査を行うことなく、かつレジスト膜の十分なエッチング耐性を確保することができるパターン加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern processing method with which sufficient etching resistance of a resist film is ensured without scanning with an ultraviolet laser beam. - 特許庁

発光ダイオードやエレクトロルミネッセンス素子、半導体レーザー素子に応用可能な、高効率で単色性が優れ、かつ構造が安定な近紫外光を発する蛍光体を提供する。例文帳に追加

To provide a fluorescent material for emitting a near ultraviolet light which is applicable to light emitting diodes, electro-luminescent elements and semiconductor laser elements, has excellent monochromaticity with high efficiency, and has a stable structure. - 特許庁

この構造により、ピーキングコンデンサ１５の電圧上昇で、両電極１２と１３との間の誘電体１４で沿面コロナ放電を発生させ、このコロナ放電で発生する紫外線によってレーザガスを予備電離させる。例文帳に追加

Creeping corona discharge takes place on the dielectric 14 between both electrodes 12 and 13, when the voltage of the peaking capacitor 15 is increased, and laser gas is ionized with UV-rays which are generated by the corona discharge. - 特許庁

遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザ光を用いたリソグラフィ用のフォトレジスト組成物において露光光に対し透明性が高く、熱安定性の良い光酸発生剤を提供する。例文帳に追加

To obtain a photoacid generator having high transparency for exposure light and good in thermal stability in a photoresist composition for lithography using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beams. - 特許庁

入射角θは、全反射領域において紫外レーザ光UVのアルミニウム層２の光入射面での反射率Rが最小となるプラズモンディップ角である。例文帳に追加

The incident-light angle θ amounts to a plasmon-dip angle with the minimal reflectance R of the ultraviolet laser beam UV at the light-incident surface of the aluminum layer 2 in a total-reflection region. - 特許庁

この構成によれば、隣接するマイクロミラーの間から紫外レーザ光がミラー内部に入り込むのを抑制できるため、ミラーデバイスの動作不良を無くすことができる。例文帳に追加

Since the ultraviolet laser beam entering the micromirror through the gap between adjacent micromirrors can be controlled, malfunction of the mirror device can be eliminated. - 特許庁

この装置で周期的に生成される液滴ターゲットにパルスレーザ光を照射することにより、極端紫外光をほぼ連続的に生成することができる。例文帳に追加

By irradiating a pulse laser light at the droplet targets periodically generated by this generator, an extreme ultraviolet light can be generated almost continuously. - 特許庁

フッ化物結晶の光損傷による紫外領域及び可視領域における透過率の低下を低減し、その結果としてレーザー照射に対する耐久性を向上させた光学材料の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method for producing optical materials which suppresses a decrease in transmittance in ultraviolet and visible regions due to optical damage of a fluoride crystal and hence improves durability for laser radiation. - 特許庁

出力が比較的大きい露光用の極端紫外光源装置において、ドライバレーザ光の照射に対する除熱を良好に行いつつ、固体のターゲットを高速かつ連続的に供給する。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet light source for exposure with a relatively large output in which a solid target is rapidly and continuously supplied while carrying out excellently heat removal to the irradiation of driver laser beams. - 特許庁

本発明の目的は、高ＡｇＩ含有ハロゲン化銀を用いた感光材料において、青〜紫外レーザー光を用いることから期待される十分な感度が得られるような画像形成材料を提供することである。例文帳に追加

To provide an image forming material for obtaining full sensitivity expected, from the use of blue to ultraviolet laser lights using high AgI-containing silver halide. - 特許庁

そして、表面層１ｂのうち、基板１に対する流動物付着対象領域の部分だけを紫外レーザー光Ｌの照射によって除去して親液化領域にする。例文帳に追加

Only the part of a fluid body stuck object area of the surface layer 1b is removed by irradiation with ultraviolet laser light L to form a lyophilic area. - 特許庁

この構造により、ピーキングコンデンサ１５の電圧上昇で、両電極１１Ｂと１２との間の絶縁板１３で沿面コロナ放電を発生させ、このコロナ放電で発生する紫外線によってレーザガスを予備電離させる。例文帳に追加

Creeping corona discharge takes place on the insulation plate 13 between both electrodes 11B and 12, when the voltage of the peaking capacitor 15 is increased and laser gas is pre-ionized with UV-rays generated through corona discharge. - 特許庁

特にＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に対する感度、解像度が優れ、パターン形状等にも優れる新規な化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution for far UV rays as typified by an ArF excimer laser, excellent in the pattern profile or the like, and suitable as a chemically amplifying resist. - 特許庁

又黄色光源を用いてワーク基板とフォトマスクの位置決めと紫外光又はレーザー光を用いて露光、現像などを行える、万能フォトリソグラフ装置。例文帳に追加

The versatile photolithographic device also can position the work substrate and the photomask by the use of a yellow light source, and can perform exposure and development with the use of an ultraviolet light or a laser beam. - 特許庁

紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び、それを備えた表示装置。例文帳に追加

COLORED CURABLE COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY INCLUDING THE SAME - 特許庁

紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物、パターン形成方法、その方法を用いて製造したカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および液晶表示装置例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURED USING THE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY - 特許庁

前記開口部を、紫外線レーザーを用い、バイア上に形成されたパッド上の開口部と、バイア上に形成されていないパッド上の開口部で、異なる照射条件で、加工を行うことを特徴とする。例文帳に追加

The opening on a pad formed on a via and the other opening on a pad which is not formed on a via are processed by the use of an ultraviolet laser beam under different irradiation conditions. - 特許庁

レーザカット装置２４は、搬送中の基板収納トレイ１の上面における複数の収納部２の周縁部に沿って紫外線硬化樹脂を切断する。例文帳に追加

The laser cutter 24 cuts the ultraviolet curing resin along the peripheral edge of a plurality of housing parts 2 in the upper surface of the substrate housing tray 1 being conveyed. - 特許庁

紫外線硬化型組成物中の光重合開始剤として、濃度１質量％のメタノール溶液の、光路長１ｃｍ、該レーザー波長における吸光度が０．０５以下である材料を使用する。例文帳に追加

A material, of which the absorbance in the laser wavelength measured under the conditions of an optical path length 1 cm of the methanol solution of 1 mass% concentration is ≤0.05 is used as a photopolymerization initiator in the ultraviolet-curing type composition. - 特許庁

そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク３０を介して紫外レーザ光５０を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子２５をコア層２０内に形成する（図１（ｄ））。例文帳に追加

By irradiating the plane waveguide type optical circuit with an ultraviolet laser beam 50 through a phase grating mask 30, the diffraction grating 25 is formed in the core layer 20 (figure 1 (d)) by the refractive index modulation pattern. - 特許庁

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域において透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a negative type pattern free of swelling and excellent in resolution while having a chemical structure transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser beam and having high dry etching resistance. - 特許庁

基板９，１０同士を接着剤７を介して貼り合わせる際に、２枚の基板のうち少なくとも一方の基板にレーザー光の透過を妨げない透明若しくは半透明であるカチオン系の紫外線硬化型接着剤を塗布する。例文帳に追加

When substrates 9, 10 are laminated with an adhesive 7, a transparent or semitransparent cationic UV-curing adhesive which does not inhibit transmission of laser light is applied on at least one substrate of the two substrates. - 特許庁

露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ラインエッジラフネスが改善され、感度、解像力、レジスト形状、疎密依存性が優れたポジ型レジスト組成物を提供できる。例文帳に追加

To provide a positive resist composition having improved line edge roughness and excellent in sensitivity, resolving power, resist shape and density dependence when far UV, particularly ArF excimer laser light is used as a light source for exposure. - 特許庁

しかも窓９は、各導波路毎の位相に応じた長さとなっているため、紫外線レーザビーム１０を一回照射するだけで、全ての導波路の位相を設計値にあわせることができる。例文帳に追加

Moreover, since the window 9 is formed into the length corresponding to a phase every each waveguide the phase of all waveguides can be matched to a design value only by irradiating each waveguide with the ultraviolet laser beam 10 once. - 特許庁

本発明は、マイクロレンズおよびこのマイクロレンズを用いた露光装置に関し、紫外線レーザ光に対して迷光抑制機能を長時間維持することを目的とする。例文帳に追加

To provide a microlens capable of maintaining a stray light suppression function for ultraviolet laser beams for a long time, and to provide an exposure device using the microlens. - 特許庁

インクヘッド２の移動に追従してレーザヘッド３を移動制御し、紫外線ビームを吐出されたＵＶ硬化インクに照射してＵＶ硬化インクを硬化させ所定の積層高さを得る。例文帳に追加

The movement of a laser head 3 is controlled so as to follow the movement of the ink head 2 and the discharged UV curable ink is irradiated with an ultraviolet beam and cured to obtain a predetermined lamination height. - 特許庁

レーザ生成プラズマ方式の極端紫外光源装置において、磁場の作用によりプラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率的に排出すると共に、汚染物質の２次的な発生を抑制する。例文帳に追加

To efficiently discharge charge particles of ion or the like discharged from plasma by magnetic field operation, and to suppress second-order creation of contaminant, in extreme ultraviolet optical source equipment of a laser generation plasma system. - 特許庁

このような高品質なビアホールと紫外レーザーを使うことによる微細、高精度の加工性とが相まって、フレキシブル配線板のファインパターン化、高密度化が実現できる。例文帳に追加

Because of both such a high quality via hole and fine high-accuracy working by using the ultraviolet layer, fine patterning and density improving of the flexible wiring board can be realized. - 特許庁

レーザー加工やデスミア工程の問題を解決する熱紫外線硬化型樹脂層付き銅箔を提供すると共に、半導体製造工程の省力化を図ることを目的とする。例文帳に追加

To provide a copper foil with thermal and ultraviolet curing type resin which can solve a problem in a laser procesing or de-smearing step and realize labor- saving in semiconductor manufacturing steps. - 特許庁

紫外線レーザ・ビーム（２４）を用いる光電効果が使用されて、トレース（８５）上の２つのポイント（８７）間の連続性およびトレース（８５）間のショートを測定する。例文帳に追加

A continuity between two points 87 on the trace 85 and a short circuit between the traces 85 are measured with the use of a photoelectric effect using an ultraviolet laser beam 24. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエッジラフネスが優れたポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition excellent in line edge roughness to solve a technical problem to enhance the performance of microphotofabrication using far-ultraviolet rays especially ArF eximer laser beam. - 特許庁

発明の光ファイバ増幅器は、ゲインイコライザとして機能する長周期ファイバグレーティング２１を紫外レーザによってコア内に複数個書き込んだエルビウムドープ光ファイバ心線１を用いて作製されている。例文帳に追加

An optical fiber amplifier is manufactured by using an erbium- doped coated optical fiber 1 in which long-period fiber gratings 21 functioning as a gain equalizer are written in plural parts in a core by ultraviolet laser. - 特許庁

紫外光に対して反射率が高く、バンド幅が広く、クラックや剥離がなく、更ににレーザー耐力が高いミラーを反射型光学素子を提供すること。例文帳に追加

To provide a reflection type optical device being a mirror whose reflectivity is high to ultraviolet light and bandwidth is wide and in which there is neither crack nor exfoliation and moreover which has high resistance strength to laser. - 特許庁

本発明の目的は、紫外レーザーを用いたＣＴＰシステムにおいて、短時間の画像記録が可能であり、かつ耐刷力、耐薬品性に優れる平版印刷版を提供する。例文帳に追加

To provide a lithographic printing plate capable of image recording in a short period of time in a CTP system using an ultraviolet laser and excellent in printing durability and chemical resistance. - 特許庁

本発明の投影マスクは、紫外線領域の波長を有する第１のレーザを通過させる投影マスクであって、遮光部の材質がアルミニウムと高融点金属を含む組成の合金であることを特徴とする。例文帳に追加

This projection mask is one which transmits a first laser beam having a wavelength in an ultraviolet area, and in which the material of a light-shielding section is an alloy of a composition including an aluminum and a refractory metal. - 特許庁

レーザ装置３６から照射された紫外線光あるいは可視光で各光変形シート２１，２２変形させて第１レンズ８ａのピント、結像状態の調整を行う。例文帳に追加

The photodeformable sheets 21 and 22 are deformed by ultraviolet rays or visible rays irradiated from the laser device 36 to adjust the focus state and the imaged state of the first lens 8a. - 特許庁

紫外または可視光である第１の光ビーム５と超短パルスレーザー光である第２の光ビーム１６とを被加工物である誘電体材料の表面に同時的に照射する。例文帳に追加

A first ultraviolet ray beam or visible light beam 5 and a second light beam 16 as the ultrashort pulsed laser beam are simultaneously applied to a surface of a dielectric material as a workpiece. - 特許庁

メカニカルシールＡの固定環３、回転環５の対向且つ接触する摺動面３ａ，５ａにプラズマ照射、レーザ光、紫外線などを介して親水面部ｗが形成されること。例文帳に追加

Hydrophilic surface parts w are formed on facing and contacting sliding surfaces 3a, 5a of the fixed ring 3 and rotating ring 5 of the mechanical seal A through plasma irradiation, laser beams, ultraviolet rays, or the like. - 特許庁

紫外線レーザを用いるタイプのＸ線発生装置は内視鏡に組み込んで生体内へ挿入可能であり、かかる使用時において安全性を確保する。例文帳に追加

To secure safety during the use while an X-ray generator of a type using an ultraviolet laser can be incorporated in an endoscope and inserted into a living body. - 特許庁

高出力の紫外光線や３００〜４００ｎｍ領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide optical glass excellent in beam resistant, suppressing refraction gradient generated by a laser irradiation of 300-400 nm or a high-power ultraviolet ray. - 特許庁

光透過層として、レーザー光の透過率が７５％以上となる、（メタ）アクリレート化合物と光ラジカル重合開始剤を含有する紫外線硬化型組成物の硬化膜を使用する。例文帳に追加

The hardened film of the ultraviolet-setting type composition containing a (meth) acrylic compound and a photoradical polymerization initiator, whose laser beam-transmission rate is 75% or more, is used as a light- transmitting layer. - 特許庁

基材２５の紫外線レーザが照射された部分には２列のノズル列からなり１つのノズル列群を構成する複数のノズル１５が一度に形成される。例文帳に追加

A plurality of nozzles 15, which are composed of the two nozzle arrays and which constitute the one nozzle array group, are formed in the part, irradiated with the ultraviolet laser, of the base 25 at a time. - 特許庁

いわゆる青色レーザー用に対応する吸収帯を有し、高い溶解度、高い耐光性、高融点のいずれの性能についても満足できる有機色素、紫外線吸収剤に好適に用いることのできる化合物を提供する。例文帳に追加

To provide a compound that has an absorption band corresponding to so-called blue lasers and is suitably employable for organic coloring matter and ultraviolet absorbers that satisfy any performance of high solubility, high light resistance and high melting temperature. - 特許庁

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution. - 特許庁