「紫外レーザ」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

低分子の紫外線吸収剤をフィルム中に配合したり、フィルム表面に塗布処理を施したりすることなく、ＵＶレーザー法等によるビアホール加工の適性に優れたマスキングテープ用ポリエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To prepare a polyester film for a masking tape, which has excellent via-hole processability by an UV laser method, or the like, without incorporating a low-molecular ultraviolet light absorber into the film and coating a film surface with the ultraviolet light absorber. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができ、露光マージンに優れ、現像欠陥の発生数が軽減ざれたポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type resist composition, which is suitably used in microphoto fabrication using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam and has excellent exposure margin and in which the generation of development defects is reduced. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションの性能向上技術における課題を解決することであり、パターン形状の裾引き、ラインエッジラフネスの点で問題のないポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition free from problems relating to tailing in a pattern profile or line edge roughness so as to solve problems in the techniques to improve the performance of microphotofabrication using far UV rays, in particular, ArF excimer laser light. - 特許庁

容器１４内に配置したカーボンナノチューブの原料１５に、紫外領域以下の短い波長のレーザーを照射してカーボンナノチューブの原料１５に光化学アブレーションを起こして、カーボンナノチューブを生成する。例文帳に追加

A raw material 15 for carbon nanotubes which is placed in a container 14 is irradiated with a laser having a wavelength equal to or shorter than that in the ultraviolet range; thus, photochemical ablation is caused in the raw material 15 to form a carbon nanotube. - 特許庁

遠紫外光、とくにＫｒＦ又はＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、現像欠陥の発生が少なく、エッジラフネスに優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve a technical problem in enhancing performance peculiar to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly KrF or ArF excimer laser light and to obtain a positive type photoresist composition less liable to cause development defects and excellent in edge roughness. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションの性能向上技術における課題を解決することであり、エッジラフネス、現像欠陥の点で改善されたポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To solve problems in a technique for enhancing the performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and to provide a positive photosensitive composition improved in terms of edge roughness and development defects. - 特許庁

酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化する基材樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type resist composition used for laser light in the vacuum ultraviolet region as a positive type resist composition containing a base resin having solubility in an alkaline aqueous solution varied by the action of an acid and an acid generating agent. - 特許庁

紫外線及びレーザー露光において高感度であって、しかも硬化深度が良好であり、さらに保存安定性、作業性に優れると共に、希アルカリ水溶液による現像性に優れ、ソルダーレジストに好適な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photocuring and thermosetting resin composition highly sensitive in ultraviolet and laser exposure, having excellent hardening depth, excelling in storage stability, work efficiency and developing property with a dilute alkaline aqueous solution and suitable for a solder resist. - 特許庁

メッキ法で製作したメタルマスクであって、フォトリソグラフ法で感光性樹脂により開口部に相当するパターンを導電性基板に形成する際、収束した紫外線レーザー光を感光性樹脂に直接走査しながら照射することにより露光を行う。例文帳に追加

When a pattern, corresponding to the openings is formed on an electrically conductive substrate using photopolymer by photolithographic method, exposure is performed by directly irradiating the photopolymer with a focused scanning ultraviolet laser light. - 特許庁

非線形光学結晶、たとえば単結晶四ホウ酸リチウムＬＢ４を用いて、安定的に高変換効率を達成し、実用化に耐える全固体紫外レーザー発振器の製作を可能とする光波長変換方法及び光波長変換システムを提供する。例文帳に追加

To provide a method and system for light wavelength conversion which make it possible to manufacture an all-solid ultraviolet laser oscillator which stably attains high conversion efficiency and is practical by using nonlinear optical crystal, e.g. single-crystal lithium tetraborate LB4. - 特許庁

超臨界流体セル６の流体層５内に二酸化炭素及び炭化水素を封入し超臨界状態を形成する工程と、流体層５内に紫外波長のレーザー光を照射する工程と、を含むアモルファスカーボン薄膜作製方法。例文帳に追加

The method for producing an amorphous carbon thin film includes a step of enclosing carbon dioxide and a hydrocarbon in a fluid layer 5 in a supercritical fluid cell 6 to form a supercritical state, and a step of irradiating the interior of the fluid layer 5 with laser light of an ultraviolet wavelength. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上及び技術課題を解決することであり、感度及び解像力に優れたポジ型感光性組成物を提供することにある。例文帳に追加

To enhance performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to solve technical problems proper to the microphotofabrication and to provide a positive type photosensitive composition excellent in sensitivity and resolving power. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、高感度であり、疎密依存性が小さく、エッチング時の表面荒れが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type resist composition which is suitable for use in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and which has high sensitivity and small density dependency and is less liable to surface roughening in etching. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、感度、解像力、露光マージンも優れたポジ型感光性組成物を提供すること。例文帳に追加

To solve the problems of a performance enhancing technique proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and to provide a positive type photosensitive composition excellent also in sensitivity, resolving power and margin for exposure. - 特許庁

露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、残膜率、レジストプロファイル及びドライエッチング耐性が優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To obtain a positive photosensitive resin compsn. excellent in the rate of a residual film, resist profile and dry etching resistance and not causing the problem of development defects when far UV, in particular ArF excimer laser light is used as a light source for exposure. - 特許庁

次に、半導体レーザー素子１の発振波長を、ＳＨＧ素子１３の位相整合波長８０２ｎｍとなるように制御すると、これが４０１ｎｍの紫外線に変換され、接着樹脂４が硬化するので、ＳＨＧ素子１３を基板２に接着固定できる。例文帳に追加

When the phase matching wavelength of the SHG element 13 is controlled to 802 nm, the oscillation wavelength of the semiconductor laser element 1 is converted into ultraviolet rays of 401 nm and the bonding resin 4 sets, so that the SHG element 13 can be bonded and fixed to a substrate 2. - 特許庁

低コストであり安定で、青色、近紫外若しくはＵＶ、ＬＥＤ、またはレーザーダイオード（ＬＤ）により励起され、適切な赤色、青色または緑色光蛍光体と組み合わされて高い演色を伴う白色光を生ずるのに適用できる新規の蛍光体を提供する。例文帳に追加

To provide a new phosphor which is of low cost, stable, and applicable to be excited by blue, near UV or UV-LED or laser diode (LD) to combine proper red, blue or green light phosphors to generate white light with high color rendering. - 特許庁

酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type resist composition usable for laser light in the vacuum ultraviolet region as a positive type resist composition containing an acrylic resin whose solubility to an alkaline aqueous solution is varied by the action of an acid and further containing an acid generating agent. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決し、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To solve problems in a technique for enhancing performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and to provide a positive photosensitive composition having small density dependence and a wide side lobe margin. - 特許庁

遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、ブリッジマージンが良好なネガ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To solve problems relating to a technique for improving performances in microphotofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light at a wavelength of 193 nm, and more specifically, to provide a negative resist composition having a good bridge margin. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが少なく、エッジラフネスが良好で、ＳＥＭ観察時シュリンクが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which can be suitably used for microphotofabrication using far-UV rays, and particularly ArF excimer laser light and which causes little roughening of the surface during etching and shows preferable edge roughness and little shrinkage during observation by an SEM. - 特許庁

露光光源として、深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ラインエッジラフネス、レジスト形状、感度、解像力が優れるとともに、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type photosensitive resin composition which does not cause the problem of development defects and has excellent line edge roughness, resist shape, sensitivity and resolving power when deep UV, particularly ArF excimer laser light, is used as the light source for exposure. - 特許庁

非線形光学結晶、特に単結晶四ホウ酸リチウムＬＢ４を用いて、安定的に高変換効率を達成し、実用化に耐える全固体紫外レーザー発振器の製作を可能とする光波長変換方法、及びそのためのプログラムを提供する。例文帳に追加

To provide an optical wavelength conversion method capable of manufacturing a fully solid-state UV laser oscillator which stably achieves high conversion efficiency and can be put to practical use by using a nonlinear optical crystal, more particularly a single crystalline lithium tetra borate LB4 and a program for the same. - 特許庁

酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化するアクリル系樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、１ｎｍ〜１９０ｎｍの真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition to be used for laser beam in a vacuum UV region of 1 nm to 190 nm, the positive resist composition containing an acid generating agent and an acrylic resin which undergoes a change in solubility to an alkaline aqueous solution by the effect of an acid. - 特許庁

遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、感度、パターン形状、パターン倒れに優れたネガ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To solve the problem in a technique for improving the performance of microphotofabrication using far ultraviolet ray light, particularly, ArF excimer laser having wavelength of 193 nm, more specifically, to provide a negative resist composition excellent in sensitivity, pattern shape and pattern collapse. - 特許庁

ＶＣＯ回路基板（多層プリント回路基板）１０に形成された電極１２の配線長を調整するためレーザーにより該電極１２の一部を切り欠き、切り欠かれた部分に形成される凹部１６を被覆材としての紫外線硬化型樹脂１４で被覆する。例文帳に追加

A method for manufacturing a multilayer printed circuit board comprises steps of partially cutting out an electrode 12 formed on a VCO circuit board (multilayer printed circuit board) 10 by a laser, and coating a recess 16 formed at the cut out part, with an ultraviolet curable resin 14 as a coating material. - 特許庁

露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。例文帳に追加

To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant. - 特許庁

さらに、記録レーザー光９の波長（７００〜８００ｎｍ）より長い波長の光は通し、それよりも短い波長の光(可視光や紫外光)をカットする物質を、フィルター膜としてオーバーコート層３用の塗布液溶解ないし分散して塗布する。例文帳に追加

Further, a material which transmits light at longer wavelength than the wavelength (700 to 800 nm) of the recording laser light 9 but cuts light at shorter wavelength (such as visible rays and UV rays) than that is used as a filter film by dissolving or dispersing in the coating liquid of the overcoat layer 3. - 特許庁

本発明の静電容量式タッチパネルの加工方式は、紫外線吸収層を有する粘着層を用いて、予め貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電層にレーザ光を照射し、二層の導電層を個別にパターニングすることを特徴とする。例文帳に追加

In the machining system of the capacitance type touch panel, two conductive layers are individually patterned by applying the laser beam to the conductive layers inside a preliminarily sticking transparent conductive film by using an adhesive layer having an ultraviolet ray absorbing layer. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、感度、解像力、露光マージンに優れ、スカムの発生の少ないポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To overcomes problems on a technology for enhancing performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and to provide a positive photosensitive composition excellent in sensitivity, resolving power and margin for exposure and less liable to generate scum. - 特許庁

アルミニウム層２において紫外レーザ光UVによって表面プラズモン共鳴光を励起し、表面プラズモン共鳴光の光電効果を利用してアルミニウム層２の石英プリズム１の反対側表面である光電面から光電子を放出する。例文帳に追加

A surface-plasmon resonant light is excited by the ultraviolet laser beam UV at the aluminum layer 2; and a photo electron is emitted from a photoelectric surface opposite to the surface of the quartz prism 1 at the aluminum layer 2, by means of the photoelectric effect of the surface-plasmon resonant light. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same. - 特許庁

近紫外領域から５００ｎｍの範囲に発振波長を有する半導体レーザーを露光光源とする電子写真装置に使用される電子写真感光体において、該電子写真感光体の感光層が電荷発生物質として特定構造のビスアゾ顔料を少なくとも一種含有させる。例文帳に追加

In the electrophotographic photoreceptor used for an electrophotographic apparatus using a semiconductor laser having an oscillating wave length ranging from near ultraviolet region to 500 nm, a photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor incorporates at least one kind of a bisazo pigment having a specific structure as a charge generating material. - 特許庁

電解めっき法による成型用微細金型の製造方法において、フォトリソグラフィ法で感光性樹脂により所定の微細パターンを導電性基板に形成する際、収束した紫外線レーザー光を感光性樹脂に直接走査しながら照射することにより露光を行う。例文帳に追加

In the method for producing the minute mold by the electrolytic plating method, when a prescribed minute pattern is formed on a conductive substrate with a photosensitive resin by a photolithographic method, exposure is carried out by directly irradiating the photosensitive resin with converged ultraviolet laser beams while the pattern is scanned. - 特許庁

放射ソースは、チャンバと、チャンバ内のプラズマ形成部位に燃料を供給するように構成された燃料供給と、放射ビームが燃料と衝突した場合に極端紫外線を放つプラズマが生成されるようにプラズマ形成部位に放射ビームを放つように構成されたレーザとを含む。例文帳に追加

A radiation source includes a chamber, a fuel supply configured to supply a fuel to a plasma formation region in the chamber, and a laser configured to emit a radiation beam to the plasma formation region so that plasma for emitting extreme ultraviolet radiation is generated when the radiation beam impacts the fuel. - 特許庁

高出力が可能なＣＯ_２ガスなどを増幅媒体とする増幅器を用いた場合でも、この増幅器に対するマスタオシレータの取り扱いが容易で且つ高効率な増幅が可能なレーザ装置および極端紫外光光源装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser device and an extreme ultraviolet light source device, in which handling of a master oscillator to an amplifier is easy and efficient amplification is achieved even in the amplifier using CO_2 gas for achieving a high output as an amplification medium. - 特許庁

下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるレジスト化合物を一種以上と、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、電子線、Ｘ線およびイオンビームから選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤を一種以上含む。例文帳に追加

The composition contains one or more kinds of resist compounds expressed by general formula (1) or (2) and one or more kinds of acid generating agents which directly or indirectly generate an acid by irradiation with any radiation selected from visible rays, UV rays, excimer laser light, electron beams, X rays and ion beams. - 特許庁

半導体露光装置の光学系に用いるレンズ、窓材、プリズムなどの真空紫外光を透過させて使用するフッ化カルシウムなどのフッ化金属単結晶のレーザー耐久性を、短時間且つ簡単で高精度に評価する。例文帳に追加

To evaluate simply and highly accurately in a short time the laser durability of a single crystal of metal fluoride such as calcium fluoride used by the transmission of vacuum ultraviolet light such as a lens, a window material or a prism used for an optical system of a semiconductor exposure device. - 特許庁

歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of heat treatment of a synthetic silica glass body capable of efficient removal of distortion and purification, and a method of manufacturing an optical member made of synthetic silica glass showing excellent optical transparency for a long time to radiation of ultraviolet-ray, especially ArF excimer laser beam. - 特許庁

ＫｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、アルカリ現像性や基盤密着性に優れた樹脂組成物の原料化合物を良好な収率で簡便に製造する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing simply with an excellent yield, a raw material compound of a resin composition which is excellent in alkali-developability and adhesiveness to a base, as a chemical amplification type resist sensing a far-infrared ray of a KrF excimer laser or the like. - 特許庁

線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるパターンを形成しうる紫外光レーザー用着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a colored photosensitive resin composition for a UV ray laser, the composition capable of forming a pattern having high sensitivity of line width and excellent linearity and heat resistance, and to provide a pattern forming method, a method for manufacturing a color filter, a color filter and a display device. - 特許庁

ワイヤボンド部５１ａは、青紫色半導体レーザ素子２０の外側（Ｂ２側）かつＰＤ６０より前方（Ａ１側）に配置され、ワイヤボンド部５２ａは、ＰＤ６０のＢ２側かつワイヤボンド部５１ａより後方（Ａ２側）に配置される。例文帳に追加

The wire bond part 51a is disposed outside (B2 side) of the blue-violet semiconductor laser element 20 and before (A1 side) the PD 60 and the wire bond part 52a is disposed on the B2 side of the PD 60 and behind (A2 side) the wire bond part 51a. - 特許庁

この装填部１１は、蛍光ガラス素子Ｘの両端を保持する凹状の溝１１ａを有し、また、各装填部１１の長手方向の延長線上には、紫外線レーザビームの入射及び出射が可能となるように、それぞれ光路となる切欠部１２ａ，１２ｂを形成する。例文帳に追加

The loading parts 11 have recessed grooves 11a for holding both ends of the fluoroglass element X, and cutout parts 12a and 12b which form optical paths are formed on the longitudinal extension line of each loading part 11, respectively, to allow the incoming and outgoing of the ultraviolet laser beam. - 特許庁

地表領域に存在する対象物までの距離を算出するレーザ・レーダ２、及び、波長が１９０ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲に含まれる光を検出して地表領域を撮像する紫外画像センサ３を、自走式の地表状態点検車両１が備える。例文帳に追加

A self-propelled earth-surface-state inspection vehicle 1 is provided with a laser radar 2 which calculates a distance up to an object existing in an earth-surface region, and an ultraviolet image sensor 3 which detects light contained in a range at a wavelength of 190 to 500 nm so as to image the earth surface state. - 特許庁

ガラス繊維で補強された樹脂からなる絶縁層の両面または片面に銅製の導体層が貼設されたプリント配線基板に紫外線パルスレーザを照射して穴をあける際に、絶縁層の樹脂部分の損傷を回避しつつ迅速に加工する。例文帳に追加

To bore a hole speedily in a printed wiring board while avoiding damage to its insulating layer resin in a process of boring a hole by using pulsed UV laser in a printed wiring board having a glass reinforced fiber-made insulating layer with copper conductor layers bonded to one or both of its surfaces. - 特許庁