「紫外レーザ」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

基板上の高屈折率の誘電皮膜に光を結合及び解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電皮膜及び／又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択する。例文帳に追加

In the manufacturing method of a diffraction grating structure for coupling light into or out of the high refractive index dielectric film on a substrate, a high refractive index dielectric film and/or a substrate is irradiated with UV laser beams that are subjected to simultaneous, spatially periodic intensity modulation and, moreover, the period of intensity modulation is selected in accordance with a desired grating period. - 特許庁

多層の追記型光ディスクの半透明反射層と色素記録層の間で使用され、信号の書き込み時にレーザー光により加熱された場合であっても、信号の読み取りエラーを発生させることのない樹脂層を形成することが可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a UV-curable composition for an optical disk which is used between a semi-transparent light-reflecting layer and a dye recording layer of a multilayered write-once type optical disk and capable of forming a resin layer which does not generate a reading error of a signal even when heated by a laser beam when the signal is written. - 特許庁

優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition. - 特許庁

ＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、レジストとしての基本物性を損なわずに、解像度やラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基盤密着性に優れた機能性樹脂組成物およびその原料であるアダマンタン誘導体の提供。例文帳に追加

To provide a functional resin composition which is so excellent in alkali developability and adhesion to a substrate as to improve resolution and line edge roughness as a chemically amplified resist sensitive to far-ultraviolet radiation typified by ArF excimer laser, without deteriorating basic physical properties as the resist, and an adamantane derivative which is a starting material thereof. - 特許庁

本発明によると、炭素、窒素および酸素の濃度がいずれも５×１０^^19ｃｍ^-3以下であるシリコン−ゲルマニウム薄膜に紫外線レーザ光を照射して、溶融させた後に再結晶化し、ラマン・ピークのラマンシフトが５１５ｃｍ^-1以上の波数にせしめることによって得られることを特徴とする半導体薄膜が提供される。例文帳に追加

An ultraviolet laser beam is radiated on a silicon-germanium thin film which contains carbon, nitrogen and oxygen of concentrations, each of which has a concentration lower than 5×1010 cm-3, to fuse the thin film, and after that the fused thin film is recrystallized and a semiconductor thin film is obtained by enabling the Raman shift of a Raman peak to be set into a wave number larger than 515 cm-1. - 特許庁

デジタルホログラムに適した高密度記録が可能で、近紫外から可視領域の任意の波長のレーザ光を用いることができ、長期安定性に優れ、瞬時に記録することができる記録方法、該記録方法により記録された情報を再生する再生方法、前記記録方法又は再生方法の実施に直接使用する記録媒体を提供する。例文帳に追加

To provide a recording method by which high density recording suitable for a digital hologram can be performed, laser light at any wavelength from a near UV region to a visible region can be used, and instant recording with excellent long-term stability can be performed, to provide a reproducing method for reproducing information recorded by the above recording method, and to provide a recording medium for directly using the above recording method or the reproducing method. - 特許庁

現像工程における線幅安定性が高いパターンを基板上に形成しうる紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物を提供し、パターン形状の安定なパターン形成方法を提供し、カラーフィルタの着色画素パターンの形成に好適なカラーフィルタの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a colored curable composition for ultraviolet laser exposure which enables to form a pattern having high linewidth stability in a developing step on a substrate, to provide a pattern forming method giving stable pattern profile, and to provide a method for manufacturing a color filter suitable for forming a colored pixel pattern of a color filter. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物、更にはエッジラフネス及び現像欠陥についても改善されたポジ型感光性組成物を提供することにある。例文帳に追加

To solve the problem of a performance enhancing technique proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to provide a positive photosensitive composition having small density dependence and a wide side lobe margin, and to further provide a positive photosensitive composition improved also with respect to edge roughness and development defects. - 特許庁

透明性、低吸水性に優れ、かつ反りの少ない高耐久性を有する紫外線硬化型樹脂組成物である高密度光ディスク用保護コート剤とその硬化物を提供することを可能にしたものであり、青色レーザーを用いて読み取り及び／又は書き込みを行う光ディスクに極めて有用である。例文帳に追加

To obtain an ultraviolet-curable resin composition that is extremely useful for an optical disk for reading and/or writing by using a blue laser, has excellent transparency and low water absorption properties, slight warpage and high durability and is a protective coating agent for a high-density optical disk and a cured material thereof. - 特許庁

わずか３または４層の反射防止多層コーティングをレーザ抵抗性の光学的構成要素の製造のために提案し、約７０°から約８０°の範囲、特に約７２°と約７６°の間の範囲の大きな入射角度で、約１５０ｎｍから約２５０ｎｍの波長範囲における紫外線に対し、最小の残留反射および高い透明性を可能にする。例文帳に追加

To provide an antireflection multilayer coating comprising mere three or four layers for the production of a laser resistant optical constituent element and to achieve minimum residual reflection and high transparency to UV in the wavelength range of about 150-250 nm at a large incident angle in the range of about 70-80°, particularly in the range of about 72-76°. - 特許庁

深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光に対して、良好な感度、解像度を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液（例えば２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）に対しても良好な現像性を示すポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。例文帳に追加

To obtain a positive type photoresist composition suitable for exposure with a light source having ≤220 nm, particularly ArF excimer laser light by incorporating a compound which generates an acid when the compound is irradiated with active light or the like and a cyclic acid anhydride compound selected from a group of specified compounds. - 特許庁

高純度の合成石英ガラスを均質化処理工程、成型工程及び除歪処理工程を経て合成石英ガラス部材に形成した後、波長２６０ｎｍ以下の連続紫外線を５０時間以上照射し波長１９３．４ｎｍに対する内部透過率を９９.８％以上とすることを特徴とするＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー用合成石英ガラス部材の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the synthetic quartz glass member for ArF excimer laser lithography is carried out by forming high purity synthetic quartz glass into a synthetic quartz glass member through a homogenizing step, a molding step and a distortion-removing step and irradiating with continuous ultraviolet ray having ≤260 nm wavelength for ≥50 hr to make the internal transmittance to the 193.4 nm wavelength ≥99.8%. - 特許庁

マイクロレンズの構成材料を含む液滴２２を吐出する液滴吐出ヘッド３４と、マイクロレンズを形成すべき基体５を載置するテーブル５０と、液滴吐出ヘッド３４から基体５に向かって飛行中の液滴２２に対して紫外線を照射するレーザ光源６０と、を有する構成とした。例文帳に追加

The apparatus for manufacturing microlens is composed of a droplet delivery head 34 for delivering droplets 22 including composition material of microlens, a table 50 for mounting the substrate 5 to form the microlens and a laser beam source 60 for irradiating the droplets 22 with ultraviolet rays during flight from the droplet delivery head 34 toward the substrate 5. - 特許庁

紫外線に対する耐久性に優れた結晶性物質、特に、Ｆ_２エキシマレーザーに対する耐久性に優れたフッ化カルシウム単結晶を比較的容易かつ安価に検査及び製造する方法、当該フッ化カルシウム単結晶から製造される光学素子、かかる光学素子を利用した露光装置、デバイス製造方法並びにデバイスを提供する。例文帳に追加

To provide a method for inspecting and producing a crystalline substance by which the crystalline substance having excellent durability to ultraviolet rays, in particular, a calcium fluoride single crystal having excellent durability to F_2 excimer laser is inspected and produced relatively easily and inexpensively, an optical element produced from the calcium fluoride single crystal, an exposure system using the optical element, a method for producing a device and the device. - 特許庁

磁気テープを長手方向に搬送しつつ、可視域もしくは紫外域のレーザビームの少なくとも一方を磁気テープのバック層に入射し、バック層を加工して凹部を形成する際に、加工部分の近傍を囲い込み、加工で発生する粉塵を、囲い込んだ部分を排気して除去することにより、前記課題を解決する。例文帳に追加

At least one of laser beams of the visible region and the ultraviolet region is made incident on the back layer of a magnetic tape, while the magnetic tape is carried in a longitudinal direction, and when the back layer is machined to form a recess therein, a part near the machined part is enclosed, and powder dust generated during the machining is removed by exhausting the enclosed part. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、現像の際の現像欠陥発生の問題が解消され、疎密依存性が少なく優れたレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition, in which the problems of the performance improvement technique of a microphoto application of its own using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam are solved and concretely, the improvement of sensitivity and resolution and a problem of generation of development defect at the time of developing are resolved and which is small in roughness and fineness dependency and capable of obtaining an excellent resist pattern. - 特許庁

ダイオキシンといった短寿命励起分子を効率よく多光子イオン化して質量分析する場合やＭＡＬＤＩ質量分析計による蛋白質、ＤＮＡなどの測定、また、非線形光学現象の研究等に必要な、紫外域で短パルスかつ単色で高エネルギーの光パルスを出力することができるレーザーシステムを提供すること。例文帳に追加

To provide a laser system capable of outputting in an ultraviolet region high-energy monochromatic short optical pulses which are necessary when so bringing efficiently such short-lived excited molecules as dioxin molecules into multiphoton ionizations as to subject them to mass spectrometry, and are necessary for measurements of protein and DNA, etc., by an MALDI mass spectrometer, and further, are necessary for studies of nonlinear optical phenomena, etc. - 特許庁

本発明は、半導体薄膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタの作製方法であって、前記半導体薄膜は、炭素、窒素および酸素の濃度がいずれも１×１０^19ｃｍ^-3以下のアモルファス半導体薄膜に紫外レーザ光を照射して、ラマンシフトのピーク値を５１５ｃｍ^-1以下の波数にせしめて得た半導体薄膜であることを特徴とするものである。例文帳に追加

In the manufacturing method of a thin-film transistor, using a semiconductor thin film as a channel formation region, the semiconductor thin film is obtained by applying ultraviolet laser beams to an amorphous semiconductor thin-film having the concentrations of carbon, nitrogen, and oxygen equal to 1×1019 cm-3 or smaller and by setting the peak value of Raman shift to a move number of 515 cm-1 or smaller. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケーション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物、より具体的には、感度・パターンプロファイル等を劣化させることなく、ＰＥＢ温度依存性・露光マージンなどの諸性能に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and to specifically provide a positive resist composition excellent in various properties such as PEB temperature dependency and exposure margin without deteriorating sensitivity, pattern profile, etc., and a pattern forming method using the same. - 特許庁

光導波路型回折格子素子製造用ホログラム３００は、第２面３２０の側から紫外レーザ光が入射したときに第１面３１０の側にある光ファイバ１１０のコア領域１１１において互いに異なるＫ個（Ｋ≧２）の周期Λ_k（ｋ＝１〜Ｋ）の干渉パターンを重畳して形成するものである。例文帳に追加

Mutually different K pieces (K≥2) of interference patterns having the cycle Λk (k=1 to K) are superposed and formed in the core region 111 of an optical fiber 110 existing in the side of a first surface 310 when a ultraviolet laser beam makes incident from the side of second surface 320 by an optical waveguide type diffraction grating element manufacturing hologram 300. - 特許庁

紫外線波長域のレーザー光を照射する際に使用される合成石英ガラス光学部材の製造方法であって、ガラス形成原料を火炎加水分解して形成した多孔質石英ガラス体を水素または酸素含有雰囲気下で高温処理した後、該多孔質石英ガラス体をフッ素含有雰囲気下で加熱，焼結して透明ガラス化することを特徴としている。例文帳に追加

This method for producing a synthesized silica glass optical member to be applied in irradiating laser beams of ultraviolet region is characterized by treating a porous silica glass body at high temperature in an atmosphere containing hydrogen or oxygen wherein the porous glass is obtained by flame hydrolysis of a glass forming material and, thereafter, heating and sintering the porous silica body to transparently vitrify it in an atmosphere containing fluorine. - 特許庁

アクリル系樹脂を主成分とするコア層を有する光ファイバ又はそれを備えた布帛に対して、１９０ｎｍから３５５ｎｍの範囲の波長を有する紫外線レーザを光ファイバのクラッド層に照射することで、コア層の表層で蒸散現象を生起させてクラッド層を除去する。例文帳に追加

With respect to the optical fiber having the core layer consisting mainly of acrylic resin and the cloth including the optical fiber, the clad layer of the optical fiber is irradiated with ultraviolet laser having a wavelength in the range of 190 to 355 nm, thereby, a transpiration phenomena is caused on the surface layer of the core layer and the clad layer is removed. - 特許庁

さらに、フォトセンサ７５、７６の検出結果から得た変数ｍ等に基づいて紫外レーザ光ＵＬの照射を継続するか否かを判断するので、ＶＩＡホール底部に露出した銅薄膜層Ｃｕが今回のホール形成で貫通すべき導電層であるか否かを判断することができる。例文帳に追加

Further, since it is judged whether or not irradiation with the laser beam UL is continued on the basis of a variable m, etc., obtained from the result of detection by the photo sensors 75 and 76, it is judged whether or not the layer Cu exposed on the bottom of the VIA hole is a conductive layer to be pierced by the hole formation of this case. - 特許庁

スミアの除去方法は、（ａ）金属からなる内層配線層を被覆する絶縁樹脂層を有する加工対象物の該絶縁樹脂層に紫外レーザを照射して前記絶縁樹脂層にビアホールを形成する工程と、（ｂ）前記ビアホールの底面に残留するスミアを、希ガスのプラズマに晒して除去する工程とを有する。例文帳に追加

The smear removing method comprises (a) a process of applying an ultraviolet laser beam to the insulating resin layer of a workpiece having an insulating resin layer coating a metal-made inner wiring layer for the formation of a via hole in the insulating resin layer, and (b) a process of removing smears residual on the via hole bottom floor by exposure to rare gas plasma. - 特許庁

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。例文帳に追加

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、更にレジスト溶液に時間の経過と共にパーテイクルが発生する問題を解消したポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition, in which the problems of the performance improvement technique of a microphoto application of its own using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam are solved and concretely, the improvement of sensitivity and resolution and a problem of generating particles in a resist solution with the lapse of time are resolved. - 特許庁

フォトセンサ７５、７６の検出出力に基づいてホール形成位置に銅薄膜層Ｃｕが露出するタイミングを検出するので、銅薄膜層ＣｕがＶＩＡホール底部に露出した段階で銅薄膜層Ｃｕにダメージを与えることなく加工用の紫外レーザ光ＵＬの供給を停止させることができる。例文帳に追加

Since a timing when a copper thin film layer Cu is exposed at a hole formation position is detected on the basis of the detected output from photo sensors 75 and 76, the supply of a UV laser beam UL for processing is stopped without damaging the layer Cu at the step of exposing the layer Cu on the bottom of the VIA hole. - 特許庁

本発明は、微細溝を形成するために露光光として紫外レーザ光を用いる場合であっても、露光光学系の光軸調整を容易かつ安全に行うことが可能であると共に、正確かつ高精度にフォーカスずれを検出することが可能な光ディスク原盤の露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an exposure device for an optical master plate capable of easily and safely adjusting the optical axis of an exposure optical system and detection focus deviation accurately with high precision even when an exposure light and an ultraviolet laser beam are used for forming a microgroove. - 特許庁

化学増幅型レジストの感放射線性酸発生剤として、特にＫＲＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に対して高感度（低露光エネルギー量）で酸を発生でき、かつ優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる、新規なジアゾジスルホン化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a new compound useful as a radiation-sensitive acid generator for chemical amplification-type resists useful in microfabrication using far- ultraviolet rays such as KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), charged particle beams such as electron beams, radiation such as X-rays. - 特許庁

基板上に少なくとも反射膜と情報記録層および紫外線硬化型組成物からなる光透過層を有する情報記録媒体において、発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるレーザー光を照射光源として使用したとき、高記録密度で、情報の記録または再生を行うことができる方法およびそれに適した情報記録媒体の提供。例文帳に追加

To provide a method by which information can be recorded and reproduced with high recording density, when a laser beam having 370-430 nm oscillation wavelength is used as a irradiation light source, in an information recording medium having at least a reflection film, an information recording layer and a light transmission layer consisting of a UV curing composition on a substrate and to provide the information recording medium suitable therefor. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、良好なパターンプロファイル、特に、ガラス基板（ＳＯＧ基板）上でのラインパターンの裾形状不良、コンタクトホールの庇形状を生じない、また、広いサイドローブマージンを有するポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition giving good pattern profile particularly free of a defective trailing shape of a line pattern on a glass substrate (SOG substrate) and an overhang shape of a contact hole and having a wide side lobe margin. - 特許庁

膜面入射方式の光記録媒体において、色素を含んで形成される記録層１３を覆うカバー層１４に、記録層１３に含まれる色素に有害な紫外線領域の光を吸収し、かつ記録層１３に対する記録／再生に用いるレーザ光を吸収しない吸収剤を含む構成とした。例文帳に追加

In the optical recording medium of a film surface incidence system, a covering layer 14 covering the recording layer 13 containing dye contains an absorbent which absorbs light of a UV area harmful to the dye contained in the recording layer 13 and does not absorb a laser beam used for recording/reproduction to the recording layer 13. - 特許庁

深紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光リソグラフィに有用な、脂環式炭化水素骨格を有する重合体を用いた化学増幅レジスト組成物であって、レジスト性能、塗布性能、溶液の保存安定性、安全性に優れ、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To obtain a positive photosensitive resin compsn. excellent in resist performance, coating performance, shelf stability of a soln. and safety and not causing the problem of development defects as a chemical amplification type resist compsn. using a polymer having a cycloaliphatic hydrocarbon skeleton and useful for lithography with far UV, in particular ArF excimer laser beam. - 特許庁

紫外線、特に300 nm以下の遠紫外線光、ＫｒＦエキシマレーザ光等に対して高透明性を有し、これ等光源による露光や電子線、軟Ｘ線照射に対して高い感度を有し、耐熱性や基板密着性に優れ、高解像性能を有し、パターン形状が経時的に変動せずに精度の高いパターンが得られ、基板依存性がなく、裾引きやスカムが発生しないことはもとより、特に近年の0.15μｍルールを利用した超微細化において顕著になっているパターン側壁及び表層の荒れ及び近接効果の影響を改善したポリマー及びこれを用いたレジスト組成物の提供。例文帳に追加

To obtain a polymer useful as a polymer used for producing semiconductor elements and the like by bringing the polymer to contain a monomer hanging a functional group having both properties of being removed by the action of an acid and radically crosslinked in a molecule as a constituent unit. - 特許庁

画像形成技術の中でも感光層強度の点で注目されている光架橋型組成物において、感光層の膜強度と保存安定性とに優れ、特に紫外光、可視光及び赤外光を放射するレーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平版印刷用版材を作成可能な感光性組成物及びネガ型平版印刷版を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive composition excellent in the film strength of a photosensitive layer and in storage stability and capable of forming a planographic printing plate material capable of direct plate making from digital data of a computer or the like by recording particularly with lasers which emit ultraviolet light, visible light and infrared light as a photocrosslinkable composition which attracts attention with respect to the strength of a photosensitive layer in an image forming technique. - 特許庁

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same. - 特許庁

基板上に塗布した、樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、及び着色剤を含む感光性樹脂組成物に対し、紫外光レーザーでパターン露光を行ウ工程を含み、膜厚が２．２μｍ〜３．５μｍである、色度ｘ≧０．６４の赤色画素、色度ｘ≦０．１５の青色画素、及び色度ｙ≧０．５７の緑色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により得られたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを備えた液晶表示装置。例文帳に追加

A color filter manufactured by the method, and a liquid display device provided with the color filter, are provided. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、マスク被覆率依存性が小さく、塗布後の経時安定性（ＰＣＤ）、露光後の経時安定性（ＰＥＤ）が大きいポジ型レジスト組成物、更に加えてプロセスマージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to specifically provide a positive resist composition having small mask coverage dependence, high post-coating delay stability (PCD) and high post-exposure delay stability (PED), and to further provide a positive resist composition excellent also in process margin. - 特許庁