「紫外レーザ」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

感度、経時保存安定性、密着性に優れソルダーレジスト用として、又、紫外から青紫色レーザー光による直接描画に好適な光硬化性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photocurable composition excellent in sensitivity, temporal storage stability and adhesion and suitable for use as a solder resist or for direct pattern formation with ultraviolet to violaceous laser light. - 特許庁

高感度と現像処理安定性を両立でき、特に紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することによりデジタルデータから直接製版可能な平版印刷用版材として好適な光重合性組成物を得る。例文帳に追加

To obtain a photopolymerizable composition, having both high sensitivity and processing stability and suitable for use as a planographic printing plate material which can directly make a printing plate from digital data, particularly by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser which emit ultraviolet light, visible light or infrared light. - 特許庁

レーザー光、特に紫外から青紫色レーザー光に対して高感度であると共に、経時保存安定性、及び基板に対する密着性に優れた感光性組成物であって、特に、ソルダーレジストあるいはドライフィルム用として、又、特に紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供する例文帳に追加

To provide a photosensitive composition which is highly sensitive to laser light, particularly to laser light from ultraviolet to blue-violet, and is excellent in long-term storage stability and adhesion to a substrate, wherein the photosensitive composition is suitably used as a solder resist or a dry film, and in particular it is suitable for direct drawing using laser light from ultraviolet to blue-violet. - 特許庁

本発明によるレーザアニール方法は、赤色から近赤外線領域（６００〜９００ｎｍ）の連続発振レーザビームと、可視光線から紫外線領域（５５０〜１００ｎｍ）のパルスレーザビームを重畳走査し、基板上に形成された非晶質状態のシリコン薄膜を多結晶状態のシリコン薄膜に変換する。例文帳に追加

In a laser annealing method of the present invention, a continuous-wave laser beam having a wavelength range (600 to 900 nm) of red light to near-infrared light and a pulse laser beam having a wavelength range (100 to 550 nm) of visible light to ultraviolet light are overlappingly scanned to transform an amorphous silicon thin film formed on a substrate into a polycrystalline silicon thin film. - 特許庁

フッ素エキシマレーザを光源とし、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記フッ素エキシマレーザ光の真空紫外域の波長を露光光とし、前記フッ素エキシマレーザ光が同時に発光する可視光または赤外光を用いた光軸合わせ手段を設ける。例文帳に追加

An exposure system projects a mask pattern onto a photosensitive substrate using a fluorine excimer laser as a light source, where the beam of the excimer laser whose wavelengths are in a wavelength range of vacuum ultraviolet rays are used as an exposure light, and an optical axis aligning means in which visible light or infrared beams emitted from the fluorine excimer laser at the same time are used is provided. - 特許庁

例えばＤＦＢ（Distributed feedback）レーザ等からの可視域から赤外域のレーザ光を分岐して、光ファイバー増幅器を有する複数の光増幅ユニットを用いて増幅して光ファイバー・バンドル１９に束ねた後、非線形光学結晶５０２〜５０４を有する波長変換部２０によって紫外域のレーザ光ＬＢ５に変換する。例文帳に追加

A laser beam, ranging from a visible region to an infrared region from a DFB(distributed feedback) laser or the like, is branched, amplified by a plurality of light amplification units having optical fiber amplifiers, bundled into an optical fiber bundle 19, and then converted into a laser beam LB5 in the ultraviolet region by a wavelength conversion part 20 having nonlinear optical crystals 502-504. - 特許庁

発振波長が３６０ｎｍ以下の紫外線である短波長レーザー、例えばＹＡＧレーザーの第４高調波を用いれば、下層膜に影響を与えずに短絡欠陥周辺部の上部電極のみを精度良く除去することができる。例文帳に追加

By using a short wavelength laser of UV rays at ≤360 nm wavelength, for example, by using the fourth order harmonic waves of a YAG laser, only the upper electrode near the short circuit defect can be removed with good accuracy without adding influences on the lower films. - 特許庁

安価でかつ汎用の塩素系シラン化合物を用いて、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー照射による吸収・発光の生成を抑え、紫外光透過用光学ガラスとして、特に耐レーザー特性に優れた光学ガラスの提供する。例文帳に追加

To provide an optical glass having particularly excellent laser resistance as an optical glass for transmitting ultraviolet rays by using an inexpensive and general purpose chlorine-based silane compound to suppress absorption/emission caused by the irradiation with ≤300 nm excimer laser. - 特許庁

このようなターゲットは、１パルスのレーザー光により丁度プラズマ化できる程度の量のプラズマ源物質を有し且つパルスレーザー光の径に対応する大きさにすることにより、極端紫外光を効率よく発生することができる。例文帳に追加

Such a target has an enough amount of plasma source material to become plasma by one pulse of laser beam, and by making it a size coping with the diameter of the pulse laser beam, the extreme ultraviolet light is generated efficiently. - 特許庁

少なくとも順次（Ａ）アルミニウム支持体、（Ｂ）レーザー感光性記録層からなる平版印刷版を、紫外から可視光領域（３６０〜４５０ｎｍ）の半導体レーザー光を用いたインナードラム型のプレートセッターで露光することを特徴とする。例文帳に追加

The planographic printing plate successively consisting of at least (A) an aluminum base and (B) a laser photosensitive recording layer is exposed by a plate setter of an inner drum type using a semiconductor laser beam from UV to visible light regions (360 to 450 nm). - 特許庁

本発明は、レーザー生成光源（３２）の近くに位置する複数のハードウエア素子を、レーザー生成光源から放出されるエネルギ粒子の腐食効果から保護するために薄膜保護コーティング（４６）を利用する極限紫外リソグラフィー装置に関する。例文帳に追加

The limit-ultraviolet lithography apparatus utilizes a thin-film protection coating (46) for protecting a plurality of hardware elements that are positioned near a laser generation light source (32) from the corrosion effect of energy particles emitted from a laser generation light source. - 特許庁

エキシマレーザ等の紫外パルスレーザを光源に用いた透過率測定に関して、蛍石結晶等の光学部材の有する複屈折特性の影響を受けることなく、透過率を高精度に測定することができる透過率測定装置の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a transmittance measuring apparatus for precisely measuring transmittance without being affected by birefringence characteristics that the optical member of fluorite crystal has, in a measurement of transmittance using an ultraviolet pulsed laser, such as an excimer laser, for a light source. - 特許庁

光透過層を通して、３７０〜４３０ｎｍの範囲に発振波長を有するレーザー光により記録又は再生を行なう光ディスクに最適な、該レーザー光の透過率が高い光透過層を形成できる紫外線硬化型組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an ultraviolet-curing type composition which enables to form a light transmission layer having high transmissivity of laser beam suitable for an optical disk for recording or reproducing with the laser beam which has an oscillation wavelength in the range of 370-430 nm through the light transmission layer. - 特許庁

レーザーで画像記録後、最終画像担持体へ再転写を行うレーザー溶融熱転写方式で使用する中間転写媒体の受像層が、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定化剤の少なくとも一つを含有することを特徴とする中間転写媒体。例文帳に追加

An image receiving layer of an intermediate transfer medium used by the laser melting thermal transfer system wherein an image is re-transfer onto a final image carrier after recorded by a laser contains at least one of the ultraviolet absorber, the antioxidant and the light stabilizer. - 特許庁

マトリックス支援レーザー脱離イオン化−飛行時間質量分析計による表面分析方法において、試料の表面にマトリックスを真空蒸着した後に紫外線レーザーを照射してイオン化を行って試料表面の化学物質に関連するマススペクトルを得る。例文帳に追加

In this surface analyzing method by means of the matrix assist laser deionization time-of-flight mass spectrometer, after vacuum deposition of a matrix on the sample surface, ionization is carried out by ultraviolet laser irradiation for providing a mass spectrum about a chemical substance on the sample surface. - 特許庁

溶接部の監視に当たっては、プラズマ光の波長帯域と溶接用レーザの波長帯域を避けて監視するために、これらと波長帯域の異なる光を発光する紫外光ストロボ５でレーザ照射部及びシーム部２を照明する。例文帳に追加

When the welding part is to be monitored, an ultraviolet beam strobe 5 for emitting beams with different wavelength bands applies light to a laser application part and the seam part 2 for monitoring by avoiding the wavelength region of the plasma beam and that of welding laser beams. - 特許庁

屈折光学系と回折光学素子とを一体として、紫外線レーザ光と特定波長の可視光レーザとを共に集光して被照射面上に光スポットをそれぞれ色収差なく高い透過率で照射形成できる対物レンズを提供する。例文帳に追加

To provide an objective lens constituted by integrating a dioptric system and a diffraction optical device, condensing an ultraviolet laser beam and a visible laser beam having specified wavelength together and radiating and forming a light spot on a surface to be irradiated with high transmissivity without causing chromatic aberration respectively. - 特許庁

これにより、加工に最適な高エネルギー密度の紫外線パルスレーザによって高速で穴あけ加工しながら、低エネルギー密度のレーザ照射で高エネルギー密度照射の間隔をあけることで、熱の発生を抑制することができる。例文帳に追加

Heat production is suppressed when the low energy density laser beam is applied for providing time intervals in high energy density laser application while high-speed boring is under way by the high energy density UV pulsed laser beam which is optimum for the boring process. - 特許庁

波長１９８．３〜１９８．８ｎｍの波長域のレーザー光を発生することができるとともに、照明用の光源として各種装置に搭載可能であり、かつ、実用的で装置の全体構成を小型化したロバスト性の高い深紫外レーザー装置を提供する。例文帳に追加

To provide a deep ultraviolet laser device which can emit laser light having wavelength range of 198.3 to 198.8 nm, can be mounted on various devices as a light source for lighting, is practical, has its constitution made compact on the whole, and is highly robust. - 特許庁

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed. - 特許庁

この蛍光面をＧａＮ系レーザーダイオードによる紫外線のレーザー光２で水平走査方向に走査し、赤色蛍光体８、緑色蛍光体９および青色蛍光体１０を励起して赤色、緑色および青色を発光させ、カラー表示を行う。例文帳に追加

The fluorescent surface is scanned in a horizontal scanning direction with a laser beam 2 of ultraviolet rays from a GaN laser diode, and the red fluorescent body 8, the green fluorescent body 9, and the blue fluorescent body 10 are excited for emitting red, green, and blue colors, thus performing color display. - 特許庁

半導体レーザ装置２０を作製する際、ステム２１にキャップ２６を取り付ける前に、パッケージ部２８の内側となるキャップ２６の内面、ステム２１、ヒートシンク２２および半導体レーザ素子２９を乾燥空気雰囲気中で紫外線で照射し、加熱する。例文帳に追加

When a semiconductor laser device 20 is manufactured before a cap 26 is attached to a stem 21; an inner face of the cap 26 which is located inside a package 28, the stem 21, a heat sink 22, and a semiconductor laser element 29 are irradiated by ultraviolet rays in a dry air atmosphere and heated. - 特許庁

レーザによる損傷を受け難く、可視光域から近紫外域までの領域において、諸収差（特に色収差）が良好に補正され、透過率が十分に高く、さらに作動距離が十分に確保された、レーザ加工および加工前後の観察に好適な対物レンズを提供する。例文帳に追加

To provide an objective lens that is less likely to be damaged by a laser, is satisfactorily corrected in various aberrations (in particular, color aberration) in an area from the visible light area to a near-ultraviolet area, has sufficient high transmittance, further ensures a sufficient operating distance, and is suitable for observation before and after laser machining. - 特許庁

光硬化性樹脂４２へ、第１光源１２からのレーザビームの射出によって紫外線照射光造形法による粗い光造形を実施した後に、第２光源１４からのレーザビームを射出によって２光子吸収光造形法による微細な光造形を連続して行う。例文帳に追加

A photocurable resin 42, after rough photo-fabrication is done by an ultraviolet irradiation photo-fabrication method by radiating laser beams from the first light source 12, is subjected successively to fine photo-fabrication by a two photon absorption photo-fabrication method by radiating laser beams from the second light source 14. - 特許庁

レーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも１つのターゲット（１７）をチャンバ内で発生させるとともに、少なくとも１つのパルスレーザビーム（３）をチャンバ内でターゲット（１７）に集光させる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for generating X-rays or EUV radiation via laser plasma emission, in which at least one target (17) is generated in a chamber, and at least one pulsed laser beam (3) is focused on the target (17) in the chamber. - 特許庁

レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用粘着シートにおいて、前記粘着シートは、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられているものであり、かつ基材のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）が０．４〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^2 ）〕以下であることを特徴とするレーザー加工用粘着シート。例文帳に追加

The adhesive sheet is such that at least an adhesive layer is provided on a substrate, wherein the etching rate(etching speed/energy fluence) of the substrate is ≤0.4[(μm/pulse)/(J/cm^2)]. - 特許庁

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ2レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性を達成すると共に、マスク被覆率依存性を低減し、更には液浸露光にも適用可能な化学増幅型レジスト材料に好適に用いられる新規な含窒素有機化合物の提供。例文帳に追加

To provide a new nitrogen-containing organic compound suitably used for a chemically-amplified resist material applicable to immersion exposure that gives a high-resolution image and reduces dependence on mask coverage in photolithography for microfabrication, especially in lithography using as a light source a KrF laser, an ArF laser, an F2 laser, extremely-short ultraviolet rays, an electron beam, X-rays and the like. - 特許庁

赤色半導体レーザ素子１のｐ型パッド電極１２ａと第１の端子１Ｐとがワイヤ１Ｗａにより接続され、赤外半導体レーザ素子２のｐ型パッド電極２２ａと第２の端子２Ｐとがワイヤ２Ｗａにより接続され、青紫色半導体レーザ素子３のｐ電極３２と第３の端子３Ｐとがワイヤ３Ｗにより接続される。例文帳に追加

A p-pad electrode 12a of a red semiconductor laser element 1 and a first terminal 1P are connected by a wire 1Wa, a p-pad electrode 22a of an infrared semiconductor laser element 2 and a second terminal 2P are connected by a wire 2Wa, and a p-type electrode 32 of a blue-violet semiconductor laser element 3 and a third terminal 3P are connected by a wire 3W. - 特許庁

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material. - 特許庁

レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に、分解物による被加工物表面の汚染を効果的に抑制でき、かつ加工精度を高くすることのできるレーザー加工用保護シートを用いたレーザー加工品の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a production method for a laser processed article using a laser processing protection sheet capable of effectively preventing contamination on the surface of an article to be processed by decomposition products when the article to be processed is processed by the UV absorption ablation of a laser beam, and also capable of increasing processing precision, and to provide the laser processing protection sheet used to the production method for the laser processed article. - 特許庁

真空紫外光（例えば、ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2レーザー、固体レーザー、Ｘｅ_2ランプ光、Ｋｒ_2ランプ光）を光源とした光リソグラフィー装置の光学系に使用できる光学部材を作製するための蛍石単結晶素材を製造する方法、その製造方法にかかる熱処理方法、及び前記光学部材として使用できる蛍石単結晶を提供すること。例文帳に追加

To provide a producing method of a fluorite single crystal material used for producing optical members which can be used for the optical system of a photolithographic device using vacuum UV rays (such as KrF or ArF excimer laser, F2 laser, solid laser, Xe2 lamp and Kr2 lamp), to provide the heat treatment for the producing method, and to provide a fluorite single crystal which can be used as an optical member. - 特許庁

レーザ入射光の波長に対する透明領域が広く、耐レーザ損傷が大きく、良質の大型結晶の作製が容易で、加工性に優れ、潮解性が小さく取り扱い性にも優れた、２次非線形光学効果に基づいて紫外線光を得る波長変換素子、波長変換方法およびレーザ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wavelength conversion element which is wide in transparent region to the wavelength of laser incident light, high in laser damage resistance, easy in making of a large-sized crystal of good quality, excellent in workability, small in deliquescence property and excellent in handling quality, and obtain UV light in accordance with a quadratic nonlinear optical effect, a wavelength conversion method and a laser apparatus. - 特許庁

四ホウ酸リチウム単結晶（Ｌｉ_2 Ｂ_4 Ｏ_7 ）から成る波長変換素子３０を有し、この四ホウ酸リチウム単結晶からなる波長変換素子３０にレーザ光を透過させることにより、２次非線形光学効果に基づいて、紫外線領域のレーザ光を得るように、透過レーザ光の波長を変換する。例文帳に追加

This method has a wavelength conversion element 30 consisting of a signal crystal of a lithium tetraborate (Li_2B_4O_7) and a laser beam is made to transmit the wavelength conversion element 30 consisting of this lithium tetraborate, by which the wavelength of the transmitted laser beam is so converted as to obtain the laser beam of a UV region in accordance with the quadratic nonlinear optical effect. - 特許庁

レーザビームによって蛍光体化される高分子材料にレーザビーム照射による損傷改良用の金属粉顔料を混合して成る金属粉混合高分子材料であって、前記金属粉顔料混合高分子材料は、レーザビーム照射により情報を付与することが可能であり、前記付与した情報は、可視光では不可視であるが、紫外線照射すると可視化するものであることを特徴とする。例文帳に追加

In the mixed polymer material with the metal powder comprising mixing the metal powder pigment for improving the damage causing by the laser beam irradiation with the polymer material forming phosphor by the laser beam, the laser beam irradiation is possible to impart information to the mixed polymer material with the metal powder pigment, and the imparted information is invisible in case of visible light irradiation, but becomes visible in case of ultraviolet rays irradiation. - 特許庁

上記方法に従ってレーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための装置は、少なくとも１つのレーザビーム（３）を発生するための手段と、チャンバと、少なくとも１つのターゲット（１７）をチャンバ内で発生するための手段（１０）と、レーザビーム（３）をチャンバ内でターゲット（１７）に集光させるための手段（１３）とを含む。例文帳に追加

An apparatus for generating X-rays or EUV radiation via laser plasma emission according to the above method comprises a means for generating at least one laser beam (3), a chamber, a means (10) for generating at least one target (17) in the chamber, and a means (13) for focusing the laser beam (3) on the target (17) in the chamber. - 特許庁

複数本の光ファイバＦを個別に装着する複数のマスクアライナ２と、レーザ光源３から出力された所定ビーム幅のレーザ光（紫外光）Ｌを、複数本のレーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３に分割して各マスクアライナにそれぞれ個別に導く光学素子（ミラー）１１,１２,１３とを備える。例文帳に追加

The device is equipped with a plurality of mask aligners 2 that individually mount more than one optical fibers F and optical elements (mirrors) 11, 12, 13 that split a laser beam (ultraviolet rays) of a prescribed beam width outputted from a laser light source 3 into a plurality of laser beams L1, L2, L3 and guide the beams to the aligners, respectively. - 特許庁

レーザ発振器からのレーザ出力光を非線形光学結晶２３によって高調波を発生させ短波長を得る波長変換レーザにおいて，波長変換効率を向上させ，かつ非線形光学結晶の寿命を延ばす事で，大出力で実用的な紫外光源を得る事を目的とする。例文帳に追加

To provide a UV light source which has a high power and is practical by enhancing the efficiency of wavelength conversion and prolonging a life of nonlinear optical crystal in a wavelength converting laser which generates higher harmonic wave and provides shorter wavelength by means of a nonlinear optical crystal 23 with respect to a laser output beam from a laser transmitter. - 特許庁

また、本発明の半導体デバイスの製造方法は、基板上に形成された半導体膜にレーザを照射して結晶化する製造方法において、紫外線領域の波長を有する第１のレーザを通過させる投影マスクであって、遮光部の材質がアルミニウムと高融点金属を含む組成の合金である投影マスクにより第１のレーザの照射領域を限定することを特徴とする。例文帳に追加

Also, this method of manufacturing the semiconductor device is for irradiating a semiconductor film formed on a substrate with a laser beam to crystalize the semiconductor film, in which a first laser irradiation area is restricted by a projection mask which transmits a first laser beam having a wavelength in an ultraviolet area, and in which the material of a light-shielding section is an alloy of a composition including an aluminum and a refractory metal. - 特許庁

現像に対する線幅安定性が高く、高解像度のパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法、特に、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な、着色感光性樹脂組成物および紫外光レーザー露光によるパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a coloring light-sensitive resin composition, which has high line width stability relative to development and can form a pattern with high resolution, as well as a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure, and particularly to provide a coloring light-sensitive resin composition suitable for forming a colored pixel of a color filter or the like and a method for forming patterns using ultraviolet ray laser exposure. - 特許庁

本発明のスクライブ溝形成装置は、被加工基板６０を保持する基板ホルダ５０と、基板ホルダ５０に保持された被加工基板６０の割断予定線に沿って、集光させた紫外線レーザ光ＵＬＢを照射して、被加工基板６０にスクライブ溝を形成する紫外線レーザ照射部２０とを備えている。例文帳に追加

The scribing groove forming apparatus is provided with: a substrate holder 50 for holding a substrate 60 to be worked; and an ultraviolet laser irradiation part 20 for irradiating the substrate 60 to be worked with collected ultraviolet laser beam ULB along a planned cutting line of the substrate 60 to be worked which is held by the substrate holder 50. - 特許庁

極紫外線レーザコンフォーカル顕微鏡１で試料を観察する場合、最初に試料上の観察対象を通常光学系の可視光を使用して特定し、観察対象を特定した後で、コンフォーカル光学系の極紫外線レーザを使用してより高い分解能で観察対象を観察する。例文帳に追加

By this operating method, an object to be observed on the sample is specified first by using the visible light beam of a normal optical system and observed with high resolution by using the extreme ultraviolet laser beam of a confocal optical system after it is specified when the sample is observed by a ultraviolet laser confocal microscope 1. - 特許庁

この方法により、蛍石のＫｒＦやＡｒＦエキシマレーザ等の紫外線に対する耐久性を正確に評価することができ、紫外線耐久性に優れた蛍石をＫｒＦやＡｒＦエキシマレーザを光源とする光学系に用いることにより、熱収差や透過率低下などの性能劣化の少なく、照度の安定した光学系を得ることができる。例文帳に追加

By this method, the durability of fluorspar against ultraviolet rays such as KrF or ArF excimer laser can be accurately evaluated and, by using the fluorspar excellent in ultraviolet durability in an optical system using KrF or ArF excimer laser as a light source, an optical system reduced in the deterioration of capacity such as thermal aberration or the lowering of transmissivity and stable in luminous intensity can be obtained. - 特許庁

第１波長のレーザー光に対する透過率の低下はなく、該第１波長より波長が短く、且つ紫外線より波長が長い第２波長のレーザー光に対する透過率が照射時間の経過に伴って低下する特性を有する合成樹脂材料を成形してレンズを製造する場合に成形前の合成樹脂材料に紫外線を照射させる。例文帳に追加

In case that the lens is manufactured by molding a synthetic resin material having characteristics that the transmittance to a laser beam of a first wavelength is not lowered and the transmittance to a laser beam of a second wavelength shorter than the first wavelength and longer than the wavelength of ultraviolet rays lowers with the elapse of an irradiation time, the synthetic resin material before molding is irradiated with ultraviolet rays. - 特許庁

特に大口径・大重量の形状を得るために加熱変形により形成され、Ｎａの混入を抑制し、高い紫外線レーザー透過性を維持しつつ、高い均質性、低い複屈折といった光学特性を兼ね備え、特に半導体露光装置に好適に用いられる紫外線レーザー用合成石英ガラス材料の製造方法及び合成石英ガラス材料を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a synthetic quartz glass material and the synthetic quartz glass material for ultraviolet laser preferably one used for semiconductor aligner, especially formed by heat deformation for obtaining a large diameter, very heavy shape, while restraining contamination of Na, keeping high transparency of ultraviolet laser light, and also having optical characteristics such as high homogeneity and low double refraction. - 特許庁

紫外線レーザー光を照射してファイバーブラッググレーティングを作製する工程で、従来からなされている被覆除去の工程を別に設けることなく、紫外線レーザー光で被覆樹脂を昇華させて燃やして除去し、連続して照射を続け、ファイバーブラッググレーティングを形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method to form a fiber Bragg grating by continuously sublimating, burning and removing and irradiating coated resin with an ultraviolet laser beam without adopting an independent step for removing the coat, which is conventionally adopted in a step for manufacturing the fiber Bragg grating by an irradiation with the ultraviolet laser beam. - 特許庁