「紫外レーザ」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

エキシマレーザ光照射による透過率の低下が小さく、かつ屈折率の変動幅Δｎの小さい紫外線用石英ガラスおよびその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide quartz glass for UV ray and a method of manufacturing the same which is small in deterioration of transmittance caused by irradiation with excimer laser beam and whose variance width of refractive index Δn is small. - 特許庁

紫外線等の放射が蛍光板２ＣＬに入射した場合、その位置で物体面となる光が発生するので、かかるレーザビームの横断面像を固体撮像素子２Ｓで正確に撮像することができる。例文帳に追加

When UV radiation impinges on the fluorescent plate 2CL, a light becoming the object face is generated at that position and the transverse plane image of such a laser beam can be picked up accurately by means of a solid state image sensor 2S. - 特許庁

繰り返し周波数を上げて平均出力の増大を図ることができる、レーザアシストＤＰＰ方式極端紫外光光源装置に適用するに好適なパルス電力供給手段を提供すること。例文帳に追加

To provide a pulse power supply means, suitable for application in a laser-assisted DPP-system extreme-ultraviolet light source device capable of increasing the average output by increasing the repetition frequency. - 特許庁

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source. - 特許庁

また、前記レーザ・レーダ２及び紫外センサ３との間で通信可能である地表状態検出装置４０は、距離を示す情報及び画像を示す情報を集信し、地表状態を検出する。例文帳に追加

The earth-surface-state detection apparatus 40 which can communicate between the laser radars 2 and the sensors 3 acquires information indicating the distance and information indicating an image so as to detect the earth surface state. - 特許庁

液化スタナン容器５に貯蔵されたＳｎＨ_4 は、プラズマ生成部６に供給され、レーザあるいは放電によりプラズマ化され、Ｓｎイオンから１３．５ｎｍの極端紫外光を得る。例文帳に追加

The SnH_4 stored in the liquefaction stannane container 5 is supplied to a plasma generation part 6, and it is changed to plasma by laser or electric discharging, resulting in generating an extreme ultra-violet ray of 13.5 nm from Sn ions. - 特許庁

薄膜をレーザ光によりカットするときに薄膜から上方に向けて飛散した粉体に対して紫外光を照射することにより、粉体を改質して薄膜とは異質の素材にする。例文帳に追加

By irradiating the powder scattered from the thin film toward the upper direction with ultraviolet light when the thin film is cut by the laser light, the powder is modified, so as to be a stock having a material different from that of the thin film. - 特許庁

半導体レーザ装置１０００Ａの青紫色発光点１１、赤外発光点３１および赤色発光点２１は、この順でＹ方向に沿って略直線上に並ぶように配置されている。例文帳に追加

The blue-purple light-emitting point 11, infrared light-emitting point 31 and red light-emitting point 21 of the semiconductor laser device 1000A are arranged so as to be lined up on approximately straight lines along the Y direction in the order. - 特許庁

紫外レーザ光源の発熱や振動による発振不良などの課題を解消し、微細な回路パターンを高分解能で検出する装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device which cancels problems such as oscillation failure, etc., due to heat generation or oscillations of an ultraviolet laser light source and detects a fine circuit pattern with high resolution. - 特許庁

ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にＥＵＶ光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet light source device capable of efficiently obtaining EUV light with the use of a driver laser capable of realizing a desired pulse width in nearly uniform strength. - 特許庁

ＫｒＦやＡｒＦなどのエキシマレーザ光に対し、初期透過率がすぐれ照射による透過率の低下が小さい紫外線用石英ガラスおよびその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide optical quartz glass for UV which shows excellent initial transmittance and smaller transmittance reduction by irradiation with respect to an excimer laser beam such as that of KrF or ArF and also to provide a process for producing the optical quartz glass. - 特許庁

（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）着色剤、および（Ｄ）下記一般式（Ｉ）で表される光重合開始剤、を含む紫外光レーザー用着色感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The coloring light-sensitive resin composition for ultraviolet ray laser includes: (A) ethylenically unsaturated compound, (B) binder resin, (C) colorant, and (D) light polymerization initiator shown in the general formula (I). - 特許庁

紫外線レーザと共に使用される光学部材等の材料として有用な合成石英ガラスの製造方法、並びにそれに用いる熱処理装置の提供。例文帳に追加

To provide a method of producing synthetic quartz glass useful as a material for an optical component and others used together with an ultraviolet laser, and a thermal treatment apparatus used therein. - 特許庁

高出力の紫外光線や３００〜４００ｎｍ領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide an optical glass which suffers little change in refractive index by radiation of strong light having wavelengths of 300 nm to 400 nm such as ultraviolet laser. - 特許庁

紫外線硬化型接着剤の硬化収縮による光軸ずれを抑制でき、レーザ光を点灯させながら光軸調整を行うことができる光学部品の接着固定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of adhesion and fixing of an optical component by which the shift of an optical axis due to the contraction by hardening of an ultraviolet setting type adhesive is suppressed and an optical axis is adjusted while laser light is being emitted. - 特許庁

これらの発色層に必要なエネルギーの小さい発色層から順番にその発色層が発色するのに必要なレーザ光を照射し、その後その発色層に紫外線を照射して当該発色層を定着させる。例文帳に追加

A laser beam is emitted to the color development layer sequentially in the order of layers with a smaller energy required for color development and an ultraviolet ray is emitted to the color development layers to fix the color of the color development layers after that. - 特許庁

ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にＥＵＶ光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet light source device capable of efficiently obtaining EUV light using a driver laser capable of realizing a desired pulse width by roughly uniform strength. - 特許庁

エキシマレーザ光照射による透過率の低下が小さく、かつ屈折率の場所による変動の小さい紫外線用石英ガラスおよびその製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a quartz glass for an ultraviolet light, having less reduction of its transmitting rate by an excimer laser light irradiation and exhibiting a small positional change of refractive index, and provide a method for producing the same. - 特許庁

比較判定手段２５が紫外線の量の変化から導光路２１に障害が発生したと判定した場合には、この比較判定手段２５からの信号に基づいて指令部１１がレーザ発生装置１３を停止させる。例文帳に追加

In the case the comparison discriminating means discriminates generation of trouble in the light guide 21, a command part 11 stops the laser beam oscillator 13 based on a signal from the comparison discriminating means. - 特許庁

着色高分子材料の表面にレーザビームを照射し、該表面に紫外線を照射すると可視光域において発色する着色高分子材料を提供する。例文帳に追加

To provide a colored polymer material which is colored in a visible light region by irradiating a laser beam on the surface of a colored polymer material and irradiating an ultraviolet ray on the surface. - 特許庁

この光吸収部１３は、紫外線又はレーザ光を映像光の光路と同等な光路を通過させて照射するセルフアライメントにより形成する。例文帳に追加

The light absorbing part 13 is formed by a self-alignment in which a ultraviolet ray or laser beam is passed to radiate through the optical path equal to that of the video light. - 特許庁

紫外域の光励起の面発光型半導体レーザ装置において、高出力かつ高効率なまで基本横モード発振すること、および直接変調を可能にする。例文帳に追加

To allow fundamental lateral mode oscillations up to a high output and high efficiency as well as direct modulations, related to a surface light- emitting type semiconductor laser device for optical excitation in the ultraviolet region. - 特許庁

これにより、４倍波紫外線レーザが多層プリント配線基板１の構成要素を分子レベルでアブレートし、直径Ｄ１、Ｄ２が１０〜２０μｍ程度の小径の貫通孔５や止め穴６が形成される。例文帳に追加

Thus, the configuring elements of the multi-layer printed wiring board 1 are ablated in a molecular level by the four-time wave ultraviolet laser, and a through-hole 5 or a stop hole 6 whose diameters D1 and D2 are small, that is, about 10 to 20 μm are formed. - 特許庁

半導体レーザ装置１０００Ａの青紫色発光点１１、赤外発光点３１および赤色発光点２１は、この順でＹ方向に沿って略直線上に並ぶように配置されている。例文帳に追加

The blue-purple light-emitting point 11, infrared light-emitting point 31, and red light-emitting point 21 of a semiconductor laser device 1000A are arranged so as to be lined up on approximately straight lines along a Y direction in this order. - 特許庁

フィルム状樹脂によってカバーシートを形成する前に、紫外線の照射、プラズマの照射、エキシマレーザー照射などの方法により、ケースの内側に対して表面改質処理を行なう。例文帳に追加

Before forming the cover sheet with a film-shaped resin, a surface modifying treatment is carried out on the inner side of a plane of the case by a method such as irradiation with ultraviolet light, irradiation with plasma, irradiation by an excimer laser or the like. - 特許庁

可視光域のみならず、紫外線領域においても使用可能で、レーザ光の波長や記録前後の反射率差を任意に選定できる光記録材料を提供する。例文帳に追加

To provide an optical recording material which can be used not only in a visual light area but also in an ultraviolet area, and which enables the arbitrary selection of the wavelength of laser light and a difference between reflection factors before and after recording. - 特許庁

長期保存性及び作業性が良好で、特に紫外線レーザー露光に優れた感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いたプリント配線板の提供。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which has good long-term preservable property and good workability, and is particularly excellent in exposure to a UV laser, and to provide a photosensitive element and a printed wiring-board using the same. - 特許庁

純粋シリカガラスのサンプルＡ〜Ｃを用意し、サンプルＡ〜ＣにＡｒＦエキシマレーザを照射し、その照射ショット数に対する紫外光の透過率の減少度合を測定した。例文帳に追加

In this production, pure silica glass samples A to C are prepared and each of the samples A to C is irradiated with an ArF excimer laser beam and correlation of the degrees of reduction in UV transmissivity with the number of irradiation shots of each of the samples A to C is measured and plotted. - 特許庁

まず波長が３５５ｎｍである紫外光レーザを、ＴＦＴアレイ基板の表面側から照射することにより、カットおよびコンタクトさせる箇所の層間絶縁膜１５を除去する（図１(a)-2 、図１(b)-2 ）。例文帳に追加

In this manufacturing method, first, interlayer insulating films 15 of place where are to be cut or contact is to be performed are removed (Figure 1 (a)-2, Figure 1 (b)-2) by irradiating laser irradiation places for cutting with a ultraviolet laser beam whose wavelength is 355 nm from the surface side of a TFT (thin film transistor) array substrate. - 特許庁

フッ素エキシマレーザなどの紫外光を光源とする投影露光装置において、ペリクル空間等のガス置換空間を短時間で不活性ガスで置換する。例文帳に追加

To replace gas in a gas replacement space such as a pellicle space or the like by an inert gas in a short period of time, in a projecting and exposing device employing ultraviolet rays such as a fluorine excimer laser or the like as a light source. - 特許庁

可視光又は紫外線レーザ光を光源とすることにより連鎖硬化を可能とする高感度の感光性樹脂組成物及び硬化方法を提供すること。例文帳に追加

To obtain a light-sensitive resin composition enabling the chain hardening by using a visual light or an ultraviolet laser beam as a light source, and further to provide a hardening method thereof. - 特許庁

また、紫外線レーザビームを使用するので、線幅の解像度を０.５μｍ程度にでき、大面積基坂上に電流駆動能力が高く高精細な多結晶ＴＦＴを形成できる。例文帳に追加

Further, with the use of ultraviolet ray laser beams, the resolution in line width is about 0.5 μm level, allowing a fine polycrystalline TFT with high current driving capacity to be formed on a large-area substrate. - 特許庁

ＫｒＦおよびＡｒＦ、Ｆ_２エキシマレーザー用レジスト原料や、Ｘ線、電子ビーム、ＥＵＶ（極端紫外光）用化学増幅型レジスト等の原料となるアクリレート化合物を提供する。例文帳に追加

To provide an acrylate compound that can be used as a resist raw material for KrF, ArF and F_2 excimer laser, and a chemical amplifying resist for an X-ray, an electron beam and an EUV (extreme ultraviolet light) or the like. - 特許庁

特に紫外光や可視光に対して高感度でレーザ描画により硬化可能であり、かつ基材への膜形成後及び描画後の保存安定性に優れた光重合性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a photo-polymerizable resin composition having a high sensitivity especially to ultraviolet light or visible light, capable of being cured with a picture-drawing laser and also excellent in preservation stability after a membrane formation on a base substrate and after the picture-drawing. - 特許庁

金属材料の反射率が減少する紫外領域のレーザ光を金属表面に照射することにより効率的に表面改質層の形成を行っている。例文帳に追加

This working method includes effectively forming a surface-modified layer, by irradiating a metal surface with a laser beam in an ultraviolet region, which is reflected by a metallic material at a lower reflectance. - 特許庁

装置をＦＢＧ書き込み用の近紫外線レーザー５と、光学ミラー６、光学レンズ３、アパーチャー４、位相マスク２等からなる照射光学系と光ファイバー１の自動送り装置７にて構成する。例文帳に追加

The manufacturing device comprises a near UV laser 5 for writing a FBG, an irradiation optical system composed of an optical mirror 6, an optical lens 3, an aperture 4, a phase mask 2 and so on, and an automatic feeding device 7 of an optical fiber 1. - 特許庁

紫外線波長レーザによりノズルプレート原板にインク吐出ノズルを十分な寸法精度で形成し、かつインク吐出ノズル形成時におけるノズルプレート原板への溶融異物の付着を防止する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a nozzle plate by which an ink discharge nozzle can be formed on an original nozzle plate with sufficient dimensional precision, using an ultraviolet wavelength laser and a molten foreign substance can be prevented from being deposited on the original nozzle plate during forming the ink discharge nozzle. - 特許庁

フッ素エキシマレーザなどの紫外光を光源とする投影露光装置において、装置内へ基板を搬入・搬出するためのロードロックチャンバを小型化できるとともに、連続化を可能とする。例文帳に追加

To enable to downsize a load-lock chamber for carrying boards in and out from a projection aligner using ultraviolet radiation such as fluorine excimer laser as a light source and to enable to serialize operations. - 特許庁

ペリクル膜に２２０ｎｍ以下の波長の紫外光を照射する工程は、低圧水銀ランプ、重水素ランプ、キセノンエキシマランプ、及び、ＡｒＦエキシマレーザーよりなる群から選択された少なくとも１つの紫外線光源により２２０ｎｍ以下の波長の紫外光を照射する工程であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that this step is a step of irradiating the pellicle film with UV light having a wavelength of no greater than 220 nm by means of at least one UV light source selected from a group consisting of a low-pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a xenon excimer lamp, and an ArF excimer laser. - 特許庁

紫外線、特に、エキシマレーザ等による短波長の強力な紫外線が照射された場合においても、緑色蛍光および赤色蛍光の発生が抑制され、短波長の紫外線の透過性に優れた、光学用部材として好適に用いることができる光学用合成石英ガラスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing the synthetic quartz glass for optical use which inhibits the occurrence of green fluorescence and red fluorescence even when irradiated with ultraviolet rays, especially short wave-length powerful ultraviolet rays such as an excimer laser or the like, and is excellent in the transmissivity of short wave-length ultraviolet rays and also is suitably used as a member for use in optics. - 特許庁

本発明は、半導体ウェハを支持する検査用ステージ１１と、紫外線レーザ光を集光して半導体ウェハに対して照射する紫外光用対物レンズ４０と、この紫外光用対物レンズ４０に固定され半導体ウェハまでの距離を検出する複数の距離センサ４１と、上記検査用ステージ１１を垂直方向に移動制御する制御部とを備える。例文帳に追加

This device is provided with an examination stage 11 for supporting a semiconductor wafer, an objective lens 40 for ultraviolet light for converging ultraviolet laser light and irradiating the semiconductor wafer with that light, a plurality of distance sensors 41 fixed to this objective lens 40 for ultraviolet light for detecting the distance to the semiconductor wafer and a control part for vertically controlling the movement of the stage 11 for examination. - 特許庁

透光性を有する堅固な基板上の一方の面側に順次、紫外線照射で接着強度がほとんど変化しない特性を有する第一粘着層、紫外線あるいは可視光のレーザ光に対して高い耐光性を有する透明基材シート、紫外線照射で接着強度が著しく低下する特性を有する第二粘着層、および剥離シートを接合してダイシング用粘着シートを構成した。例文帳に追加

A dicing adhesive sheet is constituted by sequentially bonding a first adhesive layer having the property of allowing adhesive strength to be hardly changed by ultraviolet irradiation, a transparent base sheet having high light resistance relative to ultraviolet or visible laser light, a second adhesive layer having the property of allowing adhesive strength to be extremely deteriorated by the ultraviolet irradiation, and a peeling sheet to one surface side of a hard substrate having light transparency. - 特許庁

本発明は、半導体ウェハを支持する検査用ステージ１１と、紫外線レーザ光を集光して半導体ウェハに対して照射する紫外光用対物レンズ４０と、この紫外光用対物レンズ４０に固定され半導体ウェハまでの距離を検出する距離センサ４１と、上記検査用ステージ１１を垂直方向に移動制御する制御部とを備える。例文帳に追加

The invention includes: an inspection stage 11 supporting a semiconductor wafer; an ultraviolet objective lens 40 collecting ultraviolet laser beams and irradiating the semiconductor wafer therewith; a distance sensor 41 fixed to the ultraviolet objective lens 40 for detecting the distance to the semiconductor wafer; and a control part for moving and controlling the inspection stage 11 vertically. - 特許庁

高感度と優れた保存安定性を両立可能で、特に紫外光、可視光及び赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板印刷用版材として好適な光重合性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photopolymerizable composition which can have both high sensitivity and excellent storage stability and is suitable as a litho printing material capable of being directly printed from the digital data of a computer or the like especially with the light of a solid laser or semiconductor laser emitting UV light, visible light and IR light. - 特許庁

画像形成技術の中でポジ型画像形成材料において、感光層の膜強度と保存安定性とに優れ、特に、紫外光、可視光及び赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板印刷用版材を作成可能な酸分解型（ポジ型）感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an acid decomposition type (positive type) photosensitive composition excellent in film strength and storage stability of photosensitive layer in a positive type image-forming material in an image-forming technique and particularly capable of preparing a plate material for litho printing which can be directly photo-engraved by using solid-state laser radiating ultraviolet light, visible light and infrared light and semiconductor laser from digital data of computer, etc. - 特許庁