「超純水製造システム」に関連した英語例文の一覧と使い方

前処理システムと、一次純水システムと、二次純水システムと、回収ラインとを有する超純水製造装置において、一次純水システムから前記回収ラインまでの任意の個所に配置された１０ｐｐｂまでの超純水中の過酸化水素を検出可能な過酸化水素モニターと、過酸化水素モニターの下流側に設けられた切替バルブを備えた分岐管とを有することを特徴としている。例文帳に追加

The ultrapure water making apparatus, which has a pretreatment system, a primary pure water system, a secondary pure water system and a recovery system, has a hydrogen peroxide monitor arranged at an arbitrary place between the primary pure water system and the recovery system to detect hydrogen peroxide up to 10 ppb in ultrapure water and the branch pipe equipped with a changeover valve provided on the downstream side of the hydrogen peroxide monitor. - 特許庁

超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置とユースポイントとを接続する超純水流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を、還元性物質を溶解した水溶液で洗浄することを特徴とする。例文帳に追加

At least a part of the ultra-pure water making system, which comprises an ultra-pure water making apparatus, a use point for ultra-pure water and an ultra-pure water flow channel for connecting the ultra-pure water making apparatus and the use point, is washed with an aqueous solution having a reductive substance dissolved therein. - 特許庁

サブシステムを備える超純水製造装置に取り付けられ機能性水製造システムであって、安定した温度でガスを含ませることができ、ガスの溶解効率の低下を防止して必要な水質の機能性水が供給できる機能性水製造システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a functional water production system which is attached to an ultrapure water production system, allows gas to be contained at a stable temperature, and can prevent a deterioration in dissolving efficiency of the gas to supply functional water of required quality. - 特許庁

一次純水系システム２と、該一次純水系システム２の処理水を処理するサブシステム３とを有する超純水製造装置において、一次純水系システムにおいて、原水を実質的に抗菌剤の存在しない条件下で生物活性炭塔に通水して原水中の有機物を生物的に分解した後、抗菌処理する。例文帳に追加

In the extrapure water making device having the primary pure water system 2 and a subsystem 3 for treating the treated water of the primary pure water system 2, the organic substance in the raw water is biologically decomposed by passing the raw water through a biological active carbon tower under the condition that an antimicrobial agent is substantially absent, then the treated water is subjected to antimicrobial treatment at the primary pure water system 2. - 特許庁

一次純水系システム２と、該一次純水系システム２の処理水を処理するサブシステム３とを有する超純水製造装置において、一次純水系システムにおいて、原水を制限された量の抗菌剤の存在下に生物活性炭塔に通水して原水中の有機物を生物的に分解する。例文帳に追加

In the extrapure water making device having the primary pure water system 2 and a subsystem 3 for treating the treated water of the primary pure water system 2, the organic substance in the raw water is biologically decomposed by passing the raw water through a biological active carbon tower in the presence of a limited amount of an antimicrobial agent at the primary pure water system 2. - 特許庁

前処理システム１、一次純水製造装置１０、二次純水製造装置２０を有する超純水製造装置において、二次純水製造装置２０のポンプ２２のシール排水を一次純水製造装置のタンク１１に返送する。例文帳に追加

In the ultrapure water production apparatus including a pretreatment system 1, a primary pure water production apparatus 10 and a secondary pure water production apparatus 20, the sealing wastewater of the pump 22 of the secondary pure water production apparatus 20 is returned to the tank 11 of the primary pure water production apparatus. - 特許庁

この生物処理水を限外濾過膜分離装置１３で濾過した後、一次純水システム２０及びサブシステム３０で処理することにより超純水を製造する。例文帳に追加

After filtering the biologically treated water with an ultrafiltration membrane apparatus 13, the biologically treated water is treated in a primary pure water system 20 and a sub-system 30 to produce the ultrapure water. - 特許庁

洗浄時間を短縮化できる上、使用済みの洗浄水を原水としてリサイクルできる超純水製造システムの洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for washing an ultrapure water production system which can reduce washing time, and further can recycle used washing water as raw water. - 特許庁

一次純水システム２０と、サブシステム３０と、回収処理システム４０と、を備えた超純水製造システム１において、回収処理システム４０では、分子量がＩＰＡレベルの有機物より大きい有機物を除去した後、１８５ｎｍ付近の波長を有する紫外線を照射する構成とする。例文帳に追加

The ultrapure water production system 1 includes: a primary pure water system 20; a subsystem 30; and a recovery system 40 in which an organic matter whose molecular weight is larger than the other organic matter, such as isopropyl alcohol (IPA) or the like is removed and after that an ultraviolet light having a wavelength range around 185 nm is irradiated. - 特許庁

超純水製造システムの微粒子除去のための洗浄及び殺菌を短時間で効率的に行う。例文帳に追加

To efficiently perform washing and sterilizing for removing fine particles in an extrapure water manufacturing system in a short time. - 特許庁

本発明は、洗浄力特に無機性または有機性の微粒子の除去能力に優れると共に、洗浄液中の成分が残留することなく、洗浄時間が短縮され、超純水製造システムの垂直立上げが可能な超純水製造システムの洗浄方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a washing method of an ultra-pure water making system which is excellent in washing power especially in the removal capacity of inorganic or organic fine particles, prevents the components in a washing liquid, shortens a washing time and enables quick start-up of the system. - 特許庁

超純水を使用する目的の異なる複数のウェットプロセスを含む電子部品部材類製造装置における水処理システムにおいて、前記目的の異なる複数のウェットプロセスに対し、各々独立して超純水をそれぞれ最適なグレードの超純水として供給する複数の超純水供給系を有することを特徴とする電子部品部材類製造装置用水処理システム。例文帳に追加

The subject water treating system for a manufacturing device of the electronic parts and members possesses a plurality of ultrapure water supplying systems each supplying independent ultrapure water as ultrapure water of an optimum grade to a plurality of wet processes different in purpose in the water treating system for the manufacturing device of the electronic parts and members including a plurality of wet processes different in purpose of using ultrapure water. - 特許庁

超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄する際に、前記超純水との接触面に付着した微粒子の表面電位を変化させることにより、前記微粒子を除去する。例文帳に追加

When at least some of an ultrapure water production system comprising the ultrapure water production apparatus, a use point of the ultrapure water, and a flow path of the ultrapure water which connects the above ultrapure water production apparatus and the above use point is washed, the fine particles are removed by changing the surface electric potential of the above fine particles stuck to a contacting surface with the above ultrapure water. - 特許庁

温超純水製造装置のユースポイント配管の立上洗浄方法は、サブシシテム３に供給された一次純水Ｗ１をサブシステム３の超純水加熱装置７で加熱する。例文帳に追加

In the startup cleaning method for the use-point piping of the warm ultrapure water producing apparatus, primary purified water W1 supplied to a subsystem 3 is heated by an ultrapure water heating device 7 of the subsystem 3. - 特許庁

さらにこの原水タンク１１の流入側には、純水製造装置１２が接続されている一方、流出側は超純水製造システム４に接続されている。例文帳に追加

The inflow side of the raw water tank 11 is connected to a pure water production apparatus 12, and the outflow side of the raw water tank 11 is connected to the ultrapure water production system 4. - 特許庁

超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を、塩基性化合物を含む洗浄液で洗浄した後、該塩基性化合物の少なくとも一部が残存する状態で洗浄液中に過酸化水素を注入する。例文帳に追加

At least a part of the extrapure water manufacturing system comprising an extrapure water manufacturing apparatus, a use point of extrapure water, and an extrapure water flow channel connecting the extrapure water manufacturing apparatus and the use point, is washed with a cleaning liquid containing a basic compound, and then hydrogen peroxide is poured into the cleaning liquid in a state where at least a part of the basic compound remains in the liquid. - 特許庁

超純水配管の施工から初期通水前までに配管内に存するＴＯＣの濃度を低減した超純水製造システムの運転方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for operating an ultrapure water production system, in which the concentration of TOC (Total Organic Carbon) in an ultrapure water pipeline is decreased since the construction of the ultrapure water pipeline is undertaken until before water is made to initially pass through the ultrapure water pipeline. - 特許庁

超純水配管の施工から初期通水前までに配管内に存する空気による汚染を防止した超純水製造システムの運転方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for operating an ultrapure water production system which prevents contamination by air present in a pipe from construction of an ultrapure water pipe to before initially passing water. - 特許庁

メンテナンスによるシステムの停止を回避し、またイオン交換樹脂あるいはフィルタ等の交換を行なうことによる水質の初期劣化を防止して、連続的にかつ安定した品質の超純水が供給可能な純水製造システムを得る。例文帳に追加

To provide a system for making pure water in which halt in the system for maintenance is avoided, initial deterioration in the water quality caused by replacing ion exchange resins or filters is prevented, and which continuously supplies ultrapure water with stable quality. - 特許庁

窒素ガスを純水又は超純水に溶解させて窒素ガス溶解水を製造するにあたり、効率的に凝縮水の排出を行うことにより、長期間に亘って連続的かつ安定的に運転可能な窒素ガス溶解水製造方法および窒素ガス溶解水製造システムを提供する。例文帳に追加

To provide a method and system for making nitrogen gas-dissolved water constituted so as to be continuously and stably operated over a long period of time by efficiently performing the discharge of condensed water in making the nitrogen gas-dissolved water by dissolving nitrogen gas in pure water or ultrapure water. - 特許庁

シリカ、ホウ素等の弱電解物質において、高い水質を要求される半導体等の分野に好適な、一次純水システムにおいてこれらを高度に除去することができる超純水製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ultrapure water making apparatus capable of highly removing weak electrolytes such as silica and, boron in a primary pure water system suitable for a field of a semiconductor, or the like, requiring high water quality. - 特許庁

半導体や液晶製造用の洗浄水として使用される超純水のエッチング性について、シリコン物質に対する影響度を指標として簡易かつ高感度に評価する水質評価方法と、当該水質評価方法を用いる超純水評価装置及びこの超純水評価装置を備えた超純水製造システムを提供する。例文帳に追加

To provide a water-quality evaluation method for readily evaluating the etching functionality of ultrapure water used as washing water for manufacturing a semiconductor or a liquid crystal, using the degree of effects with respect to a silicon substance as an index, an ultrapure water evaluation device that uses it, and an ultrapure water producing system equipped with the ultrapure water evaluation device. - 特許庁

例文

電子部品部材類の製造において、低コスト、高品質、フレキシビリティーおよび省エネルギー化に寄与できる、超純水製造・供給システムを提供する。例文帳に追加

To provide an ultrapure water producing/supplying system contributing to reducing a cost, improving quality, forming flexibility and saving energy in manufacturing of electronic parts and members. - 特許庁

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