「10 min.」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Preferably, the rate of formaldehyde generation when heated at 220°C for 90 min in a nitrogen stream is at most 5 ppm/min each within the ranges from 2 to 10 min, from 10 to 30 min and from 50 to 90 min of the heating time.例文帳に追加

窒素気流下、２２０℃、９０分間で加熱した時のホルムアルデヒド発生速度が、２〜１０分、１０分〜３０分、５０分〜９０分それぞれにおいて５ｐｐｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。 - 特許庁

(wherein, t is sheet thickness of steel strip (m); w is sheet width of steel strip (m); and S is the rate of silicon addition (wt.%/min)).例文帳に追加

S≦4.58×10^5×t^1.56／（W^2.64） t：鋼帯板厚（m）、w：鋼帯板幅（m）、S：けい素添加速度（wt％/min） - 特許庁

For heating-up/holding, it takes only 10 min or less, and preferably about 3 min.例文帳に追加

昇温・保持は、１０分以内で十分であり、好ましくは３分程度である。 - 特許庁

The raw material is held for a prescribed time, for example for 10 min.例文帳に追加

そして、原料を所定時間、例えば１０分保持した。 - 特許庁

The slimming agent is drunk before 10 min when taking a bath.例文帳に追加

この痩身剤を入浴の１０分前に飲用する。 - 特許庁

Furthermore, when the time α is longer than 10 min or over and less than 30 min, the transition time from the standby state into the energy-saving standby state is set at 3 min.例文帳に追加

さらに、時間αが１０分を超え３０分未満であるとスタンバイ状態から省エネスタンバイ状態への移行時間は３分とする。 - 特許庁

Thermal treatment is performed for 10 min at 1400°C under N_2 atmosphere of 10 Torr.例文帳に追加

１０ＴｏｒｒのＮ_2雰囲気下で１４００℃、１０分間熱処理した。 - 特許庁

The p-type contact layer 7 is formed, by first lowering the temperature of a substrate 1 to 870°C and then supplying N_2 at 10 liters/min, NH_3 at 10 liters/min, TMG at 100 μmol/min, and CP_2Mg at 60 μmol/min.例文帳に追加

このｐ型コンタクト層７は、基板１の温度を８７０℃に降温し、Ｎ_2 を１０リットル／分、ＮＨ_3 を１０リットル／分、ＴＭＧを１００μmol ／分、ＣＰ_2 Ｍｇを６０μmol ／分で供給して形成した。 - 特許庁

The process of roasting is performed at an extent of 180-220°C for 5-15 min, preferably at an extent of 200°C for 10 min while continuously moving dry raw soybeans in a roasting machine.例文帳に追加

焙焼する工程は、乾燥生大豆を焙焼機内で連続的に移動しながら180〜220℃、５〜15分間程度、好ましくは200℃、10分間程度で行う。 - 特許庁

The crying time is set for 10 sec, and the crying intervals are set at 2 kinds of 10 min and 5 min, and are adjusted in accordance with an actual spot.例文帳に追加

泣く時間は１０秒間とし、間隔は１０分と５分の２種類にして、現場に応じて間隔を調整できるようにする。 - 特許庁

Finally, as a film forming stage, heating is performed at 150°C for 10 min.例文帳に追加

最後に皮膜形成工程として、１５０°Ｃで１０分間の加熱を行う。 - 特許庁

Since the flow of gas through each 10-L reactor is 0.85 L/min, the residence time is approximately 12 min.例文帳に追加

それぞれの10リットルの反応器を通過するガスの流れが0.85 L / 分であるので，滞留時間は約12分である。 - 英語論文検索例文集

The saturated norbornene-based resin film is produced by casting a solution at a casting rate of 10 m/min to 90 m/min.例文帳に追加

流延速度１０ｍ／分以上９０ｍ／分以下で溶液流延することによって製造された飽和ノルボルネン系樹脂フィルムである。 - 特許庁

It is preferable that mixing-stirring reaction is performed at 30 to <50°C for 30 min to 2 hr, and aging reaction is performed at 30 to 100°C for 30 min to 10 hr.例文帳に追加

混合・攪拌反応を３０℃以上５０℃未満で、３０分〜２時間、熟成反応を３０〜１００℃で、３０分〜１０時間行うことが好ましい。 - 特許庁

The outer ring member is next subjected to annealing (third stage S3) preferably at a cooling rate of 5 to 45°C/min, and, more preferably, at 5 to 10°C/min.例文帳に追加

外輪部材は、次に、好ましくは５〜４５℃／分、一層好ましくは５〜１０℃／分の冷却速度で除冷される（第３工程Ｓ３）。 - 特許庁

The film forming rate of the Cu(hfac)(tmvs) raw material is controlled to about 10 nm/min, and the film forming rate of the Cu(hfac)(atms) raw material is controlled to about 400 nm/min.例文帳に追加

Cu(hfac)(tmvs)系原料の成膜速度は約１００ｎｍ／分、Cu(hfac)(atms)系原料の成膜速度は約４００ｎｍ／分である。 - 特許庁

When it is above 10°C, whether a detected water volume in a water volume sensor 7 is not smaller than a first lowest operation flow rate (5 L/min) is then determined.例文帳に追加

１０℃以上のときは、次に水量センサ７における検知水量が第一最低作動流量（５Ｌ／min）以上であるか否かが判定される。 - 特許庁

It is then immersed into hot water of 80°C to 100°C for 5 to 120 min and heat treated at 80°C to 250°C for 10 to 180 min.例文帳に追加

その後に８０℃以上１００℃未満の温水に５〜１２０分浸漬し、８０℃以上２５０℃未満で１０〜１８０分熱処理する。 - 特許庁

The instant Chawan-mushi can be reconstituted to Chawan-mushi by adding hot water of 80°C and leaving at rest for 10 min or by adding water and heating with a microwave oven for 3 min.例文帳に追加

８０℃の熱水を加えて１０分間経過させるか、水を加えて電子レンジで３分間加熱する事によって茶碗蒸しを得る。 - 特許庁

After the charging, the treatment temperature is set 50°C, is continuously stirred for 3 hr after the charging and, thereafter, the intermittent string operation comprising stopping for 50 min and stirring for 10 min is repeated.例文帳に追加

投入後、処理温度を５０℃とし投入後３時間は連続攪拌、それ以降は５０分間停止１０分間攪拌の断続撹拌を繰り返した。 - 特許庁

In the method for producing the InGaN layer, under conditions that a growing temperature is 700°C to 790°C, a growing speed is 30 Å/min to 93 Å/min, and a flow rate of trimethyl indium is 1.76×10^-5 mol/min to 3.53×10^-5 mol/min, the InGaN layer is grown.例文帳に追加

本発明に係るＩｎＧａＮ層の製造方法は、７００℃〜７９０℃の成長温度、３０Å／分〜９３Å／分の成長速度及び１．７６×１０^−５モル／分〜３．５３×１０^−５モル／分のトリメチルインジウムの流量の条件下でＩｎＧａＮ層を成長させる。 - 特許庁

Two or three thresholds are practically set and the specific time is properly 5 s to 10 min.例文帳に追加

しきい値の設定数は２または３が実用的であり、所定時間は５秒〜10分が適切である。 - 特許庁

A minimum input signal amin is inputted from an input part 52 of a positioner 10, and a minimum command value bmin corresponding to the minimum input signal amin is inputted from a key input part 18.例文帳に追加

ポジショナ１０の入力部５２から最小入力信号ａ_min が入力され、キー入力部１８から最小入力信号ａ_min に対応する最小指令値ｂ_min が入力される。 - 特許庁

When the running speed of a band 12 is VO (m/min), the rotational peripheral speed of the first roller 17 is V1 (m/min), and the rotational peripheral speed of the second roller 18 is V2 (m/min), V2/V1≤(9.800×10^-1)+(1.300/VO).例文帳に追加

バンド１２の走行速度をＶ０（ｍ／分）とし、第一ローラ１７の回転周速をＶ１（ｍ／分）とし、第二ローラ１８の回転周速をＶ２（ｍ／分）とするとき、Ｖ２／Ｖ１≦（９．８００×１０^−１）＋（１．３００／Ｖ０）とする。 - 特許庁

In the packaging material for the electrochemical cell, MFR (230°C) of a resin constituting a polyolefin layer 15 is set to not less than 10 g/10 min and not more than 25 g/10 min, and MFR (230°C) of a resin constituting an acid denatured polyolefin layer 14 is set to not less than 5 g/10 min and not more than 7 g/10 min.例文帳に追加

電気化学セル用包装材料において、ポリオレフィン層１５を構成する樹脂のＭＦＲ（２３０℃）を、１０ｇ／１０分以上２５ｇ／１０分以下とし、酸変性ポリオレフィン層１４を構成する樹脂のＭＦＲ（２３０℃）を、５ｇ／１０分以上７ｇ／１０分以下とした。 - 特許庁

According to the information signal inputted from the CPU, the voice controller makes a speaker output first information voice for 10 sec when the elapsed time (t) is 4 min<t≤5 min, and makes the speaker output second information voice for 20 sec when the elapsed time (t) is 2.5 min<t≤4 min.例文帳に追加

音声制御装置は、ＣＰＵから入力された報知信号に応じて、経過時間ｔが４分＜ｔ≦５分であれば、スピーカに第１報知音声を１０秒間出力させ、経過時間ｔが２．５分＜ｔ≦４分であれば、スピーカに第２報知音声を２０秒間出力させる。 - 特許庁

Here, the heating is carried out under the conditions of 350 to 600°C in heating temperature, 10 to 120 min in heating time, ≥10 °C/min. in temperature rising speed from room temperature to the heating temperature, and 1×10^-7 to 1×10^-4 atm in oxygen partial pressure in a heating atmosphere.例文帳に追加

（加熱条件）加熱温度：３５０〜６００℃加熱時間：１０〜１２０ｍｉｎ.室温から上記加熱温度までの昇温速度：１０℃／ｍｉｎ.以上加熱雰囲気における酸素分圧：１×１０^−７〜１×１０^−４ａｔｍ - 特許庁

The state is kept for 10 min to react the catalytic metal with acetylene.例文帳に追加

この状態で１０分間保持して、触媒金属とアセチレンとを反応させる。 - 特許庁

The hop of the Saaz species is boiled for 10 min (1 litter water:1 gram hop).例文帳に追加

ホップの種類はザーツを使用（水１ｌ：ホップ１ｇ）し煮沸を１０分間行う。 - 特許庁

When the ink is applied on the paper 10, the ink becomes visible for a limited time (30 min).例文帳に追加

特別なインクを再使用可能な紙１０に印字すると、限られた時間（半時間）目にみえるようになる。 - 特許庁

An aliphatic polyester having an MFR of ≥5 g/(190°C, 10 min) is preferable as the aliphatic polyester.例文帳に追加

脂肪族ポリエステルとしては、ＭＦＲが５ｇ／（１９０℃、１０分）以上のものが好ましい。 - 特許庁

(a) It is a peptide stable against heating at 120°C for 10 min, and has no enzymatic activity.例文帳に追加

（ａ）１２０℃、１０分間の加熱に安定な酵素活性を持たないペプチド成分である。 - 特許庁

The heat treatment is preferably performed in the liquid heated at a temperature of 80 to 200°C for 10 to 30 min.例文帳に追加

前記熱処理は、好ましくは、８０〜２００℃に加熱された液体で１０〜３０分間行われる。 - 特許庁

When lowering of the chlorine generation function is detected by an ORP or the like, polarity inversion is performed for 5 sec. to 10 min.例文帳に追加

ＯＲＰ等により塩素発生能の低下が検知された場合に、５秒〜１０分転極する。 - 特許庁

After the molding, preferably, holding is performed in the temperature range of 50 to 250°C for ≥10 min.例文帳に追加

成形後５０℃以上２５０℃以下の温度域にて１０分以上保持することが好ましい。 - 特許庁

In the case 30 s<Δt≤10 min is established, the recovery correction of a function C is performed, then, the function D is performed.例文帳に追加

３０秒＜Δｔ≦１０分のときは関数Ｃの復帰補正を行ってから、関数Ｄをする。 - 特許庁

Thereafter, the silver paste is heated for 10 min at 150°C, to make it heat cured and to make the chip LED 4 bonded.例文帳に追加

その後、銀ペーストを１５０℃の温度で１０分間、熱硬化させ、チップＬＥＤ４を接着させた。 - 特許庁

(i); A melt flow rate [MFR_2(g/10 min)] at 190 °C under a load of 2.16 kg is in the range of 0.01-10.例文帳に追加

(i) 190℃における、2.16kg荷重でのメルトフローレート[MFR_2(g/10min)]が0.01〜10の範囲にあること。 - 特許庁

Subsequently, an organic acid (citric acid, malic acid, or the like) is poured from the pouring tank 6, and the mixture is allowed to stand for 10 min.例文帳に追加

次に、有機酸（クエン酸、リンゴ酸等）を注入槽６から注入し、１０分間放置した。 - 特許庁

The preform 11 is drawn upward at the drawing speed of 10 m/min by using the take-up roller 30.例文帳に追加

プリフォーム１１を引取ローラ３０を用いて上方に延伸速度を１０ｍ／ｍｉｎで延伸する。 - 特許庁

In the case that the preheating is not conducted for 40 sec or over, a setting time of 10 min is set to an interruption timer.例文帳に追加

予熱を４０秒以上行っていない場合、中断タイマに１０分をセットする。 - 特許庁

Further, in the case plasma treatment time is 10 min (Dc3), its surface roughness is increased, and Dc is made high.例文帳に追加

さらにプラズマ処理時間を１０分とすると（Dc３）、表面粗さが増大し、Dcは大きくなった。 - 特許庁

A polishing speed of the insulation film and a conductive film by the processing liquid is 10 nm/min or below.例文帳に追加

絶縁膜および導電膜の研磨速度が１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

(a) The soaking temperature is ≥1,100°C and the soaking time is ≥10 min.例文帳に追加

（ａ） 均熱温度が１１００℃以上でかつ均熱時間が１０分以上であること。 - 特許庁

(a) the polymer composition has 10 to 100 mN melt tension measured at 160C°; (b) the composition has 4 to 40 g/10 min MFR.例文帳に追加

（ａ）１６０℃で測定された溶融張力１０〜１００ｍＮ、（ｂ）ＭＦＲ４〜４０ｇ／１０分 - 特許庁