「Alignment Mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

The controller does not supply the mixed gas when the position of the reference mark is detected by the first detector, but it detects the position of the alignment mark in the mixed gas atmosphere, and exposes a resist while driving the substrate stage based on the detected results of the reference mark position and alignment mark position.例文帳に追加

前記制御部は、前記第１検出器により前記基準マークの位置を検出する場合には、前記混合ガスを供給せず、混合ガス雰囲気で、前記アライメントマークの位置を検出し、かつ、前記基準マークの位置の検出結果及び前記アライメントマークの位置の検出結果に基づいて前記基板ステージを駆動しながら前記レジストを露光する。 - 特許庁

To precisely recognize an alignment mark after post electrode formation in a fabrication process of CSP (chip size package).例文帳に追加

ＣＳＰの製造工程において、ポスト電極形成後においてアライメントマークを確実に認識することができるようにする。 - 特許庁

The position of the first alignment mark 53 is measured previously outside the exposure system, and the distortion data are obtained for each sub-field.例文帳に追加

予め露光装置外で上記第１のアライメントマーク５３の位置を測定し、サブフィールド毎の歪データを得ておく。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a mask capable of easily manufacturing the mask having high detecting accuracy of an alignment mark, and the mask.例文帳に追加

アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。 - 特許庁

Preferably, the alignment mark is formed at least at the time of patterning for forming an opening of an pixel.例文帳に追加

好ましくは、前記アライメントマークを、少なくとも画素の開口部を形成するためのパターニングを行うときに形成する。 - 特許庁

To prevent positional deviation between the active area of an optical semiconductor device, an optical fiber and an alignment mark in a module base plate.例文帳に追加

モジュール基板において、半導体光素子の活性領域と光ファイバとアライメントマークの間の位置ずれを防ぐ。 - 特許庁

To provide an exposure drawing device, forming an alignment mark required for drawing a circuit pattern on both sides of a substrate.例文帳に追加

回路パターンの描画に必要なアライメントマークを基板の両面に形成するようにする露光描画装置を提供する。 - 特許庁

To arrange an alignment mark for aligning a substrate with a photo mask not to lower the yield of product devices.例文帳に追加

基板とフォトマスクとの位置合わせに用いるアライメントマークを製品デバイスの収量を減らすことがないように配置する。 - 特許庁

To provide a position detecting apparatus capable of precise position detection when the reflectivity of an alignment mark is different.例文帳に追加

アライメントマークの反射率が相違しても高精度の位置検出を行うことができる位置検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a probe with an alignment mark hardly affected by cutting scraps from an electrode cut by a needlepoint.例文帳に追加

針先によって削られる電極の削りかすによる影響を受けにくいアライメントマークが設けられたプローブを提供する。 - 特許庁

The flexible circuit-board side alignment mark has: a part (410a) along the first edge; and a part (420a) along the second edge.例文帳に追加

可撓性基板側アライメントマークは、第１縁部に沿う部分（４１０ａ）と、第２縁部に沿う部分（４２０ａ）とを有する。 - 特許庁

Therefore, the alignment mark can be measured in an area having no deformation or no clearness, resulting in permitting accurate position measurement.例文帳に追加

よって、歪みやボケの少ない領域において測定が可能となるので、精度の良い位置測定を行うことができる。 - 特許庁

To make a signal wave form of reflecting light of an alignment mark almost constant, despite the variation of the film thickness of a first interlayer film.例文帳に追加

第１層間膜の膜厚のばらつきにかかわらず、アライメントマークの反射光の信号波形をほぼ一定にする。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of performing accurate detection of an alignment mark even when the illuminance of exposing light is changed.例文帳に追加

露光光の照度が変化した場合でも、アライメントマークの高精度な検出が可能となる露光装置を提供する。 - 特許庁

A second cavity MK becoming an alignment mark is provided in a second metal wiring AL3 on the top surface of the first cavity CAV.例文帳に追加

第１の凹部ＣＡＶの上面の第２の金属配線ＡＬ３に、アライメントマークとなる第２の凹部ＭＫを備える。 - 特許庁

A focusing alignment mark 15 is positioned in the vicinity of the fuse box 10 or within the box 10.例文帳に追加

このヒューズボックス１０に近隣して、もしくはそのヒューズボックス１０内にフォーカス用アライメントマーク１５が配置されている。 - 特許庁

The alignment mark 1 has a bright region 101 and a dark region 102, with lower luminance than the bright region 101.例文帳に追加

アライメントマーク１は、明部領域１０１と、明部領域１０１より輝度の低い暗部領域１０２とを有する。 - 特許庁

The alignment mark (Rm) is formed in the previously designated position on each page of the Web (W) by a 1st printer (P1).例文帳に追加

第１印刷装置（Ｐ１）は、ウェブ（Ｗ）の各ページの予め指定された位置に位置合せマーク（Ｒｍ）を形成する。 - 特許庁

On a transfer stage 2, an alignment mark 8 is provided as a reference in adjusting an initial position of a photomask 4.例文帳に追加

搬送ステージ２には、フォトマスク４の初期位置を調整する際の基準となるアライメントマーク８が設けられている。 - 特許庁

A film mark 10a of an exposure film 6 stuck to an alignment table 18 is detected by an imaging means 9.例文帳に追加

アライメントテーブル１８に貼り付けられた露光フィルム６のフィルムマーク１０ａを撮像手段９により検出する。 - 特許庁

The alignment mark 47 is formed by an end of the metal column 40 exposed to the outside of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

アライメントマーク４０は、半導体基板１０の外部に露出した金属柱４０の端部によって形成されている。 - 特許庁

The exposure is performed whenever a pattern is formed on a substrate, and a film formed on the alignment mark is removed.例文帳に追加

この露光処理を基板上にパターンを形成する毎に行い、アライメントマーク上に形成される膜を除去する。 - 特許庁

EXPOSING METHOD OF CIRCUIT PATTERN OF CHIP-PERIPHERY PORTION, AND EXPOSING METHOD OF ALIGNMENT MARK, AND SEMICONDUCTOR-DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE EXPOSING METHOD例文帳に追加

チップ周辺部の回路パターン及びアライメントマークの露光方法とそれを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

After that, the element isolation film is etched to a specified depth to form an alignment mark, and finally the pad nitride film pattern is removed.例文帳に追加

さらに、素子分離膜を所定の深さでエッチングして整列マークが形成され、最後にパッド窒化膜パターンを除去する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device, which is high in the detection precision of an alignment mark which is used for a photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィに用いる位置合わせマークにおいて検出精度の高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surfaces of pads 11 and 12 and an alignment mark are cleaned with sulfuric acid to remove oxide films from the surfaces.例文帳に追加

パッド１１及びパッド１２及びアライメントマークの表面を硫酸にて洗浄し、表面の酸化膜を除去する。 - 特許庁

By making an intersecting point of the edge line an apex of the polarizing plate 20, the quantity of the error with the alignment mark AM is output.例文帳に追加

そして、エッジラインの交点を偏光板２０の頂点として、アライメントマークＡＭとの誤差の量を出力する。 - 特許庁

To provide a method of detecting a position which can prevent the deterioration of position detection accuracy caused by the movement of the image of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの像の移動に起因する位置検出精度の低下を防止できる位置検出方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a substrate for a processing master constituted by applying an alignment mark to a light pervious substrate by an exposure transfer apparatus.例文帳に追加

露光転写装置を用いて透光性基板上にアライメントマークを付した加工マスター用基材を製造する。 - 特許庁

A first resist layer having a first optical characteristic is deposited, and at least one alignment mark is formed.例文帳に追加

第１の光学特性を有する第１のレジスト層が堆積され、かつ、少なくとも１つのアライメントマークが形成される。 - 特許庁

To provide a position measuring method which shortens a measuring time without lowering position measurement precision of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置計測精度を低下させることなく計測時間を短縮した位置計測方法を提供する。 - 特許庁

The first alignment mark 1 includes a line pattern 1L containing lines 1L_1, 1L_2, ..., 1L_9, the width of which increase in one direction.例文帳に追加

第１アライメントマーク１は、幅が一方向に増大する線１Ｌ_１，１Ｌ_２，…，１Ｌ_９を含むラインパターン１Ｌを有している。 - 特許庁

The second alignment mark 2 includes a space pattern 2S containing gaps 2S_1, 2S_2, ..., 2S_9, the width of which increase in one direction.例文帳に追加

第２アライメントマーク２は、幅が一方向に増大する間隙２Ｓ_１，２Ｓ_２，…，２Ｓ_９を含むスペースパターン２Ｓを有している。 - 特許庁

The alignment mark 10 of a photomask is constituted by arranging square patterns 11 at regular intervals in seven lines and seven rows.例文帳に追加

フォトマスクのアライメントマーク１０は、正方形のパターン１１が７行７列で等間隔を開けて配置されたものである。 - 特許庁

In accordance with the height of an alignment mark 29 on a wafer, the focus height of a camera 8 is adjusted by a Z2-axis stage 9.例文帳に追加

ウエーハ上のアライメントマーク２９の高さに合わせて、カメラ８のフォーカス高さをＺ２軸ステージ９により調整する。 - 特許庁

For alignment when mounting the IC for driving on the electro-optical panel, an alignment mark (27) on the IC side which is formed in the IC for driving and alignment marks (17 and 24) on the substrate side which are formed in the electro-optical panel are used.例文帳に追加

駆動用ＩＣを電気光学パネルに実装する際の位置合わせには、駆動用ＩＣに形成されたＩＣ側アライメントマーク（２７）と、電気光学パネルに形成された基板側アライメントマーク（１７、２４）とが利用される。 - 特許庁

The light released by the illumination light source 11 for alignment is guided to an alignment light exit section 13 for darkfield illumination across an optical fiber 14 and irradiates a work mark WAM from outside the optical path of the imaging system of the alignment microscope 1.例文帳に追加

アライメント用照明光源１１が放出する光は、光ファイバ１４を介して暗視野照明用アライメント光出射部１３に導かれ、アライメント顕微鏡１の結像系の光路外からワークマークＷＡＭを照明する。 - 特許庁

To provide a method for producing a color filter where, even if a substrate side alignment mark preformed on a substrate is covered with a black layer, a mask for black can be securely aligned with respect to the substrate at high precision using the substrate side alignment mark.例文帳に追加

基板上に予め形成された基板側アライメントマークがブラック層により覆われたとしても、基板側アライメントマークを用いて基板に対してブラック用マスクを精度良く確実に位置決めすることができるカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the <1-100> direction where the growth speed of the crystal is slow at a portion, where the interval D_1 of the alignment mark 15A is larger than the interval D_2 at the seed crystal section 15, an interval D_3 of the pattern of the alignment mark 15A should be 4 μm or less.例文帳に追加

なお、アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔Ｄ_1 が、種結晶部１５の間隔Ｄ_2 より大きいところでは、結晶の成長速度が遅い＜１—１００＞方向において、アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔Ｄ_3 を４μｍ以下とする。 - 特許庁

A mark 101 for alignment in a wafer 103 has a structure for flattening a resist 102 formed on the surface of the wafer 103, and the position of the mark 101 for alignment is detected, thus aligning the wafer 103 to a specific position.例文帳に追加

ウエハ１０３における位置合わせ用マーク１０１がウエハ１０３表面に形成されるレジスト１０２を平坦とする構造を有し、位置合わせ用マーク１０１の位置を検出することにより、ウエハ１０３を所定位置に位置合わせする。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate which has a region whose surface is flattened having a trench groove wherein an epitaxial film is buried and also has an alignment mark of higher recognition property in the alignment mark formation region thereof, and its manufacturing method.例文帳に追加

エピタキシャル膜が埋設されたトレンチ溝を有してその表面が平坦化される領域を有していながら、そのアライメントマーク形成領域に、より認識性の高いアライメントマークを備える半導体基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter capable of accurately and reliably performing positioning of a mask for black to a substrate using a substrate side alignment mark even when the substrate side alignment mark previously formed on the substrate is covered by a black layer.例文帳に追加

基板上に予め形成された基板側アライメントマークがブラック層により覆われたとしても、基板側アライメントマークを用いて基板に対してブラック用マスクを精度良く確実に位置決めすることができるカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To measure the position of an alignment mark with higher precision by a method of measuring the position of the alignment mark provided in a drawing surface indicative of a reference for the drawing position of an image when the image is drawn on the drawing surface by a modulating means.例文帳に追加

変調手段により描画面上に画像を描画する際の画像の描画位置の基準を示す描画面上に設けられたアライメントマークの位置を測定する方法において、より高精度にアライメントマークの位置を測定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color filter, which can precisely and surely position a mask for black to a substrate by using a substrate-side alignment mark preliminarily formed on the substrate even when the substrate-side alignment mark is covered with a black layer.例文帳に追加

基板上に予め形成された基板側アライメントマークがブラック層により覆われたとしても、基板側アライメントマークを用いて基板に対してブラック用マスクを精度良く確実に位置決めすることができるカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

thus, even if a position correcting electron beam is in irradiated to the alignment mark 82 to correct the position in the next electron beam lithographic process, the electrons e of the beam do not stay at the alignment mark 82, but will flow into the multi-layer film 42a.例文帳に追加

したがって、次工程の電子ビームリソグラフィにおける描画位置を補正するためにアライメントマーク８２に位置補正用電子ビームを照射しても、当該電子ビームの電荷ｅはアライメントマーク８２に滞留することなく多層膜４２ａに流れ込む。 - 特許庁