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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Beam Alignmentの意味・解説 > Beam Alignmentに関連した英語例文

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Beam Alignmentの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 289



例文

To remove a coating film on an alignment mark of a wafer by using a laser beam without contaminating the wafer.例文帳に追加

ウェハのアライメントマーク上に形成された塗布膜を,レーザ光を用いてウェハが汚染されないように除去する。 - 特許庁

To provide real-time measurements of beam alignment in the vicinity of an aperture.例文帳に追加

本発明の実施形態は、アパーチャの付近におけるビーム位置合わせのリアルタイム測定を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a multibeam semiconductor laser element where the light output of each beam is uniform and alignment is easy.例文帳に追加

各ビームの光出力が一様で、位置合わせが容易な構成のマルチビーム半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure device capable of detecting an alignment mark and an inspection mark of high SN ratio.例文帳に追加

S/N比の高いアライメントマークや検査マークの検出を行える荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

例文

To improve alignment stability and beam quality stability and to prevent the reduction in laser output due to breakdown.例文帳に追加

アライメント安定性、ビーム品質安定性を向上させ、また、ブレークダウンによるレーザ出力の低下を防止すること。 - 特許庁


例文

The alignment system makes the transverse axis position 512 of the image beam 142 against the top 220 as a reference and makes the ordinate axis position 514 of the image beam at the position the image beam 142 crosses the base 212 as a reference.例文帳に追加

アライメントシステムは頂点220に対するイメージビーム142の横軸位置512を基準とし、イメージビーム142が底辺212と交差する位置でのイメージビームの縦軸位置514を基準とする。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which can minimize fogging at the periphery of an alignment mark caused by beam irradiation upon detection of the positioning mark or the pollution of the mark caused by resist removal during alignment of the electron beam lithography system.例文帳に追加

本発明は電子線描画装置におけるアライメントで、位置合わせマーク検出時のビーム照射により引き起こされる位置合わせマーク周辺部でのかぶりや位置合わせマーク部でのレジスト剥離により汚染を極力抑える事が可能な電子線描画装置を提供する事にある。 - 特許庁

The orientation film is formed on a substrate to align liquid crystal, and the alignment film is scanned in a first direction with the atomic beam traveling from above the alignment to a first region of the alignment film to form a first domain in the first region.例文帳に追加

液晶を配向するために基板に配向膜を形成し、配向膜の上部から配向膜の第1領域に向かう原子ビームを配向膜に対して第1方向にスキャンニングして第1領域に第1ドメインを形成する。 - 特許庁

In alignment treatment of the alignment layer applied to a support body, the alignment layer is irradiated with a laser beam, formed by combining a plurality of laser beams emitted respectively from a plurality of semiconductor lasers via a multi-mode optical fiber from a single direction.例文帳に追加

支持体上に塗布した配向膜の配向処理において、複数の半導体レーザーからそれぞれ出射された複数のレーザービームを合波したレーザービームを、マルチモード光ファイバーを介して単一方向から照射する。 - 特許庁

例文

To improve visual field angle characteristics by subjecting an alignment layer to rubbing treatment and then irradiating the entire surface of the alignment layer with light or an ion beam to reduce a pre-tilt angle of the alignment layer in an in-plane switching mode liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明は横電界方式液晶表示装置で配向膜にラビング処理をした後に配向膜全面に光照射またはイオンビーム照射をして配向膜のプリチルト角を減らして視野角特性を改善する。 - 特許庁

例文

To improve workability by forming a spot in part of a fan-shaped laser beam and facilitating the alignment of a laser line formed by the laser beam in a line laser apparatus.例文帳に追加

ラインレーザ装置に於いて、扇状レーザ光線の一部に点が形成される様にし、レーザ光線で形成されるレーザラインの位置合わせを容易とし、作業性を向上させる。 - 特許庁

To provide an electron-beam lithography method that enables to improve productivity while improving effective throughput when performing alignment lithography in an electron-beam lithography device.例文帳に追加

電子ビーム描画装置における合わせ描画を行う場合に、実効的なスループットを向上でき、生産性を向上可能な電子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

When the switches are in a second configuration, the signal produced by the electric circuit is indicative of horizontal light beam alignment.例文帳に追加

前記スイッチが第2の構成であるとき、前記電気回路により生成された信号は水平光線の位置を示す。 - 特許庁

When the switches are in a first configuration, a signal produced by the electric circuit is indicative of vertical light beam alignment.例文帳に追加

前記スイッチが第1の構成であるとき、前記電気回路により生成された信号は垂直光線の位置を示す。 - 特許庁

Moreover, the apparatus is equipped with functions such as an electron probe controlling function, an electron beam alignment function, the CT function and the element analysis function.例文帳に追加

更に、電子プローブ制御機能、電子線軸合わせ機能、CT機能、元素分析機能などの機能を搭載する。 - 特許庁

To provide an interferometer apparatus for easily performing alignment work of incident light beam while being simple in constitution.例文帳に追加

簡単な構成でありながら、入射する光ビームのアライメント作業を容易に行なえる干渉計装置を提供する。 - 特許庁

A substrate is supported on a substrate table, and a projection system is used to project an alignment beam to the target part of the substrate.例文帳に追加

基板を基板テーブル上に支持し、投影システムを使用して、位置合わせビームを基板の目標部分に投影する。 - 特許庁

To provide an acceleration sensor that has an improved alignment precision of a piezoresistor to a beam section and can be fined and made inexpensive.例文帳に追加

梁部に対するピエゾ抵抗の位置合わせ精度が良く、微細化及び低コスト化が図れる加速度センサを提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING MULTI-DOMAINS ON ALIGNMENT FILM WITH ATOMIC BEAM, METHOD FOR MANUFACTURING WIDE-FIELD-ANGLE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME, WIDE-ANGLE-OF-FIELD LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加

原子ビームで配向膜にマルチドメインを形成する方法、これを利用した広視野角液晶表示装置の製造方法、広視野角液晶表示装置及び液晶配向装置 - 特許庁

A brazed sub-wavelength grating 10 is used to deflect sub-beams created by diffracting the alignment beam from the alignment mark P1 onto the reference marks G91, G93, and G96.例文帳に追加

アライメントマークP1から基準マークG91、G93、G96上へとアライメントビームを回折することによってもたらされたサブビームを偏向するためにブレーズ型サブ波長格子10を使用する。 - 特許庁

In a light beam that the projection member takes in, an aperture angle in a direction perpendicular to the alignment direction of the light-emitting point is made smaller than that in the alignment direction thereof.例文帳に追加

前記投影部材が取り込む光線において、発光点の配列方向に対して直交する方向の開口角は、発光点の配列方向の開口角より小さくされる。 - 特許庁

To perform a laser beam machining with a condensed beam diameter appropriate to the thickness of a work, to correspond it to a high output laser beam, to simplify a structure more than that by a lens type method, and to decrease a difficulty in the adjustment of an alignment deviation.例文帳に追加

ワークの板厚に適した集光ビーム径にてレーザ加工を実現し、高出力レーザにも対応でき、レンズ方式よりも構造的な簡略化を図り、アラインメントズレに対する調整困難さをも軽減する。 - 特許庁

The phase shift mask is formed by scanning an alignment groove with an electron beam, the groove patterned in a halftone film by using an alignment mark for a photomask, and then patterning a light shielding film by exposure to an electron beam to remove the scanning track.例文帳に追加

フォトマスク用アライメントマークを用いてハーフトーン膜にパターニングされたアライメント用溝部を電子ビームによりスキャンした後、スキャン跡を除去するように電子ビーム露光を用いて遮光膜をパターニングすることにより位相シフトマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a method capable of aligning a repeated pattern even without setting a marker point for alignment in a laser beam machining device.例文帳に追加

レーザ加工装置において、アライメント用のマーカー点を設定せずとも繰り返しパターンをアライメントできる方法を提供する。 - 特許庁

The alignment mark has a plurality of bar marks 10 which are arranged at a predetermined interval along a scanning direction of a detection beam.例文帳に追加

アライメントマークは、検出光の走査方向に沿って所定の間隔で配置された複数の棒状マーク10を備える。 - 特許庁

An assembly (210, 410A) and an optical element (220, 420A) have fiducials (212, 414, 222, 424) for alignment of multiple beam paths during fabrication of an optical device.例文帳に追加

アセンブリ(210,410A)と光学素子(220,420A)は、複数のビーム経路を光学デバイスの製造中に位置合わせするための基準(212,414,222,424)を有する。 - 特許庁

ALIGNING METHOD OF OPTICAL COUPLING MODULE AND MEASURING BEAM EMISSION DEVICE FOR ALIGNMENT OF OPTICAL COUPLING MODULE AND OPTICAL COUPLING MODULE例文帳に追加

光結合モジュールの調芯方法及び光結合モジュールのアライメント用測定光照射装置並びに光結合モジュール - 特許庁

The directions of the rotary shafts X1L and X1R at the left and right ends of the beam 10 are adjusted for setting of the optimum alignment.例文帳に追加

最適なアライメントを設定するため、ビーム10の左右端の回動軸X1L、X1Rの向きが調整される。 - 特許庁

The dedicated orientational elements (206, 208) orientate the alignment optical beam (118) from the dedicated input optical fiber (202) to the dedicated output optical fiber (204).例文帳に追加

専用方向付け素子(206,208)はアライメント光ビーム(118)を専用入力光ファイバ(202)から専用出力光ファイバ(204)へと方向付ける。 - 特許庁

To enable processing automatic alignment of a charged particle beam column and automatic correction of astigmatism with high accuracy, and in a short time.例文帳に追加

荷電粒子ビームカラムの自動アライメント及び非点収差の自動補正を高精度でかつ短い時間で実施できるようにする。 - 特許庁

In an alignment method, a beam with a first pattern is irradiated to a first target portion of a substrate to form the first pattern on the substrate.例文帳に追加

基板の第1ターゲット部分に第1パターン付きビームを照射して、基板上に第1パターンを形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide an alignment regulation device capable of position-aligning precisely and easily a focal point of a laser beam with respect to an axis of a liquid jet flow, in a laser beam machining device.例文帳に追加

レーザー加工装置において、レーザーの焦点を液体噴流の軸線に対して高精度に且つ容易に位置合わせすることができるアライメント調整装置を提供する。 - 特許庁

The beam position controller 136 finds a difference from a target value for optical axis alignment by the beam spot position signal and a subtractor 21, multiplies it by a feedback gain K by an amplifier 22, and sends it to a multiplier 23.例文帳に追加

ビーム位置制御器136は、ビームスポット位置信号と減算器21で光軸一致目標値との差分を求め、アンプ22でフィードバックゲインKを乗じて乗算器23に送る。 - 特許庁

In the case that large differences in level of the surface of the alignment layer 3 irradiated with the ion beam bring about parts shaded from an ion beam source, the ion beam is radiated to the shaded parts by radiation in a reverse direction.例文帳に追加

また、イオンビームを照射する配向膜3の表面の段差形状が大きく、イオンビーム源から影になる部分が生じる場合、逆方向からも照射することによって影になっていた部分にイオンビームを照射する。 - 特許庁

When the electron beam trajectory rises toward the right, the alignment is carried out with SF marks of SF no.1 to SF no.10 and parameters such as the position and rotation of the reticle required for the reticle alignment are calculated from these results.例文帳に追加

電子ビーム軌道が右上がりの場合、SFナンバー#1〜#10までのSFのマークでアライメントを行い、これらの結果からレチクル位置、回転などのレチクルアライメントに必要なパラメータを計算する。 - 特許庁

The alignment mark being used for optical alignment in a charged particle beam aligner is formed of a level-difference pattern divided into a plurality of level-difference patterns.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

By rotating a member (32) to be processed for which an alignment mark is formed on a first layer, scanning it by a fine beam spot (21) and detecting (22) the reflected light quantity, the position (AL) of the alignment mark is detected.例文帳に追加

第1の層にアライメントマークが描かれた被処理部材(32)を回転させ、微少なビームスポット(21)で走査し、その反射光量を検出する(22)ことによってアライメントマークの位置(AL)を検出する。 - 特許庁

The non-contact type alignment measuring device of a vehicle wheel is provided with a laser light source 4 for radiating the laser beam of a prescribed geometrical pattern to a wheel side face and a laser beam controlling means 6 for controlling the width of the beam for irradiating only the prescribed range of the wheel side face with the laser beam.例文帳に追加

非接触式の車両ホイールのアライメント測定装置において、ホイール側面に向けて所定の幾何パターンのレーザビームを放射するレーザ光源4と、レーザビームがホイール側面の所定範囲にのみ照射されるようにビームの幅を制御するレーザビーム制御手段6を具備する。 - 特許庁

To conduct easily check and adjustment of beam location, monitoring of optical axis and alignment of optical axis in an optical apparatus using the fluorine (F_2) excimer laser.例文帳に追加

フッ素(F_2)エキシマレーザを用いた光学機器において、容易にビーム位置の確認・調整、光軸のモニタ、光軸合わせを行う。 - 特許庁

In S5, an eccentricity amount of the alignment in the XY direction between the center of the pupil and a measuring beam axis is computed, then the process shifts to S7.例文帳に追加

S5において瞳孔中心と装置の測定光軸とのXY方向のアライメントのずれ量を算出しS7に移行する。 - 特許庁

Noise is removed by modulating the intensity of the laser beam using a lock-in amplifier to enable the alignment of high precision.例文帳に追加

また、ロックインアンプを用い、レーザ光の強度を変調させる等することによって、ノイズを除去し、高精度な位置合わせが可能となる。 - 特許庁

A correction sequence is repeated for calibration, deflection/axis correction, beam center alignment, and deflection gain and axis correction parameter adjustment.例文帳に追加

較正、偏向/軸補正、ビーム中央位置合わせ、ならびに偏向利得および軸補正パラメータ調整のために、補正シーケンスを繰り返す。 - 特許庁

To improve the positional accuracy of a plotting beam obtained when a pattern is plotted without the consideration of the deterioration of the alignment pattern of a final product.例文帳に追加

最終製品のアライメントパターンの劣化を考慮することなく、パターンを描画する際の描画ビームの位置精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for determining an improved state of alignment for coupling an optical beam at a high power level to an optical waveguide.例文帳に追加

高パワーレベルを有するビームを導波路に結合するための、改善された位置合わせ状態を決定するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device capable of performing highly-accurate alignment between the focal point of laser light for machining and a machining object.例文帳に追加

加工用レーザ光の焦点と加工対象物との位置合せを高精度で行うことが可能なレーザ加工装置を提供すること。 - 特許庁

Consequently, troublesome optical axis alignment is dispensed with and, in addition, by scanning the laser beam by the galvano scanner, quick machining is performed.例文帳に追加

その結果、面倒な光軸調整が不要となり、加えて、ガルバノスキャナでレーザ光を走査することで、迅速な加工が可能となる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel which is capable of reducing the occurrence of display image retention by increasing alignment control force in an ion beam radiation system.例文帳に追加

イオンビ−ム照射方式の配向規制力を増大し、表示残像発生を緩和可能な液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁

Since the beam shaping lens 10 has a notched surface 15 for alignment formed at one part of an outer peripheral part 13, the beam shaping lens 10 is fixed to a supporting member to be a pedestal for alignment and fixation of the light source while the beam shaping lens 10 is suitably inclined and aligned by setting the inclined angle of the notched surface 15.例文帳に追加

このビームシェイパ10によれば、アライメント用の切欠き面15が外周部13の一カ所に形成されているので、切欠き面15の傾斜角度の設定によって、不図示の光源をアライメントして固定するための台座である支持部材(不図示)に対して、ビームシェイパ10を適宜傾けてアライメントしつつ固定することができる。 - 特許庁

In addition, in the laser welding head 27, the alignment of the converging position P of the laser beam L can be performed by merely adjusting the arrangement position of a plano-convex lens 53 along the optical axis direction of the laser beam L.例文帳に追加

また、レーザ溶接用ヘッド27では、平凸レンズ53の配置位置をレーザビームLの光軸方向に沿って調整するだけで、レーザビームLの集光位置Pの位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

例文

To prevent a pattern-forming accuracy at each pattern junction from degrading, caused by alignment difference between exposure light and an exposure electronic beam, without making a exposure light pattern or an exposure electron beam pattern to be thick.例文帳に追加

光露光パターンや電子線露光パターンを太らせることなく、光露光と電子線露光の合わせずれに起因する各々のパターンの接続部分でのパターン形成精度劣化を防止する。 - 特許庁




  
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