「Beam Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To precisely and speedily transfer a pattern by providing an accurate alignment system suitable to a charged particle beam exposure device of a reflection type.例文帳に追加

反射型の荷電粒子ビーム露光装置に適した高精度なアライメント方式を提供し、高精度・高速度なパターン転写を可能とする。 - 特許庁

To provide a laser beam machining apparatus capable of surely adjusting alignment of laser without complicating a structure of a laser machining head.例文帳に追加

レーザー加工ヘッドの構成を複雑化することなく、確実にレーザーのアライメント調整を行うことができるレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁

To further improve accuracy in positional alignment of a nozzle row with an optical axis of an optical beam used for discharge detection in a liquid discharge failure detecting device.例文帳に追加

液吐出不良検出装置において、ノズル列と吐出検知に用いる光ビームの光軸との位置合わせの精度をさらに高める。 - 特許庁

To provide a photothermal lens type sample analyzer being high in measurement/detection sensitivity, dispensing with the alignment of the heating beam of a local heating light source and laser probing beam, not generating deviation in the coincidence condition of heating beam and probing beam even if moved, and enabling to miniaturize itself.例文帳に追加

測定検出感度が大きく、局所加熱光源の加熱光とレーザ探査光の位置合わせが不要で、装置の移動によっても、加熱光と探査光の一致条件に狂いが生じず、しかも装置自体を小型化することができる構造の光熱レンズ型試料分析装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a position sensing unit capable of sensing a mark position with high precision by projecting an optimum light beam in both search and fine alignment processes.例文帳に追加

サーチ及びファインアライメント処理のそれぞれにおいて最適な照明光を照射し精度良いマーク位置検出ができる位置検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical scanner capable of forming an optical spot of a desired spot diameter on the surface to be scanned with respect to the optical scanner in which the beam alignment by means of an aperture is not performed.例文帳に追加

アパーチュアによるビーム整形を行わない光走査装置において、被走査面上に所望のスポット径の光スポットを形成できるようにする。 - 特許庁

An image can be observed under the condition where the electron beam is most stopped by supplying the correction current to the alignment coil 21.例文帳に追加

そして、この補正電流をアライメントコイル２１へ供給することにより、電子ビームが最も絞れる状態で像の観察を行うことができることになる。 - 特許庁

To provide an alignment method of a laser beam machining device in which a machining start position of a street formed on a wafer held on a chuck table can be confirmed.例文帳に追加

チャックテーブルに保持されたウエーハに形成されているストリートの加工開始位置を確認することができるレーザー加工装置のアライメント方法を提供する。 - 特許庁

The right alignment of moving direction of the wafer is confirmed through the spotted beam reflection on the sensor while the holder 20 is moved either up or down.例文帳に追加

ウェハ移動方向の正しいアラインメントについても、ウェハホルダ２０を上下に移動させる際の、センサ上の反射光スポットのいずれかの動きにより確認する。 - 特許庁

To provide an alignment adjusting mechanism of a torsion beam type suspension capable of further easily and finely adjusting a toe angle and a camber angle.例文帳に追加

より簡便且つ精緻にトー角やキャンバー角を調整することを可能にするトーションビーム式サスペンションのアライメント調整機構を提供すること。 - 特許庁

The light absorbing part 13 is formed by a self-alignment in which a ultraviolet ray or laser beam is passed to radiate through the optical path equal to that of the video light.例文帳に追加

この光吸収部１３は、紫外線又はレーザ光を映像光の光路と同等な光路を通過させて照射するセルフアライメントにより形成する。 - 特許庁

Roughly U-shaped slits 23 are formed at equal intervals along a side face 31 to form a second alignment pawl 20 of a cantilever beam shape.例文帳に追加

側面３１に沿って等間隔に、略コの字型のスリット２３が形成されることで、片持ち梁状の第２の調芯爪２０が形成されている。 - 特許庁

An electron beam is adjusted with an alignment coil stepwise by carrying out a simple deflection function, a tilting function and a pivot function one by one or in the combination of them at the same time.例文帳に追加

アライメントコイルによる電子ビームの調整を、単純偏向機能、チルト機能及びピボット機能を逐次に又は組み合わせて段階的に行う。 - 特許庁

The direct alignment of the wafer 19 to the scanning magnet is measured through the beam to the sensor reflected on the mirror surface of a wafer holder 20.例文帳に追加

走査マグネットに対するウェハ１９の直接アラインメントを、ウェハホルダ２０上の鏡面状の表面でビームが反射してセンサに戻ることにより判定する。 - 特許庁

The alignment mark is formed by irradiating a laser beam 11 to the first position with the power density and the irradiation time according to the detected intensity of the first position.例文帳に追加

検出された第１の位置の輝度に応じたパワー密度及び照射時間で、第１の位置にレーザビームを照射してアライメントマークを形成する。 - 特許庁

To provide a beam shaping lens of a space-saving type easily and highly accurately performing alignment and fixation of a light source such as a semiconductor laser.例文帳に追加

半導体レーザ等の光源に対して、省スペースかつ高精度で簡易にアライメントして固定することができるビーム整形レンズを提供すること。 - 特許庁

To provide an optical filter for an interferometer system for supplying a reference beam not relatively receiving the effect of aberration and capable of monitoring alignment.例文帳に追加

比較的収差の影響を受けない基準ビームを供給するとともに、アライメントを監視可能とする、干渉計システム用光学フィルタの提供。 - 特許庁

A crystal arrangement direction of the sample in a scanning transmission image and a direction of an electron beam diffraction image are to be coincided with each other in crystal orientation direction alignment using the scanning transmission image and the electron beam diffraction image.例文帳に追加

本発明は、走査透過像と電子線回折像を用いた結晶方位合せにおいて、走査透過像における試料の結晶配列方向と、電子線回折像の方向を一致させることに関する。 - 特許庁

In beam irradiation conditions during the detection of the alignment mark, a necessary accuracy can be secured by evaluating a detection reproduction accuracy using the actual alignment mark and can be realized by optimizing a necessary minimum quantity of irradiation.例文帳に追加

位置合わせマーク検出時のビーム照射条件を実際の位置合わせマークを使い検出再現精度を評価する事で必要な精度を確保しかつ必要最小限な照射量に最適化する事で可能となる。 - 特許庁

Since the measuring instrument can collectively measure the positions of the alignment marks, the positions of the alignment marks can be measured quickly even when the number of the marks is a plural number and the treatment throughput of a laser beam annealing device can be improved.例文帳に追加

このように、各アライメントマークについて一括して位置計測を行うことができるので、複数のアライメントマークであっても迅速な位置計測が可能となり、レーザアニール装置の処理のスループットを向上させることができる。 - 特許庁

A reflector alignment system uses an alignment beam AB1 which is transmitted in the projection system PL having a group of mirrors for measuring dummy relative positions of two reference makers fixed to a reference frame RF on both sides of the projection system.例文帳に追加

反射体アライメント・システムは、ミラー群を備える投影システムＰＬ中を伝わるアライメント・ビームＡＢ１を使用して、投影システムの両側で基準フレームＲＦに固定された２つの基準マーカの見かけの相対位置を測定する。 - 特許庁

The equipment includes a light source and at least one detector, wherein the light source is integrally formed on the first support structure, and is constituted so that it may provide a light beam which illuminates the alignment marker, and the detector is constituted so that it may detect a position of the alignment marker, by analyzing the light beam transmitting the element.例文帳に追加

装置は、第一支持構造上に一体形成され、位置合わせマーカを照明する光ビームを提供するように構成された光源と、要素を透過した光ビームを分析することによって、位置合わせマーカの位置を検出するように構成された少なくとも１つの検出器とも含む。 - 特許庁

To shorten time taken in alignment processing by miniaturizing the whole alignment processing device to further lessen short side width in the cross section of a charged particle beam when being cut by a plane including a substrate, and lessening a distance necessary for passing in the charged particle beam by the substrate.例文帳に追加

配向処理装置全体を小型化し、さらには、基板を含む平面で切った場合の荷電粒子ビームの断面における短辺幅を小さくすることによって、基板が荷電粒子ビーム中を通過するのに必要な距離を小さくし、配向処理にかかる時間を短縮できるようにすること所期課題とする。 - 特許庁

The electron beam gun comprises a curved beam forming device 104 formed as an integrated part with a cathode block 103 having large mass which guides heat so as to separate it from the beam forming device; and a filament 109 installed to the cathode block for improved alignment.例文帳に追加

ビーム形成器（１０４）から離れるように熱を導く質量の大きな陰極ブロック（１０３）の一体部品として形成した湾曲形状のビーム形成器と、改善された整合のために陰極ブロックに装着されたフィラメント（１０９）と、を備えた電子ビーム銃。 - 特許庁

A rugged surface is given to an alignment layer 3 produced on a liquid crystal display panel substrate comprising a glass substrate 1 and a TFT 2, and an ion beam is radiated until the entire rugged surface of the alignment layer 3 reaches a saturated state, whereby an effective alignment surface area is extended.例文帳に追加

ガラス基板１とＴＦＴ２とからなる液晶表示パネル基板上に作製される配向膜３の表面形状を凹凸形状とし、凹凸形状の配向膜３の表面全面が飽和状態に至るまでイオンビームを照射することによって、実効的な配向表面積を拡大する。 - 特許庁

To provide a method and a device for charged particle beam alignment, which can more precisely grasp the cleaning time period ically of the device, and can avoid the degradation of resolution and the increase of beam deflection distortion.例文帳に追加

装置の洗浄時期（定期）をより正確に把握することができ、解像度の低下やビーム偏向歪みの増大等を回避することができる荷電粒子ビーム露光方法ならびに荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

The surface of the polymer film is exposed to a light beam imparting distribution to irradiation intensity while the surface of the polymer film and the light beam are relatively moved at a substantially fixed speed to impart liquid crystal alignment ability to the surface of the polymer film.例文帳に追加

その際、ポリマー膜表面と光線とを実質的に定速で相対的に移動させつつ該ポリマー膜表面に照射強度に分布を持たせながら露光せしめて該ポリマー膜表面に液晶配向能を付与する。 - 特許庁

Then, the liquid crystal layer film formed on the alignment substrate 13 is three-dimensionally cross-linked and cured by the irradiation of a specified dose of an electron beam or an ultraviolet beam to form a cholesteric layer 12 in a semi-cured state.例文帳に追加

そして、配向基板１３上に成膜された液晶層に所定の照射量の電子線または紫外線を照射して当該液晶層を３次元架橋して硬化させ、半硬化状態のコレステリック層１２を形成する。 - 特許庁

In an alignment calibration process of a lithographic apparatus that uses a sensor to detect the properties of a projected image at a substrate level, a diffuser is inserted into an illumination beam to increase the range of angles at which the radiated beam is incident on the substrate.例文帳に追加

基板レベルの投影像の特性をセンサによって検出するリソグラフィ装置のアライメントキャリブレーションプロセスにおいて、基板に入射する放射光の入射角範囲を広げるためのディフューザが照明ビームに挿入される。 - 特許庁

A beam is deflected toward two stop edges, a correction deflection field calculated, based on a necessary signal for obtaining quenching is given to a deflection part, and an automatic alignment is processed.例文帳に追加

ビームを絞りの２つのエッジに向けて偏向し、消光を得るために必要な信号から計算した補正偏向フィールドを偏向部に与えて自動アライメントを行なう。 - 特許庁

Then, an X-Y-θ table 4 is moved so that the welding starting position of the object 3 to be welded coincides with the laser beam spot 13; thereby weld line detection and alignment are performed.例文帳に追加

次に、被溶接物３の溶接開始位置とレーザビームスポット１３とが一致するように、Ｘ−Ｙ−θテーブル４を移動し、溶接線検出及び位置合せを行なう。 - 特許庁

The second element of the SDSF tuning mechanism is an intracavity spatial filter which makes the round trip cavity loss a sensitive function of both beam distortion and cavity alignment.例文帳に追加

ＳＤＳＦ同調装置の第２の要素は、往復キャビティ損失をビーム歪およびキャビティ整合に感受性を有する関数にするキャビティ内空間フィルタである。 - 特許庁

To enable the axial center of a cavity to be easily, quickly, and efficiently aligned with the optical axis of a laser beam and enhanced in alignment accuracy.例文帳に追加

キャビティ軸心のレーザ光の光軸に対する調整を容易且つ迅速に能率良く行い得るようにすると共に、高い調整精度を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer, a method capable of forming an alignment mark in an optional position in the depth direction of the semiconductor wafer by laser beam machining.例文帳に追加

レーザ加工によって半導体ウェーハの深さ方向の任意の位置にアライメントマークを形成することが可能な半導体ウェーハの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The external measurement devices provide corrective alignment feedback to more precisely register the patient and align them with a feed axis of radiation beam.例文帳に追加

外部測定装置は、より精度を高く患者を位置照合し、それらを放射線ビームの供給軸と位置合わせするための補正位置決めフィードバックを提供する。 - 特許庁

Subsequently, a beam PB' is adjusted to pass the center C of the second stage lens 19 using an alignment function having a deflection fulcrum P1 on the major surface of the first stage lens 15.例文帳に追加

その後、一段目のレンズ１５の主面に偏向支点Ｐ１を持つアライメント機能を用いて、ビームＰＢ´が二段目のレンズ１９の中心Ｃを通るように調整する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge device in which alignment accuracy between a striking position of a droplet and an irradiation position of a laser beam is improved and a shape controlling property of a pattern is improved.例文帳に追加

液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させた液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide charged particle beams by which parallel irradiation of multibeams can be attained and beam alignment can be efficiently performed by an array of reduced distortion in a multibeam type exposure apparatus.例文帳に追加

マルチビーム型露光装置において、マルチビームを平行に照射し、歪が少ない配列で、ビームアライメントを効率よく行なうことができる荷電粒子ビームを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing optical element capable of proper alignment in marking a pattern of a diffraction grating by means of an electron beam lithographic device.例文帳に追加

電子ビーム露光装置を用いて回折格子のためのパターンを描画する際に良好なアライメントが可能になる半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁

An analyzing position is specified by irradiating the surface of the sample with a laser beam, in alignment with the optical axis of secondary ions and observing the position of the laser spot generated on the surface of the sample.例文帳に追加

二次イオンの光軸に一致させて試料表面にレーザ光を照射させ、試料表面に生じたレーザスポットの位置を観察することで分析位置を特定する。 - 特許庁

A scanning signal of large dynamic range (a scanning signal of large amplitude) of a scanning power supply is supplied to electron gun alignment deflection coils 10 and 11 to scan electron beam.例文帳に追加

電子銃アライメント偏向コイル１０，１１には走査電源の大きなダイナミックレンジの走査信号（大きな振幅の走査信号）が供給され、電子ビームの走査が行われる。 - 特許庁

To provide a method for converging a laser light beam, which facilitates alignment of light receiving end faces of optical fibers or the like and excels in converging efficiency into an optical fiber for example.例文帳に追加

光ファイバ等の受光端面の位置合わせが容易であり、光ファイバ等への集光効率の良好なレーザ光ビームの集光方式を提供する。 - 特許庁

The element can be manufactured by aligning the Er atoms to the position among the lattices of the GaAs crystal through the epitaxial growth with simultaneous control of the evaporation velocity of the molecular beam source and expitaxial growth temperature on the GaAs substrate 2 of the (001) alignment or on the epitaxial growth layer of the (001) alignment using the Ga atoms, As atoms and Er atoms as the molecular beam sources.例文帳に追加

Ｇａ原子、Ａｓ原子及びＥｒ原子を分子線源とし、（００１）面方位ＧａＡｓ基板２上、または（００１）面方位エピタキシャル成長層上に、分子線源の蒸発速度と、エピタキシャル成長温度とを同時に制御してエピタキシャル成長し、Ｅｒ原子をＧａＡｓ結晶の格子間位置に配位させることにより製作できる。 - 特許庁

In the manufacturing method of a light-emitting element to carry out transcription from the donor substrate 02 using an energy beam 06, the alignment mark 01 is formed by irradiating the energy beam 06 to the donor substrate 02 or the transcribed substrate, and positioning of the donor substrate 02 and the transcribed substrate is carried out by detecting this alignment mark 01, thereby the transcription is carried out.例文帳に追加

エネルギービーム０６を用いてドナー基板０２から転写を行う発光素子の製造方法において、ドナー基板０２もしくは被転写基板に、エネルギービーム０６を照射することでアライメントマーク０１を形成し、このアライメントマーク０１を検知することでドナー基板０２と被転写基板の位置合わせを行い、転写を行う。 - 特許庁

An exposure device 101 of the present invention comprises: a light source; a photomask 200 having an alignment mark for alignment with a substrate 501; a conveyance mechanism for relatively moving a substrate 502 and the photomask 200; a laser irradiation device for irradiating a part of a photoresist with a laser beam; and an alignment mechanism for aligning the photomask 200 with the substrate 501.例文帳に追加

本発明の露光装置１０１は、光源と、基板５０１との位置合わせのためのアライメントマークを有するフォトマスク２００と、基板５０２とフォトマスク２００とを相対的に移動する搬送機構と、フォトレジストの一部にレーザーを照射するレーザー照射装置と、フォトマスク２００と、基板５０１との位置合わせを行う位置合わせ機構とを備える。 - 特許庁