| 意味 | 例文 |
Beam Alignmentの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 289件
METHOD FOR DETECTING MARK FOR ALIGNMENT IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線露光装置における位置合わせ用マークの検出方法 - 特許庁
To provide ion beam irradiation equipment with which uniform alignment treatment is conducted in alignment treatment with ion beam irradiation.例文帳に追加
本発明の目的は、イオンビーム照射により配向処理をおこなう際に、均一な配向処理ができるイオンビーム照射装置を提供することにある。 - 特許庁
Then the substrate is irradiated with an ion beam under a vacuum and the alignment processing is performed.例文帳に追加
その後、真空中で基板へイオンビームを照射して、配向処理する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR ALIGNMENT ADJUSTMENT, AND LASER BEAM MACHINING APPARATUS EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加
アライメント調整方法及び装置、及びそれを備えたレーザー加工装置 - 特許庁
POLARIZATION BEAM SPLITTER AND POLARIZED LIGHT IRRADIATION DEVICE FOR OPTICAL ALIGNMENT OF ALIGNMENT LAYER OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
偏光ビームスプリッタおよびそれを用いた液晶表示素子の配向膜光配向用偏光光照射装置 - 特許庁
(c) On the basis of this alignment information, laser beam irradiation is performed at the incident position corresponding to the detected alignment mark.例文帳に追加
(c)この位置合わせ情報に基づき、検出されたアライメントマークに対応する被入射位置にレーザ入射を行う。 - 特許庁
To calculate the alignment beam angle of the alignment system of a lithography apparatus, two alignment mark positions are measured, and the two alignment marks are formed on a measuring substrate, or arranged on a substrate table of the lithography apparatus.例文帳に追加
リソグラフィ装置のアライメントシステムのアライメントビームの角度の算出は、2つのアライメントマークの位置を計測し該2つのアライメントマークを計測基板上に形成するか、リソグラフィ装置の基板テーブルに配置する。 - 特許庁
The appropriate optical elements are arranged directly in the projection beam path or the alignment beam path as a final element of the projection system or the projection alignment system.例文帳に追加
適切な光エレメントが、それぞれ投影システム若しくは投影位置合せシステムの最終エレメントとして投影ビーム若しくは位置合せビームの光路に直接配置される。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure apparatus capable of effectively performing beam alignment in a multibeam formation part.例文帳に追加
マルチビーム形成部でのビームアライメントを効率よく行うことを可能にする荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
If an alignment mark on a substrate is at a focal length different from that of the front surface of the substrate, the optical element is adjusted to focus the alignment beam on the alignment mark on the substrate.例文帳に追加
該光学素子は、基板のアライメントマークが基板の前表面と異なる焦点距離にあるとき、アライメントビームの焦点を基板のアライメントマークに合わせるようにする。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method to make the alignment direction of a liquid crystal alignment layer uniform when the alignment layer is formed by ion beam irradiation.例文帳に追加
本発明の目的は、イオンビーム照射による液晶配向層を形成するときに、配向層の配向方向を均一にする装置および方法を提供することにある。 - 特許庁
The device evaluation element is provided with an alignment mark for performing alignment by means of an electron beam or light, and a semiconductor device evaluation element having an electron beam receiving region is arranged at a position separated by a predetermined distance from the alignment mark.例文帳に追加
電子ビームあるいは光によって位置合わせを行うアライメントマークを備え、該アライメントマークから特定距離離れた位置に電子ビーム受容領域を備えた半導体デバイス評価素子を配置する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNMENT AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
荷電粒子ビーム露光方法、荷電粒子ビーム露光装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁
Subsequently the alignment film forming layer 20' on the TFT substrate 2 is irradiated with a laser beam.例文帳に追加
次に、レーザ光をTFT基板2上の配向膜形成層20’に照射する。 - 特許庁
The equipment for beam wafer alignment is composed of a laser and a sensor mounted on a scanning magnet.例文帳に追加
ビーム/ウェハアラインメント装置は、走査マグネットに取付けられているレーザとセンサとを有する。 - 特許庁
METHOD FOR ALIGNMENT PROCESSING OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL BY ION BEAM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL例文帳に追加
イオンビームによる液晶表示パネルの配向処理方法及び液晶表示パネル - 特許庁
To suppress the generation of display irregularity by preventing charge irregularity in the alignment of an ion beam.例文帳に追加
イオンビーム配向時における帯電ムラを防止して表示ムラの発生を抑制する。 - 特許庁
An alignment optical system composed of a light-radiating unit 6 and a position detection sensor unit 12 enables the alignment light source 13 of the light-radiating unit 6 to emit a laser beam as an alignment beam, and the laser beam projected from the light-radiating unit 6 is condensed and collimated by a collimation lens 14, which is separated into two beams by a beam splitter 15.例文帳に追加
光照射ユニット6と位置検出センサユニット12からなるアライメント光学系は、光照射ユニット6のアライメント光源13からレーザ光をアライメントビームとして発光させ、この光照射ユニット6から発散するレーザ光をコリメーションレンズ14で集光・平行化し、ビームスプリッタ15で2本に分離する。 - 特許庁
To provide a charged beam lithography apparatus and method that improves alignment accuracy in the charged beam lithography apparatus having a plurality of charged beam optical systems.例文帳に追加
複数の荷電ビーム光学系を有する荷電ビーム露光装置において、アライメント精度を向上することが可能な荷電ビーム露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide a simple and mechanically stable alignment apparatus in order to minimize an angle error of a partial beam obtained by deflecting a primary laser beam by a beam splitter.例文帳に追加
ビームスプリッタにより一次レーザービームを偏向させて得られた部分ビームの角度誤差を最小化するため、簡便で機械的に安定した調整装置を提案することにある。 - 特許庁
This alignment system comprises a light source 20, a beam transmission unit 30, a projection lens 60, an alignment detector 80, a controller and an alarm unit.例文帳に追加
この整列システムは光源20、ビーム伝達部30、投影レンズ60、整列検出装置80、制御装置及び警報装置で構成される。 - 特許庁
When alignment is performed using an electron beam in the test, the acceleration voltage of the electron beam in the electron beam alignment and the acceleration voltage in the pattern test can be set at different voltages.例文帳に追加
また、この検査において、電子線を用いたアライメントを行う際には、電子線アライメントにおける電子線の加速電圧と、パターン検査における電子線の加速電圧とを、異なる電圧に設定することができるようにする。 - 特許庁
(2) First, the alignment coil is used to adjust the electron beam so that it will be incident on the center of the lens.例文帳に追加
まず、アライメントコイルを用いて、電子ビームがレンズ中心に入射するように調整する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam drawing method which is suitable, for example, when self-alignment is employed.例文帳に追加
例えばセルフアライメントを採用する上で好適となる荷電粒子線描画方法を提供する。 - 特許庁
To provide a firmer, simpler and cheaper method for deflecting a diffracted alignment beam.例文帳に追加
回折アライメントビームを偏向させるためのより強固で、簡単かつ安価な方法を提供する。 - 特許庁
The diffraction beam decomposed into a spectrum and an angle is associated with an alignment for overlay features.例文帳に追加
スペクトル的、または角度的に分解された回折ビームは、オーバーレイ・フィーチャのアライメントと関連する。 - 特許庁
The reduced power beam is brought into the state of test alignment so as to form a beam spot on the coupling face of the optical waveguide.例文帳に追加
減パワービームは、それが導波路の結合面においてビームスポットを形成するようなテスト位置合わせ状態に、位置合わせされる。 - 特許庁
The ion beam 28 is reflected between a thin film 26 being an alignment layer on the substrate and the reflective surface 34 of the mask 20, and the alignment layer is formed by the ion beam with which the thin film 26 is finally irradiated.例文帳に追加
配向層となる基板上の薄膜26とマスク20の反射面34との間でイオンビーム28を反射させ、最終的に薄膜26に照射されたイオンビームにより配向層を形成する。 - 特許庁
The input optical fiber (202) in each alignment channel and the output optical fiber (204) are dedicated to propagate an alignment optical beam (118) through the optical switch (200).例文帳に追加
各アライメントチャネル内の入力光ファイバ(202)と出力光ファイバ(204)とが光スイッチ(200)を通してアライメント光ビーム(118)を伝搬するための専用のものとされている。 - 特許庁
The alignment film is scanned in a second direction with the atomic beam traveling from above the alignment film to a second region to form a second domain in the second region.例文帳に追加
配向膜の上部から第2領域に向かう原子ビームを配向膜に対して第2方向にスキャンニングして第2領域に第2ドメインを形成する。 - 特許庁
At first, a beam PB is adjusted to pass the center C of the first stage lens 15 using an alignment function having a deflection fulcrum P2 on the surface 10 of an object out of alignment functions of the alignment coils 50.例文帳に追加
まず、アライメントコイル50のアライメント機能の内、物面上10に偏向支点P2を持つアライメント機能を用いて、ビームPBが一段目のレンズ15の中心Cを通るように調整する。 - 特許庁
thus, even if a position correcting electron beam is in irradiated to the alignment mark 82 to correct the position in the next electron beam lithographic process, the electrons e of the beam do not stay at the alignment mark 82, but will flow into the multi-layer film 42a.例文帳に追加
したがって、次工程の電子ビームリソグラフィにおける描画位置を補正するためにアライメントマーク82に位置補正用電子ビームを照射しても、当該電子ビームの電荷eはアライメントマーク82に滞留することなく多層膜42aに流れ込む。 - 特許庁
To obtain a method of axial alignment for an optical system in an electron beam exposure system which uses a large dimension beam and a scattering type mask.例文帳に追加
大寸法ビーム及び散乱タイプのマスクを使用する電子ビーム露光装置において、光学系の軸合わせを行う方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laser equipment for beam line alignment that can align a plurality of beam lines by means of a single laser source.例文帳に追加
1つのレーザ光源を用いて複数のビームラインのアライメントの調整を行うことができるビームラインアライメント調整用レーザ装置を提供する。 - 特許庁
The shift is used for calculation for the alignment beam angle, and the verification method for the FTBA error is improved by the angle.例文帳に追加
該シフトはアライメントビームの角度の算出に使用され、この角度でFTBAエラーの検証方法を改善する。 - 特許庁
An alignment sensor comprises a spatial coherent radiation source which supplies radiation beam to an angle-resolved skiatrometer.例文帳に追加
アライメントセンサは、放射ビームを角度分解スキャトロメータに供給する空間干渉性放射源を含む。 - 特許庁
In such a case, a pattern which also can be observed by the ion beam defect correcting device is selected as the pattern of alignment.例文帳に追加
このとき、位置あわせのパターンはイオンビーム欠陥修正装置でも観察可能なものを選んでおく。 - 特許庁
Another mask layer is formed on the alignment material layer which has been treated by the particle beam to expose the alignment material layer not treated by the particle beam.例文帳に追加
さらに、粒子ビーム配向処理によって処理されていない配向膜形成層の一部分を露出させるように、粒子ビーム配向処理によって処理された配向膜形成層の一部分に別のマスク層を形成する。 - 特許庁
When adjusting the position of a mobile terminal 30, an optical transmitter 10 irradiates an optical-axis alignment light in a wide beam angle through an optical beam diameter controller 20.例文帳に追加
光送信装置10は、携帯端末30の位置調整時には、光ビーム径制御装置20により広ビーム角の光軸調整光を出射する。 - 特許庁
To attain an aligning apparatus that facilitates alignment even when receiving beams emitted from a plurality of beam emitting means with a plurality of beam receiving means.例文帳に追加
複数のビーム出射手段から出射したビームを複数の受光手段で受光するに際しても調芯が容易な調芯装置を実現する。 - 特許庁
To provide a laser beam machine capable of realizing an improvement in workability and high-accuracy alignment relating to observation of workpiece processing accuracy of a laser beam machine.例文帳に追加
レーザ加工機においてワーク加工精度の観察に関する作業性の向上及び高精度位置合わせを実現し得るレーザ加工機を提供する。 - 特許庁
By setting an image as a detection result on the center of a visual field in a display mechanism, a beam alignment condition permitting detection of the beam is derived.例文帳に追加
検出結果を表示機構において、像を視野中心に設定することにより、ビーム検出を可能とするビームアライメント条件を導出する。 - 特許庁
To provide a laser generator capable of instantaneously selecting a laser beam of a specific wavelength and facilitating the alignment of the optical axis of the laser beam with another optical apparatus.例文帳に追加
特定波長のレーザ光の選択を瞬時に行なえるようにすると共に、他の光学装置に対するレーザ光の光軸合わせを容易にする。 - 特許庁
A detector 22 detects the amount of liquid in the optical path of a projection beam PB or alignment beam and then a controller 21 determines optical elements necessary to focus the projection beam or alignment beam on the surface of a substrate from among a plurality of compensating optical elements 9, 10, 11, 12.例文帳に追加
検出器22によって投影ビームPB若しくは位置合せビームの光路内の液体の量が検出され、次にコントローラ21によって、複数の補償光エレメント9,10,11,12の中から、投影ビーム若しくは位置合せビームを基板の表面に集束させるために必要な光エレメントが決定される。 - 特許庁
A lithographic projection apparatus has an alignment sensor comprising an electron beam supply source 10 for supplying an electron beam 12 for impinging on an alignment mark 14 on a substrate W, and a back- scattered electron detector 16 for detecting electrons being back-scattered from the alignment marker 14.例文帳に追加
リソグラフィ投影装置は、基板W上のアライメント・マーク14に当たる電子ビーム12を供給するための電子ビーム供給源10、およびアライメント・マーク14から後方散乱された電子を検出するための後方散乱電子検出器16を備えるアライメント・センサを備える。 - 特許庁
Although the first axis alignment of an electron beam is carried out by this action, if an image is still dim after this axis alignment, the power source 16 is readjusted.例文帳に追加
この動作によって最初の電子ビームの軸合わせが行われるが、この軸合わせによっても像がぼけているような場合、電源16が再調整される。 - 特許庁
Also, the alignment mechanism has a structure so that the position of the focal point of the beam as the alignment standard irradiated to the optical axis is variable on the optical axis.例文帳に追加
光軸上に照射されたアライメントの基準となる光線の焦点の位置を、光軸上で可変にできるように構成したことを特徴とするアライメント機構。 - 特許庁
Reticle alignment marks 55 are arranged respectively at top and bottom ends of small field (SF) rows of a stripe 21 and the alignment of the reticle is carried out on the reference electron beam trajectory in a state in which RS is kept stationary.例文帳に追加
レチクルアライメントマーク55をストライプ21の上下端のSF行に配列し、RSを静止させた状態で基準電子ビーム軌道でレチクルのアライメントを行う。 - 特許庁
To efficiently perform alignment of an optical fiber with a multiplexed beam producing means, in a laser module assembling device.例文帳に追加
レーザモジュールの組立装置において、合波ビーム生成手段と光ファイバとの調芯を効率よく実施する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|