「Beam Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an interference optical system for measuring wave fronts, capable of obtaining interference light carrying wave front information of an inspected beam, even when the inspected beam is a beam of low interference, that is less likely to be affected by vibration or the like, and capable of easily regulating the alignment, and to provide an interferometer provided therewith.例文帳に追加

被検光束が低可干渉光束である場合でも、被検光束の波面情報を担持した干渉光を得ることが可能であり、かつ振動等の影響を受け難くアライメントも容易に調整し得る波面測定用干渉光学系、およびこれを備えた波面測定用干渉計装置を得る。 - 特許庁

Contact plane 31A and 32A of the panel 31 and the funnel 32 are arranged in alignment, and an emitting optical system (a second head 12) of a laser beam is inserted into a tube from an opening 33A of a neck part 33.例文帳に追加

パネル３１とファンネル３２の接合面３１Ａ、３２Ａを一致させて配置し、ネック部３３の開口３３Ａから管内にレーザ光の出射光学系（第２ヘッド１２）を挿入する。 - 特許庁

To provide a laser device which has a simple structure, is easily kept high in alignment accuracy when it switches from one wavelength to another, and is capable of efficiently projecting a laser beam of different wavelengths.例文帳に追加

簡略な構成で波長切換え時のアライメント精度の確保をさらに容易にし、効率良く複数の異なる波長のレーザ光を出射可能なレーザ装置を提供する。 - 特許庁

After that, both right and left alignment can be made by holding the H-shaped steel beam 1 from both sides of a pair of holding members 5 and 5 in a screw tightening state by a screw tightening mechanism 6.例文帳に追加

しかる後、ネジ締め機構６によりＨ形鋼梁１を対の挟持材５，５で両側方から挟み込んでネジ締め状態にすることによって左右方向の位置合わせを行う。 - 特許庁

To provide a bend mirror mechanism for laser beam machine in which reproducibility in alignment before and after attaching/detaching a mirror is gualanteed without needing any tool in the case of attaching/detaching the mirror and the mirror is easily cleaned.例文帳に追加

ミラーの着脱時に工具を必要とせず、着脱前後のアラインメントの再現性が保証されかつミラーの清掃が容易なレーザ加工装置のベンドミラー機構の提供。 - 特許庁

The interference of light and the negation of the light in the multilayered films are prevented at the time of position detection of the alignment marks 1 using a laser beam by the presence of the dot marks 11 of the upper layer.例文帳に追加

この上層のドットマーク２１の存在により、レーザー光を用いるアライメントマーク１の位置検出の際、多層膜での光の干渉や光の打ち消しが防止される。 - 特許庁

An alignment mark M for performing pattern formation by irradiating electron beam is formed so as not to penetrate an active Si layer 53 to prevent charge-up in a box layer 52.例文帳に追加

電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 - 特許庁

To realize a laser processing which is excellent in mass production and is highly precise by providing an optimum alignment method in laser irradiation in which an object is irradiated with a rectangular-shaped laser beam.例文帳に追加

ストライプ形状のレーザー光を照射するレーザー照射において、最適なアライメントの方法を提供することによって、量産性に優れ、高い精度のレーザー処理を実現する。 - 特許庁

To provide an ion implanter which is capable of a proper alignment of a beam for scanning a wafer into which ion is implanted and has an equipment for positioning.例文帳に追加

イオン注入をしようとするウェハに対して走査されたビームを適正に芯合わせし、かつ位置決めをするための装備を有するインプランタ（注入装置）を提供することを目的とする。 - 特許庁

In an optoelectronic assembly 10 in which one or more beam paths 24 are to be aligned with a corresponding number of active optical elements, the cooperation between flexible alignment features 38 and fixed alignment features 36 achieves elastic averaging so as to provide the target accuracy.例文帳に追加

１つまたは複数のビーム路２４が、これと対応する数の能動光学素子とアライメントされる光電子アセンブリ１０において、柔軟なアライメント形状３８と固定したアライメント形状３６との間の協働により目標精度を提供するように、弾性平均が達成される。 - 特許庁

For use, the marker structure enables optical alignment by providing at least one light beam directed on the marker structure, detecting light received from the marker structure via a sensor, and obtaining alignment information from the detected light, the alignment information including information relating a substrate position to the sensor.例文帳に追加

使用に際して、前記マーカ構造は、前記マーカ構造上に向けられる少なくとも１本の光ビームを提供すること、前記マーカ構造から受け取った光をセンサで検出すること、および前記基板の位置を前記センサに関連づける情報を含む位置合わせ情報を前記検出光から求めることに基づいて前記光学的位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

In using the marker structure, the optical alignment is performed by; providing at least one light beam directed to the marker structure; detecting the light received from the marker structure by a sensor; and determining alignment information from the detected light, wherein the alignment information includes information relating a position of the substrate to the sensor.例文帳に追加

使用に際して、前記マーカ構造は、 前記マーカ構造上に向けられる少なくとも１本の光ビームを提供すること、 前記マーカ構造から受け取った光をセンサで検出すること、および 前記基板の位置を前記センサに関連づける情報を含む位置合わせ情報を前記検出光から求めることに基づいて前記光学的位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

To provide a laser beam source device with which the position of each optical axis of a plurality of semiconductor laser chips can easily be controlled and a passive alignment can be performed even if an electric probe does not abut on semiconductor laser chips, and to provide an optical path control method for the laser beam source device and an optical head device using the laser beam source device.例文帳に追加

複数の半導体レーザチップの各光軸位置を容易に調整することができ、さらには、半導体レーザチップに電気プローブを当てなくてもパッシブアライメントを行うことのできるレーザ光源装置、このレーザ光源装置における光路調整方法、およびこのレーザ光源装置を用いた光ヘッド装置を提供すること。 - 特許庁

The method includes bringing the imprint template alignment grating 24 and the substrate alignment grating 23 sufficiently close together such that they form a composite grating, guiding an alignment radiation beam to the composite grating while modulating the relative position of the imprint template 21 and the substrate 20, detecting a luminous intensity of alignment radiation which is reflected from the composite grating, and determining the offset by analyzing the modulation of the detected luminous intensity.例文帳に追加

この方法は、前記インプリントテンプレートアライメント格子２４および前記基板アライメント格子２３を、複合格子を形成するべく十分に近づけることと、前記インプリントテンプレート２１および前記基板２０の相対位置を変調させる間に前記複合格子にアライメント放射ビームを誘導することと、前記複合格子から反射されたアライメント放射の光度を検出することと、前記検出された光度の変調を分析することにより前記オフセットを特定することと、を含む。 - 特許庁

To provide an optical system and a laser beam machining apparatus that can fully make use of effect of a laser oscillator, that can arbitrarily set an inter-beam distance of multi-beams, and that facilitates optical axis alignment as well as easily changing machining conditions for each workpiece.例文帳に追加

レーザ発振器の効力を十分に活用でき、しかもマルチビームのビーム間距離を任意に設定可能であると共に、光軸調整が容易で、かつ加工条件を被加工物毎に簡単に切り替えることができる光学系及びレーザ加工装置を提供できる。 - 特許庁

The optical switch comprises a mirror unit 2, having a mirror 14 for switching the optical path of a light beam by reflecting the light beam and a spring 15 for moving, positioning and holding the mirror 14 and an actuator unit 3, having an actuator 21 connected in alignment to the mirror unit 2 to move the mirror 14 in the vertical direction.例文帳に追加

光ビームを反射することにより光ビームの光路を切り替えるミラー１４とミラー１４を移動及び位置保持するバネ１５とを有するミラーユニット２と、ミラーユニット２にアライメント接続され、ミラー１４を上下方向に駆動するアクチュエータ２１を有するアクチュエータユニット３とを備える。 - 特許庁

When the table WTB is positioned in a second region including the detection center ALa of an alignment system ALG, a measurement light beam Ly2_2 is made incident on the grating from a light source 16Ya_2, and an optical detector 16Yb_2 received a diffracted light beam Ly2_2 to measure position information.例文帳に追加

テーブルＷＴＢがアライメント系ＡＬＧの検出中心を含む第２領域内に位置する際には、光源１６Ｙａ_２から計測光Ｌｙ２_２をグレーティングに入射させ、回折光Ｌｙ２_２を光検出器１６Ｙｂ_２を用いて受光して位置情報を計測する。 - 特許庁

Since the ND filter 23 absorbs laser beam and decreases the amount of transmitted light, to attain a safety class of 1, an operator can manually move a test piece 1, while observing an irradiated point P of the laser beam on the test piece 1, for accurate alignment on a predetermined position.例文帳に追加

ＮＤフィルタ２３はレーザービームを吸収し透過光量を減少させて安全クラスを１にするので、作業者は試料１上に照射されているレーザービームの照射ポイントＰを観察しながら試料１を手作業で移動させて所定の位置へ正確に位置決めすることができる。 - 特許庁

In exposing the alignment mark 9 covered with a build-up insulation layer 6, a laser beam is prevented from proceeding at least in a formation position of the barrier layer 50, so that there is no possibility of over-boring.例文帳に追加

ビルドアップ絶縁層６に覆われたアライメントマーク９を露出させる際には、少なくとも、バリア層５０の形成位置においてレーザビームの進行が阻止されるので、掘削しすぎる恐れはない。 - 特許庁

Since accurate alignment can be executed by the reflection-type pattern transfer device, the transfer device of high throughput can be provided through the use of a mask for the charged particle beam exposure of the reflection type.例文帳に追加

本発明によれば、反射型のパターン転写装置で高精度なアライメントが行なえるようになるため、反射型の荷電粒子ビーム露光用のマスクを使って高スループットの転写装置を提供できる。 - 特許庁

Beam alignment in the multibeam formation part is performed to obtain a desired number multibeam image, by operating and adjusting an angle adjusting mechanism and an image rotation adjusting mechanism in the multibeam formation part.例文帳に追加

マルチビーム形成部内の角度調整機構および像回転調整機構を操作して所望の数のマルチビーム像になるように調整することで、マルチビーム形成部内のビームアライメントを行う。 - 特許庁

To realize a stage mechanism for a laser beam machining apparatus with high positioning accuracy in machining an alignment mark or the like by a direct laser lithography or a direct laser machining on a glass substrate for a large display unit.例文帳に追加

大型ディスプレイ用のガラス基板にレーザ直接描画またはレーザ直接加工によりアライメントマークなどを加工するために、高い位置決め精度のレーザ加工装置用ステージ機構を実現する。 - 特許庁

To provide a substrate cover having an antistatic function and achieving position detection of a substrate edge and alignment of the substrate in a mounted state on the substrate, and to provide a charged particle beam drawing method using the same.例文帳に追加

帯電防止機能を有し、基板に載置されたままで基板エッジの位置検出と基板のアライメントを可能にする基板カバーと、それを用いた荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.例文帳に追加

放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁

Since the solid-state image sensors can be handled as one solid-state imaging device, alignment of the solid-state image sensor is facilitated and attachment to a product is also facilitated, as compared with the case of employing a conventional beam splitter.例文帳に追加

このように、従来のようにビームスプリッタを用いた場合に比べて、１個の固体撮像装置として取り扱えるため、固体撮像素子の位置合わせが容易で製品への組み込みも容易になる。 - 特許庁

Furthermore, the apparatus includes an actuator 14 that introduces a reticle or the substrate into a conditioned chamber 20, and an alignment system 8 which matches the reticle or the substrate with the patterned and projected beam of radiation.例文帳に追加

さらに本装置は、レチクルまたは基板を調整室２０に導入するアクチュエータ１４と、レチクルまたは基板をパターン付与された放射投影ビームに整合させる位置合わせ装置８とを含む。 - 特許庁

To provide a device to inspect, prior to implanting ions, the angle of wafer ion-implanted on the holder and movable Faraday alignment in the implantation chamber, to control the ion beam.例文帳に追加

イオン注入に先立って、イオンビームを調整するために用いられる、ホルダ上のイオン注入されるウェハの角度と、注入室内の移動ファラデーのアラインメントとを検査するための装置を提供する。 - 特許庁

This semiconductor element manufacturing system is equipped with a stepper 300 for performing alignment on a wafer by using laser beams while stepping the wafer at predetermined intervals, and an electron beam alignment 100 for performing alignment on the wafer by irradiating the wafer with a plurality of electron beams at intervals substantially N times (N is a natural number) or 1/N times as long as the predetermined interval.例文帳に追加

ウェハを所定の間隔でステップさせながら、レーザ光を用いて前記ウェハに露光処理を行うステッパ３００と、複数の電子ビームを当該所定の間隔の実質的にＮ倍（Ｎは自然数）、又は１／Ｎ倍の間隔を隔ててウェハに照射することにより、ウェハに露光処理を行う電子ビーム露光装置１００とを備えることを特徴とする半導体素子製造システムを提供する。 - 特許庁

This laser machining apparatus 1 comprises a light source 2 for emitting a linearly polarized pulse laser beam L, a beam branch element 6 for branching the pulse laser beam L emitted from the light source 2 into a plurality of beams LBs, and a stage 8 for relatively moving a workpiece 10 to be irradiated with the branch laser beams LBs along the alignment direction of the branch beams LBs.例文帳に追加

本実施形態に係るレーザ加工装置１は、直線偏光のパルスレーザビームＬを出射する光源２と、光源２から出射されたパルスレーザビームＬを複数本のビームＬＢに分岐するビーム分岐素子６と、分岐ビームＬＢの配列方向に沿って、分岐ビームＬＢが照射されるべき被加工体１０を相対的に移動させるステージ８と、を有する。 - 特許庁

Almost every space intensity distribution in the cross section can be produced by determining the region of the section 16 on which the sub beam is incident by adjusting the alignment of the reflection elements 14a and 14e.例文帳に追加

反射素子１４ａないし１４ｅの配向を調整してサブビームが入射する面１６の領域を決定することにより、該断面におけるほとんどすべての空間強度分布を生成することができる。 - 特許庁

To provide a polarization beam splitter adequate for application to a polarized light irradiation device for optical alignment of a liquid crystal display element without the deterioration of transmittance with lapse of time by light of 200 to 340 nm in wavelength.例文帳に追加

２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長の光によっても透過率が経時劣化しない液晶表示素子の光配向用偏光光照射装置に適用するに好適な偏光ビームスプリッタを提供すること。 - 特許庁

The lock mechanism includes one or more heaters 54 and 56 and meltable materials 58 and 60, which are heated during the one-time alignment procedure and cooled when target relative position between the beam and lens is achieved.例文帳に追加

ロック機構は、１つ以上の加熱器54,56と融解性材料58,60を含み、その融解性材料は、ワンタイムアライメント手順中に加熱され、ビームとレンズとの間の目標相対位置が達成された際に冷却される。 - 特許庁

To carry out axis alignment so as an optical axis of an electron beam to pass through centers of a condenser lens and an objective lens, respectively, in case of structuring a covergent lens using condenser lenses in two stages with relative positions fixed.例文帳に追加

相対位置が固定された二段のコンデンサレンズから収束レンズが構成される場合に、各コンデンサレンズと対物レンズのそれぞれの中心に電子ビームの光軸が通るように軸合わせを行うことを可能とする。 - 特許庁

Thus, the errors in the vertical alignment of the mirrors 7, 9 and 12 and the errors in the mirrors 8, 10 and 11 are canceled, the beam emitted from optical fibers 3 and 5 is made incident to optical fibers 4 and 6 while the optical axis is almost kept in parallel.例文帳に追加

これによって、ミラー７，９，１２とミラー８，１０，１１の垂直度誤差が相殺されて、光ファイバ３，５から出射されるビームは、ほとんど光軸が平行に保たれたまま、光ファイバ４，６に入射する。 - 特許庁

After TFT unit cells and color filter unit cells are formed on a substrate through a thin-film manufacturing process, an alignment film is formed in a non-contact state by using a DLC thin film and an atom beam.例文帳に追加

薄膜製造工程を通じて基板にTFTユニットセル及びカラーフィルタユニットセルを形成した後、ＴＦＴユニットセル及びカラーフィルタユニットセルにＤＬＣ薄膜及び原子ビームを用いて非接触で配向膜を形成する。 - 特許庁

To provide a portable power circular saw having such a mechanism as to allow simple and accurate alignment of the cutting position of a work to be cut with a laser beam in a line form indicating the tip position of the saw blade.例文帳に追加

本発明は、携帯用電気丸鋸において被切断材の切断位置と、鋸刃の刃先位置を示すライン状のレーザ光線の位置合わせを簡便かつ正確にできる機構を提供するものである。 - 特許庁

To provide a wavelength conversion device which dispenses with precise alignment for making fundamental harmonics incident on a wavelength conversion element, and which realizes turning into parallel beam and diffraction-limited focusing and further converts a wavelength with high efficiency.例文帳に追加

基本波を波長変換素子に入射するための精密な位置合わせが不要であり、平行ビーム化および回折限界の集光が可能で、且つ、波長の高効率変換が可能な波長変換装置の提供。 - 特許庁

The patterning step for applying an electron beam is provided with a correction step for changing a way of irradiation (irradiation quantity and position) of the electron beam in the respective areas where the structural body of a first wiring layer 1 forming a lower wiring structure exists, in consideration of the structural body on alignment in advance.例文帳に追加

電子線を照射するパターニング工程は、下層配線構造を形成する第一配線層１等の構造体の各々が露光に与える影響を予め考慮し、上記構造体の各々の存在領域それぞれについて、上記電子線の照射の仕方（照射量や照射位置等）を変える補正ステップを有する。 - 特許庁

In the laser exposure apparatus 100, alignment marks on a substrate material 102 mounted on an exposure stage 108 moving in the opposite direction to the scanning direction are read out by CCD cameras 124, 146, 128 mounted on a supporting gate 122, and then the drawing area the position of which is determined by the alignment mark is exposed to the laser beam from a laser scanner.例文帳に追加

レーザー露光装置１００では、走査方向とは反対の方向へ移動する露光ステージ１０８上に載置された基板材料１０２のアライメントマークを、支持ゲート１２２に搭載されたＣＣＤカメラ１２４，１２６，１２８により読み取った後、レーザースキャナからのレーザービームによりアライメントマークにより位置が判断された描画領域を露光する。 - 特許庁

The alignment processing is performed by forming nearly parallel beam of ultraviolet light emitted by a light source unit section into a long irradiation pattern through a light irradiation pattern control section comprising a plurality of total reflection mirrors and irradiating the alignment layer with the ultraviolet light having the converted irradiation pattern at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置部から出射された紫外線の略平行光を、複数の全反射ミラーによって構成された光照射パターン制御部を介して長尺形状の照射パターンに形成し、変換された照射パターンの紫外線を所定の角度を保って配向膜に照射することによって配向処理を施すようにした。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

This rotary walking beam conveying apparatus conveys the pipe in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the pipe from pipe receiving tables 7, 9 to elevating V-stands 12, 13 elevating in alignment with the center of processing machines 5, 6.例文帳に追加

回転式ウォーキングビーム搬送装置は、ウォーキングビーム８によりパイプ受け台７，９から、加工機５，６の芯に合わせて昇降可能な昇降式Ｖ台１２，１３まで、パイプの長手方向と直交する方向にパイプを搬送する。 - 特許庁

The light source and the optics produce an alignment beam with a first spot portion 24x, extending in a first direction parallel to the columns and a second spot portion 24y, extending in a second direction parallel to the rows.例文帳に追加

光源及び光学的要素は、列に平行な第１の方向に延在した第１のスポット部分２４ｘ、及び行に平行な第２の方向に延在した第２のスポット部分２４ｙを有した位置合わせビームを生成する。 - 特許庁

A laser beam LB is emitted onto a foundation from a vertical laser emission window, alignment with the center of a tenplate 7 is performed, and the laser is emitted, for instance, toward a light detection device 2 placed in other tenplates from the emission window 10.例文帳に追加

垂直レーザ射出窓１７からレーザビームを基礎上に照射し、添プレート７の中心と位置合わせを行い、前記射出窓１０から、例えば他の添プレート内に置いた光検出装置２に向けて、レーザを射出する。 - 特許庁

To provide a photomask having an alignment mark for a photomask where a scanning track by an electron beam does not remain as a defect in a phase shift mask comprising a multilayer film which requires a plurality of times of exposure steps, and to provide a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

複数回の露光工程を必要とする多層膜からなる位相シフトマスクにおいて電子ビームのスキャン跡が欠陥として残らないフォトマスク用アライメントマークを有するフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁